关于环保建筑材料的使用和可持续发展的探讨

随着环保型消费逐步占据主流,住宅建筑的生产商和消费者都对建材提出了安全、健康、环保的要求。采用清洁卫生技术生产,减少对天然资源和能源的使用,大量使用无公害、无污染、无放射性环保型建筑材料,有利于环境保护和人体健康,是住宅建筑发展的必然趋势。     

一种新型三自由度谐振式MEMS陀螺

针对谐振式MEMS陀螺检测带宽与检测灵敏度相矛盾的问题,根据两质量块谐振器具有对机械位移放大的特点,提出了一种新型结构的谐振式MEMS陀螺,采用单自由度驱动、双自由度检测,驱动模态谐振频率落在检测模态两个质量块谐振频率叠加形成的平坦区域内,有效增加了陀螺检测带宽,提高了陀螺的抗干扰性能。建立了新型谐振式MEMS陀螺结构动力学模型,对陀螺结构进行有限元仿真分析,在常压环境下对陀螺结构进行测试。结果表明,该结构有效增加陀螺检测带宽,改善了陀螺的抗干扰性能,克服了由于工艺加工精度不足带来的陀螺结构不对称所引起的误差,降低了对加工工艺和加工精度的要求。     

330GHz砷化镓单片集成分谐波混频器

在太赫兹频段,二极管尺寸与波长相比已不能忽略,二极管的封装会引入很大的寄生参量,因此需建立二极管三维模型提取寄生参数.同时人工装配难度增大,会增加电路不确定性.采用12μm砷化镓单片集成悬置微带线结构,基于电子科技大学与中国电子科技集团第十三研究所自主联合设计的肖特基二极管研制330 GHz砷化镓单片集成分谐波混频器.实测结果显示在5 mW本振功率的驱动下,在328 GHz可得到最小变频损耗10.4 dB,在320~340 GHz范围内,单边带变频损耗小于14.7 dB.     

LED封装历程

<正>"二十多年前,在北京举办汽车展的时候,很多国外名车都来参展,如奔驰、奥迪等。在上世纪80年代的中国,谁都没有想能立刻卖出汽车。那时的汽车厂商看中的是未来的中国市场,而今天的LED与当年的汽车产业一样,也会拥有一个"无可限量"的市场。根据研究机构Strategies Unlimited研究预估,LED照明于2012年市值将达到50亿美元,同时,该报告预测,2012年LED照明将可望顺利接棒LEDTV,该年将是LED照明发展的关键年。     

670nm发光二极管材料的MOCVD外延生长

重点介绍了670nm LED材料的结构与制备方法,用MOCVD方法生长了较高压应变的670nm多量子阱。分析比较了670nm量子阱室温光荧光谱线宽度的影响因素,指出室温光荧光主要来源于带-带复合,荧光谱线宽度的减小是应变量子阱轻重空穴能级分离的结果,并不意味着量子阱界面质量的改进。同时介绍了二乙基锌(DEZn)的掺杂技术和掺杂浓度,通过优化掺杂条件和退火条件,p型AlInP材料获得了0.9×1018/cm3的空穴密度。外延材料制作成200μm×200μm尺寸的LED管芯,在20mA工作电流下亮度为22～24mcd。器件结果表明,用5个压应变量子阱的有源区并且采用DEZn掺杂可以制作出高亮度的670nm LED外延材料。     

X波段可编程光钎传输微波延迟系统

介绍了X波段可编程光纤传输微波延迟系统的基本工作原理及系统组成。叙述了该系统的研制过程,包括:光发射模块、光接收模块和光纤延迟链路的设计。微波延迟系统具有低插入损耗、低延迟相关损耗,输出幅度稳定,快速延迟切换速度(<0.5 ms)等优点以及单板机编程和计算机控制界面。该延迟系统传输微波频率范围:9~11 GHz,延迟时间范围为1.013 3~1.646 7μs,延迟精度为0.5 ns,延迟时间可以在1.013 3~1.646 7μs范围内步进调节,延迟时间控制实现了计算机控制。     

管芯S参数的提取技术

介绍了一种新颖的提取管芯S参数的方法。这种方法从电路等效理论出发,把除管芯以外的寄生参数用等效电路表示,用微波仿真软件去除这部分电路的影响,就可得出管芯的S参数。本文使用的微波仿真软件是Microwave Office。此方法简单易行、精确度高,有很好的实用价值。     

栅型共振隧穿晶体管的设计与研制

在研制RTD经验的基础上设计并研制成功栅型GaAs基共振隧穿晶体管(GRTT).文中对该器件的材料结构设计、器件结构设计、光刻版图设计、器件制作、参数测量与分析等进行了系统的描述.所研制出的GRTT最大PVCR为46,最大跨导为8mS,为进一步改善器件性能和参数奠定了基础.     

电子产品金属桥连接的可靠性研究

分析了3种金属桥材料在规定的环境条件下，所产生的热应变、热应力对可靠性的影响和金属桥失效的机理，并通过试验验证了金属桥连接的可靠性。     

ULSI制备中铜布线的两步抛光技术

在超大规模集成电路(ULSI)铜布线工艺中,采用阻挡层来提高铜与衬底的粘附性,主要是为了防止铜原子向介质或衬底中扩散.为了达到全局平面化,就需要克服阻挡层金属与布线金属铜因化学和物理性质的不同而导致其化学机械抛光(CMP)速率的不同.通过研究和一系列试验,采用两步抛光,初抛中采用高化学作用,终抛中采用高机械作用,达到较好的全局平面化效果,并提出了初抛的CMP模型.