首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   63013篇
  免费   4562篇
  国内免费   2789篇
电工技术   3362篇
综合类   4678篇
化学工业   8468篇
金属工艺   3801篇
机械仪表   2922篇
建筑科学   8088篇
矿业工程   5966篇
能源动力   1781篇
轻工业   3563篇
水利工程   3167篇
石油天然气   3485篇
武器工业   691篇
无线电   7900篇
一般工业技术   4516篇
冶金工业   3827篇
原子能技术   725篇
自动化技术   3424篇
  2024年   352篇
  2023年   1598篇
  2022年   1730篇
  2021年   1954篇
  2020年   2232篇
  2019年   2249篇
  2018年   1081篇
  2017年   1840篇
  2016年   1991篇
  2015年   2391篇
  2014年   4296篇
  2013年   3270篇
  2012年   4062篇
  2011年   3778篇
  2010年   3467篇
  2009年   3494篇
  2008年   4600篇
  2007年   3558篇
  2006年   2800篇
  2005年   3105篇
  2004年   2449篇
  2003年   2007篇
  2002年   1604篇
  2001年   1474篇
  2000年   1257篇
  1999年   1043篇
  1998年   911篇
  1997年   873篇
  1996年   814篇
  1995年   702篇
  1994年   636篇
  1993年   534篇
  1992年   498篇
  1991年   423篇
  1990年   446篇
  1989年   432篇
  1988年   76篇
  1987年   65篇
  1986年   53篇
  1985年   55篇
  1984年   49篇
  1983年   40篇
  1982年   29篇
  1981年   18篇
  1980年   15篇
  1979年   4篇
  1965年   1篇
  1959年   3篇
  1957年   1篇
  1951年   4篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 171 毫秒
991.
为了提高微晶玻璃化学机械抛光(CMP)的材料去除速率(MRR),降低其表面粗糙度,利用自制的抛光液对微晶玻璃进行化学机械抛光,研究了4种含不同磨料(Si O2、Al2O3、Fe2O3、Ce O2)的抛光液对微晶玻璃化学机械抛光MRR和表面粗糙度的影响.利用纳米粒度仪检测抛光液中磨料的粒径分布和Zeta电位,利用原子力显微镜观察微晶玻璃抛光前后的表面形貌.实验结果表明,在相同条件下,采用Ce O2作为磨料进行化学机械抛光时可以获得最好的表面质量,抛光后材料的表面粗糙度Ra=0.4 nm,MRR=100.4 nm/min.进一步研究了抛光液中不同质量分数的Ce O2磨料对微晶玻璃化学机械抛光的影响,结果表明,当抛光液中Ce O2质量分数为7%时,最高MRR达到185 nm/min,表面粗糙度Ra=1.9 nm;而当抛光液中Ce O2质量分数为5%时,MRR=100.4 nm/min,表面粗糙度最低Ra=0.4 nm.Ce O2磨料抛光后的微晶玻璃能获得较低表面粗糙度和较高MRR.  相似文献   
992.
选取某市发达农村附近连续覆盖的基站作为研究对象,采用GSM 900M上行5 MHz频谱带宽作为GSM-HI的频谱带宽,从GSM-HI对GSM网络性能影响、室外组网性能、室外单站覆盖性能、室外基站覆盖室内、多用户同点/散点分布单扇区吞吐率、控制面/用户面时延几个方面的测试应用分析,证明GSM-HI所提供无线宽带接入能力,能够有效解决农村地区数据宽带接入的问题。  相似文献   
993.
(上接第2期)2专业知识2.1有线电视模拟前端系统2.1.1组成结构有线电视模拟前端如方框图图28所示。图28有线电视模拟前端方框图2.1.2设计计算:载噪比、输出电平、非线性失真对于全频道邻频前端,输入信号(节目源)分为视频V和音频A,需要计算视频载噪比和音频载噪比。一般都计算视频载噪比,只要保持正确的图像伴音电平比V/A,伴音载噪比就可以满足。视频图像载噪比C/N可以从视频信噪比S/N得出,对于PAL-D制式  相似文献   
994.
为了探究偏置状态迷宫密封的泄漏特性,使用ICEM CFD软件对迷宫密封水体模型进行结构化网格划分,并选择标准k-ε湍流模型,以不可压缩流体为工作介质对不同偏心率的迷宫密封进行了数值模拟计算,分析了不同间隙和压比对偏置迷宫密封泄漏特性的影响。结果表明:迷宫密封在偏心率不变的情况下,密封泄漏量随着节流间隙的增大而增加;密封泄漏量随着压比的增大而增加,且在高压比工况下,泄漏量随偏心率的变化更加明显。  相似文献   
995.
崔峰  王德超  朴成道 《机床与液压》2018,46(21):136-140
为了合理地优化车削参数,提出了低能耗、低粗糙度的车削参数优化方法。在CAK3665ni车床上对45钢进行了干车削试验,采集了不同工况下的功耗和工件表面粗糙度值。在建立功耗和粗糙度模型的基础上,以切削比能低、平均粗糙度小为目标,使用多目标遗传算法,优化了车削参数。试验表明,使用优化后的车削参数进行加工,可以有效减小切削能耗和表面粗糙度。  相似文献   
996.
在不同的挤压温度和挤压比下,将AZ31B镁合金机加屑冷压后热挤压固结而再生镁合金。与铸锭挤压合金对比,从动态再结晶组织与屑间结合情况两个主要方面分析了加工工艺对再生合金力学性能的影响。随着挤压温度升高,再生合金的极限抗拉强度和延伸率先增加而后降低。随挤压温度升高,晶粒长大与屑间结合增强的相反作用共同导致了再生合金力学性能的变化。当挤压比从4:1 增加到 44:1,晶粒细化且屑间结合增强,使再生合金的抗拉强度增加。而当挤压比高于25:1时,由于显著的形变强化作用导致延伸率下降。  相似文献   
997.
本文研究了不同挤压比和挤压温度(挤压桶温度)对AZ63M镁合金晶粒尺寸和力学性能的影响,探索了挤压态AZ63M镁合金最优时效处理工艺和热加工工艺。实验挤压比选用9、32、41、81,挤压温度为200℃、250℃、300℃。热处理采用固溶+时效(T6)和挤压后时效(T5)处理两种方式,绘制了在变形温度为300℃~450℃和应变速率为5×10-2s-1~5×10-4s-1的热加工图。结果表明:随着挤压温度降低从300℃到200℃,合金晶粒尺寸从31μm减小到14μm,抗拉强度从225MPa增加到368MPa,伸长率从13.6%增加至17.3%。随着挤压比增加从9到81,合金晶粒尺寸从24μm减小至8μm,抗拉强度从277MPa增加至376MPa,伸长率从15.3%增加至16.1%。挤压温度为250℃,挤压比为32,挤压速率为60mm/min挤压、T6(420℃×8h+210℃×18h)处理后,AZ63M镁合金抗拉强度与挤压态AZ63M(330MPa)对比提高了18%,达到390MPa,伸长率降低了6%,和铸态AZ63M相比,挤压态AZ63M的热加工区域增大,最优热加工区域为温度400℃~450℃,应变速率5×10-4s-1~1.5×10-3s-1。  相似文献   
998.
运用分子动力学方法研究了γ-TiAl合金在不同应变比作用下的疲劳裂纹扩展机理。研究表明,疲劳裂纹均先以解理方式扩展,随后通过驱动力驱动无序区域扩展,最后转变为子–母裂纹传播机制扩展,其差别在于不同应变比作用下裂纹扩展方式的转变发生在不同的时刻;在塑性变形中,应变比的不同使得位错在不同时刻被发射出来且沿不同平面滑移,并且位错在滑移时有不同点缺陷形成如空位、双空位、三空位等,同时,应变比的不同也使得堆垛层错沿着不同密排面形成和扩展。  相似文献   
999.
针对两矿法浸出软锰矿获得的富镁硫酸锰浸出液(锰镁质量比为2.55∶1),研究了采用蒸发结晶法分离锰、镁。通过正交试验和单因素试验,考察了温度、保温时间、搅拌速度对锰结晶行为的影响。试验结果表明:结晶温度、保温时间对硫酸锰晶体纯度影响较大,而搅拌速度对晶体纯度影响较小;低锰镁质量比溶液比高锰镁质量比溶液的结晶分离更为困难。  相似文献   
1000.
运用Fluent软件对转底炉加热设备(蓄热式烧嘴)进行模拟,确定仿真计算所需的最佳网格精度,并分析空气-燃料比(以下简称空燃比)对燃烧温度和燃烧生成组分摩尔分数的影响.结果表明:当网格精度Interval=1.5,燃烧温度为2 220 K(1 947℃)时,较为接近丙烷理论燃烧温度,此时网格数为23 724个,完全达到仿真要求;当空燃比处于18~38时,丙烷能充分燃烧,燃烧温度可稳定保持在2 110 K(1 837℃)以上;当空燃比低于18或者高于38时,燃烧温度降至2 080 K(1 807℃)左右;当空燃比发生变化时,烧嘴内各组分的摩尔分数会发生变化,O2的摩尔分数所占量小,N2的摩尔分数较高,CO2的摩尔分数最高约0.1,并且当空燃比为15时,CO产生的总量相对高.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号