PMAC卡在感应加热控制系统中的应用实例

为解决感应加热过程中传送运动系统的运动交接难的问题,开发了一种以PMAC运动控制器为核心的运动控制系统,利用PMAC卡运动控制的精确性和时基控制的同步性解决了控制运动的交接问题,经试验证明所开发的系统可以达到控制要求.     

对交互图表系统的案例解析

通过对交互图表系统的解析,向人们展示了一个交互系统实例工作的全过程.交互界面的设计以及功能的实现是设计此系统的关键.并放眼未来,描述了人机交互的未来发展趋势.     

内部租赁是企业管理计量器具的有效方式

项目管理是建立现代建筑企业制度的重要组成部分。建筑施工企业承揽到工程后组建相应的项目管理部．由项目管理部负责对施工进度、工程质量、施工成本、安全文明施工等目标进行控制，并对生产要素进行优化配置和动态管理。计量管理是工程质量控制的基础．越来越受到广泛的重视。施工现场物料进场的量值验收。     

220 kV断路器失灵保护误动原因分析

对蒙西电网2003年“9·21”事故进行了分析,指出了暴露出的问题,为今后防止因继电保护不正确动作而造成电网稳定破坏等事故的发生提供借鉴。     

镀料粒子脱靶方式对纯铝镀层微观组织的影响

传统磁控溅射的镀料粒子碰撞溅射脱靶后具有较低的离化率和沉积动能,致使制备的纯金属镀层极易形成带有微空隙的柱状结构,降低了镀层的致密性和膜基结合力。针对此问题,在磁控溅射环境下将阴阳极间的电流提升至气体放电伏安特性曲线中的弧光放电过渡区时,受靶面晶界和缺陷处电子逸出功低于晶粒内的影响,靶面微区会形成电子逸出的自增强效应,并产生弧光放电现象。弧光放电使靶面微区熔融,该区域的镀料粒子将以熔融喷溅的方式脱靶,凭借熔融喷溅的高产额特性提高镀料粒子的碰撞离化率,为实现镀层组织的调控打下基础。实验结果发现:本研究采用高频振荡脉冲电场,在逐步提升靶电流的过程中,靶面的微观形貌会由不规则的凹坑状形貌逐渐转变为圆形熔坑和沟壑状形貌,说明镀料粒子的脱靶方式由碰撞溅射逐渐转变为熔融喷溅。靶电流为2 A时,镀料粒子主要以碰撞溅射脱靶,制备的纯Al镀层呈现出典型的柱状组织,而在柱状组织间存在着微小间隙。靶电流增大至14 A时,镀料粒子以熔融喷溅脱靶为主,大量离化的镀料粒子可在基体偏压电场下加速沉积,提高了镀料粒子的扩散能力,弱化了镀层柱状生长的倾向,易使镀层形成致密的组织。同时,镀层的沉积速率和膜基结合力也会有明显提升。     

不同磁控溅射工艺对纳米晶TiN薄膜微观结构与力学性能的影响

对比研究了直流磁控溅射（dcMS）、高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）和调制脉冲磁控溅射（MPPMS）所沉积纳米晶TiN薄膜的组织结构与力学性能。结果表明,因dcMS溅射粒子离化率与动能均较低,薄膜表现为存在少量空洞的柱状晶结构,薄膜力学性能差、沉积速率为51 nm/min。HPPMS因具有较高的瞬时离化率和较低的占空比,薄膜结构致密而光滑,性能得到了显著改善,但平均沉积速率较低,仅为25 nm/min。通过MPPMS技术可大范围调节峰值靶功率和占空比,从而得到较高的离化率和平均沉积速率,薄膜结构致密光滑、力学性能优异,沉积速率达45 nm/min,接近dcMS。     

气体放电伏安特性正反欧姆区间对TiN薄膜微观结构及性能的影响

采用脉冲控制模式将气体放电伏安特性由磁控溅射离子镀的“正欧姆” 区间引入到“反欧姆”区间,并在不同靶电流密度下制备了TiN薄膜。研究了正反欧姆区间对薄膜微观结构及性能的影响。结果表明：在靶电流密度（Itd）大于0.2A?cm-2的反欧姆区间,薄膜具有良好的表面质量和致密程度;且薄膜的硬度和膜基结合强度分别由正欧姆区间Itd为0.11A?cm-2的18.9GPa、4.5N提升到反欧姆区间Itd为0.38 A?cm-2的25.8GPa、18N。     

蒙西电网无功补偿装置配置情况分析

2005年内蒙古自治区将实现蒙西、蒙东电网联网。文中重点对内蒙古电网的安全稳定性和无功补偿现状进行分析，提出了应用动态无功补偿装置，提高电压稳定水平，改善电网供电质量的建议。     

二次回路问题引起保护装置误动的典型事故分析及研究(二)

针对二次回路在电网中发生的一些不正确动作行为,通过典型事例进行了理论分析,总结了二次回路存在的问题,并提出技术防范措施,以指导设计、基建、和生产运行实践,避免同类事故的再次发生。