排序方式: 共有10条查询结果,搜索用时 14 毫秒
1
1.
2.
3.
大直径直拉硅中氮对原生氧沉淀的影响 总被引:5,自引:2,他引:3
研究了在大直径直拉硅单晶中掺氮 (N )对原生氧沉淀的影响 .通过高温一步退火 (10 5 0℃ )和低 -高温两步退火 (80 0℃ +10 5 0℃ )发现在掺 N直拉 (NCZ)硅中氧沉淀的行为与一般直拉 (CZ)硅是大不相同的 ,经过高温一步退火后 ,在氧化诱生层错环 (OSF- ring)区氧沉淀的量要小于空洞型缺陷 (voids)区 ,而经过低 -高温两步退火后 ,OSF-ring区的氧沉淀量要远远大于 voids区 .由此可得 ,在晶体生长过程中 ,N通过改变硅晶体中空位的浓度及其分布从而改变原生氧沉淀的尺寸和分布 .并在此基础上讨论了在大直径 NCZ硅中掺 N影响原生氧沉淀的机理 . 相似文献
4.
研究了在大直径直拉硅单晶中掺氮(N)对原生氧沉淀的影响.通过高温一步退火(1050℃)和低-高温两步退火(800℃+1050℃)发现在掺N直拉(NCZ)硅中氧沉淀的行为与一般直拉(CZ)硅是大不相同的,经过高温一步退火后,在氧化诱生层错环(OSF-ring)区氧沉淀的量要小于空洞型缺陷(voids)区,而经过低-高温两步退火后,OSF-ring区的氧沉淀量要远远大于voids区.由此可得,在晶体生长过程中,N通过改变硅晶体中空位的浓度及其分布从而改变原生氧沉淀的尺寸和分布.并在此基础上讨论了在大直径NCZ硅中掺N影响原生氧沉淀的机理. 相似文献
5.
6.
7.
《关于新时代进一步加强科学技术普及工作的意见》和《全民科学素质行动规划纲要(2021—2035年)》对领导干部和公务员科学素质提出明确要求,针对新时期领导干部和公务员科学素质发展的形势要求及面临的主要问题,本文对第十二次中国公民科学素质抽样调查领导干部和公务员数据开展专题分析。研究发现:领导干部和公务员科学素质水平在各类人群中处于领先地位,提升速度快,呈现出水平高、增速快的发展特征;在科学知识、科学方法、科学精神与思想、应用科学的能力等方面,呈现出整体突出、全面均衡的结构特征。同时,存在领导干部科学素质与勇担历史重任的能力要求尚有差距,城乡和区域科学素质水平差异明显,存在明显不平衡等问题。通过上述分析并结合领导干部和公务员科学素质发展的目标要求,提出领导干部和公务员科学素质建设提质增效的相关建议,以促进领导干部和公务员科学素质高质量发展,有力推动全民科学素质持续提升。 相似文献
8.
9.
10.
1