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介绍了一种用于铜膜化学机械抛光的多元胺醇型非离子表面活性剂。研究了该表面活性剂对抛光液表面张力、黏度、粒径、抛光速率和抛光后铜的表面状态的影响。抛光液的基本组成和工艺条件为:SiO2 0.5%,H2O2 0.5%,FA/OII型螯合剂5%(以上均为体积分数),工作压力2 psi,抛头转速60 r/min,抛盘转速65 r/min,抛光液流量150 mL/min,抛光时间3 min,抛光温度21°C。结果表明,微量表面活性剂的加入能显著降低抛光液的表面张力并大幅提高抛光液的稳定性,但对静置24 h后抛光液黏度的影响不大。表面活性剂含量为0%~2%时,随其含量增大,化学机械抛光速率减小,抛光面的粗糙度降低。 相似文献
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大分子螯合剂在低压力低磨料条件下铜膜的化学机械抛光中的应用 总被引:4,自引:4,他引:0
The mechanism of the FA/O chelating agent in the process of chemical mechanical polishing (CMP) is introduced. CMP is carried on a φ300 mm copper film. The higher polishing rate and lower surface roughness are acquired due to the action of an FA/O chelating agent with an extremely strong chelating ability under the condition of low pressure and low abrasive concentration during the CMP process. According to the results of several kinds of additive interaction curves when the pressure is 13.78 kPa, flow rate is 150 mL/min, and the rotating speed is 55/60 rpm, it can be demonstrated that the FA/O chelating agent plays important role during the CMP process. 相似文献
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利用Bootloader实现uClinux向S3C44B0上的移植 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了实验进行的硬件环境,并从交叉环境的建立,内核的编译,Bootloader程序的设计与功能,文件系统的建立,内核的下载与执行等5个方面系统的描述了将uClinux操作系统移植到S3C4480的过程. 相似文献
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该调频调压控制系统专为电扶梯出厂前运行试验而设计,适用于不同地区电扶梯内的不同频率、不同电压的三相异步电动机。与传统的发电机系统相比,该系统环保、节能、噪音小,操作方便。该系统由PLC、变频器、电抗器、变压器等工控部件组成,可以得到所需要的输出电压和频率,可以试验不同频率,不同电压的电扶梯。自投入使用以来,该控制系统运行可靠,故障率低,维护费用少,且职工的工作环境得到了较大改善。 相似文献
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李炎;李洪波;王傲尘;卜小峰;唐继英;樊世燕 《化工中间体》2013,(12):10-14
乙二醛作为一种重要的化工中间体,用途涉及到诸多行业,但是其合成工艺一直不太成熟。本文通过研究控制乙二醛合成反应的因素对乙二醛产率和产率选择性的影响,得出了乙醛硝酸氧化法制备乙二醛的最佳工艺流程,并详细的分析了各因素对主副反应的影响。 相似文献
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介绍了云峰发电厂开发水轮发电机组试行状态检修,从机械振动摆度监测到故障诊断处理的实践过程。说明了水电机电设备状态检修的重要性、必要性。 相似文献
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一种新的弱碱性螯合剂在阻挡层抛光中的应用 总被引:1,自引:1,他引:0
本文提出了一种新的弱碱性螯合剂,这种螯合剂与以前研究的FA/O I螯合剂相比,具有PH低和螯合能力强的特点。将其应用在阻挡层抛光中,这种新的弱碱性螯合剂的较强的螯合能力使在保证Cu、Ta和TEOS速率选择比的前提下提高了铜的速率,解决了以前的由于铜的速率低造成粗糙度大影响器件性能的问题。它的PH低的特点解决了以前由于PH高使低K介质的K值升高破坏低K介质层的问题。通过实验得出当新的弱碱性螯合剂含量为2.5ml/L时,铜的抛光速率为31.082nm/min,在12inch布线片上粗糙度为0.693nm(10x10um),修正能力也很好,达到了工业要求,并且低K介质的K值较稳定,无漂移现象。达到了工业要求。所有实验结果表明,这种新型的弱碱性螯合剂可以用于阻挡层抛光液。 相似文献