VMCPP薄膜表面张力影响因素研究

通过对真空镀铝流延聚丙烯薄膜（VMCPP）试样表面张力跟踪检测，实验探讨了流延CPP薄膜的原料树脂选用、电晕处理；等离子处理、真空镀铝、镀铝后的VMCPP薄膜的包装以及存储环境对VMCPP薄膜表面张力的影响规律。研究结果表明，选用合适的原料树脂、适当的流延和镀铝工艺以及低温存储和运输环境都会有助于VMCPP薄膜表面张力值的保持。     

专利文摘

【名称】一种皮革装饰方法；【名称】一种清洁化脱毛方法；【名称】去除裘皮异味的方法；【名称】用超低表面张力的手段对动物毛皮进行脱脂；【名称】一种清洁化的高吸收铬鞣方法……     

发酵过程消泡的机理以及消泡剂的选用原则是什么？

消沫剂加入起泡体系中,由于消泡剂本身的表面张力较底（相对发酵体系而言）,当消泡剂接触到气泡膜面时,使泡膜局部的表面张力降低,力的平衡被打破,因而气泡破裂,产生包泡合并，最后导致泡沫破灭。     

非饱和土大气张力通用公式与库仑抗剪强度定律

推出了大气张力抗拉强度通用公式,土的抗拉强度由真抗拉强度、水气不抵大气压强抗拉强度、表面张力贡献抗拉强度组成.推出了大气张力库仑抗剪强度公式,形式与库仑定律相同,但含义比库仑定律扩大和具体化.对于粘土,随着含水量的减少,土的抗拉强度增大,使真凝聚力和初始摩擦抗剪强度增大,总的明显加大初始抗剪强度.     

辅助材料

201009140改善水性涂料润湿性的硅表面活性剂[刊,德]/James,Vicky等//Farbe＋Lack.-2010,116（2）.-33～34,36～37无溶剂水性涂料的润湿性能比较差。通过聚醚接枝聚硅氧烷表面活性剂减少表面张力,     

气-液界面间表面活性剂物质的吸附状态

利用Gibbs吸附公式,通过测量溶液浓度和表面张力可以计算最大吸附量时表面活性剂的表面吸附量,进而计算得到每个分子所占有的表面积;通过与分子本身大小比较能够推测出分子在表面的吸附状态。本文利用文献值,通过计算得出常见的离子型、非离子型及Gemini型表面活性剂在CMC时的平均分子占有面积,同时将具有表面活性的丁醇一并比较。结果发现,各类分子在表面的占有面积为头基的1~2倍,紧密程度为Gemini型离子型丁醇非离子型;同类型之间,支链较多且取代基分子量较大时排列疏松。同时,温度对其影响也进行了对比分析。     

APTES湿法修饰对绢云母粉末粗糙表面张力的影响

对绢云母（Sericite）粉末进行硅烷偶联剂湿法处理,采用Washburn法测量了经不同浓度的硅烷偶联剂修饰后的绢云母粉末的表面张力.修饰后的绢云母粉末的表面张力具有周期性的变化,且波峰与波谷随着3-氨基丙基三乙氧基硅烷（APTES）用量的增加而增大.利用比表面仪（BET）和激光粒度仪,获得绢云母粉末表面的粗糙度为17.5,且根据Wenzel和Cassie复合方程,获得液体与粗糙表面接触的投影面积分数f2为0.103,在绢云母粉末表面的单分子层APTES密度为1.82×1018个/m2.     

枝状Gemini咪唑表面活性剂的合成、表征及性能

为研究枝状连接基对Gemini咪唑表面活性剂性能的影响,以2,2-双(溴甲基)-1,3-丙二醇为连接基合成枝状的Gemini咪唑表面活性剂2,4-二(溴化-3-烷基咪唑)-1,3-丙二醇([Cn-P-Cn]Br2),其中n=10,12,14.通过表面张力法和电导法测量其表面活性并计算25℃时胶束形成的各项性能参数:临界胶束浓度(ccmc)、表面饱和吸附量(Γcmc)、表面活性剂分子在空气/水界面的最小横截面积(Amin)、效率因子(pC20)和表面压(πcmc)等.结果表明,不同链长的3种表面活性剂具有很高的表面活性,所有表面活性剂胶束形成的吉布斯自由能(ΔGm)均为负值,说明常温常压下胶束的形成是自发过程.     

丙三醇为联接基的新型表面活性剂的合成及表征

采用丙三醇三缩水甘油醚、长链醇和1,3-丙烷磺内酯为原料合成一系列新型三聚阴离子表面活性剂,该分子结构中含有6个抗盐性能优良的醚键和3个抗温性优良的磺酸根基团。采用红外光谱、元素分析法、质谱及差示扫描量热法对合成的表面活性剂进行结构表征和耐温实验。测试了25℃下,疏水链碳数为12的该类表面活性剂临界胶束浓度低至6.67×10-5 mol/L,对应的表面张力为25.78mN/m。实验结果表明,该类表面活性剂的表面活性优于相应碳链的常规表面活性剂;并且疏水链长度的增大,有利于表面活性的提高。     

基于移动高斯热源的激光抛光瞬态有限元三维数值模型

本研究模拟CO2连续激光器抛光Ti6Al4V材料的工艺过程,利用可移动的高斯热源模拟激光源,建立有限元三位数值瞬态模型进行模拟实验,来模拟TC4材料表面轮廓的融化与凝固过程,该数值模型耦合了温度场与速度场,研究由于表面张力温度系数而产生的表面张力对抛光熔池的影响,通过改变高斯光源的不同功率强度、扫描速度,来分析对抛光过程中形成的熔池的影响,模拟结果表明:当激光热源功率过大时,易造成熔池尺寸过大,不利于降低材料表面的粗糙度,适当降低扫描速度能有效的降低轮廓峰值的温度梯度大小,从而降低表面张力的作用大小,进而改善熔池尺寸与形状。通过实际抛光实验得出:激光的最佳扫描速度维持在20 mm/s左右,扫描速度过小或者过大都会使抛光样品的表面粗糙度值Ra增加,从而达不到理想抛光效果,且通过实验测试值与数值模型计算值相比较,发现两者数据大致吻合,从而证明了该数学模型的准确性。