密度的在线测量及在乳品生产中的应用

密度的在线测量及在乳品生产中的应用邱润才，崔国新，王同琛，何勋碧（黑龙江省计算机应用开发研究中心·大庆乳品厂）前言密度测量涉及到石油、化工、冶金、建材、轻工等领域，应用十分广泛。它不仅关系到半成品和产品数量与质量的控制、检测及生产过程的管理，而且关系...     

铌酸锂芯片上的太赫兹集成和时空超分辨成像

飞秒激光与铁电晶体铌酸锂作用可以激发出太赫兹波段的声子极化激元。当铌酸锂的厚度减小至亚波长量级时,晶片就成为一个将太赫兹波产生、传输、调控、探测、与物质或微结构相互作用等过程集于一体的集成化芯片,为太赫兹波的研究和应用提供了平台。同时,利用时空超分辨成像技术可以对芯片中太赫兹波的传输以及与微结构作用过程进行可视化和定量分析。回顾了一些基于铌酸锂芯片的工作,比如太赫兹波传输特性的研究、频率可调谐太赫兹波源的产生、微结构对太赫兹波的调控等,这些工作说明亚波长铌酸锂芯片是一个很有前途的太赫兹集成器件。     

激光诱导银纳米颗粒薄膜和微结构

利用可见激光诱导化学沉积方法在玻璃基底上制备纳米银薄膜和微结构。玻璃样品池中装满柠檬酸钠和硝酸银的混合透明溶液,当一束可见连续激光正入射样品池一段时间后,在辐照区域的玻璃内壁上便可以形成一层光亮的银膜。银膜沉积的速度受到激光功率密度、激光波长、辐照时间以及混合溶液的浓度等条件的影响。利用X射线衍射、原子力显微镜和拉曼光谱仪等手段对制备的薄膜的成分、表面形貌和拉曼活性等性质进行了表征和分析。利用此方法制备的银膜具有良好的表面增强拉曼散射活性。同时,利用双光束干涉的方法在玻璃基底上诱导出不同周期的银纳米颗粒光栅。     

高对比度、高均匀性材料GaAs/AlGaAs多量子阱空间光调制器

本文报道了GaAs/AlGaAs 多量子阱空间光调制器的最新研究进展。使用MBE生长了3英寸材料,其横向均匀性好于0.1%, 法布里-珀罗腔谐振波长变化小于0.9nm。利用调节层腐蚀进行调节以后,在6.7V调制电压下实现了102的对比度。理论和实验均表明,调节层腐蚀能够在在宽范围内调节平衡条件,从而实现多量子阱空间光调制器的高对比度。     

机械顶管施工测量方法

机械顶管施工必须在顶管坑内设置一条方向线，指引顶管机掘进，确保管道实际中心线与设计中心线重合或偏差在允许的范围内。测量工作的关键就是设置这条标志线。文章论述了加密中线点、中线投影、安置激光经纬仪以及投点精度分析的方法，此方法应用在实际工程中取得了良好效果。     

利用铁电畴结构直接写入电控菲涅尔波带片

菲涅尔波带片是光学中的一个基本元件.在本文中,通过带电金属电极在53 μm厚的铌酸锂品体表面的扫描,我们利用铁电畴结构制备出了最大半径为913 μm的菲涅尔波带片.在偏置电压的作用下,我们对菲涅尔波带片的聚焦能力进行了研究.主焦点处的光强随着外加电压的变化而变化,我们得到的最大衍射效率在2.0%左右.     

Indium bump array fabrication on small CMOS circuit for flip-chip bonding

We demonstrate a novel method for indium bump fabrication on a small CMOS circuit chip that is to be flip-chip bonded with a GaAs/AlGaAs multiple quantum well spatial light modulator.A chip holder with a via hole is used to coat the photoresist for indium bump lift-off.The 1000μm-wide photoresist edge bead around the circuit chip can be reduced to less than 500μm,which ensures the integrity of the indium bump array.64×64 indium arrays with 20μm-high,30μm-diameter bumps are successfully formed on a 5×6.5 mm~2 CMOS chip.     

小片CMOS驱动电路的倒装焊In柱阵列沉积

本文研究了在用于GaAs/AlGaAs多量子阱空间光调制器驱动电路小片芯片上进行In柱阵列沉积的方法。使用了带有中央通孔的甩胶套进行甩胶,可以将驱动电路小片上1000um宽的胶边减小至500um,有效保证了沉积In柱阵列的完整性。使用此方法,64x64,20um高,30um直径的In柱阵列能够完整沉积在5mmx6.5mm的CMOS驱动电路上。     

马赫-曾德尔外差干涉椭偏仪非线性误差分析

马赫-曾德尔外差干涉椭偏仪是一种重要的光偏振态实时测量技术。为了提高测量系统的精度、降低误差,采用外差干涉光路分析和数值模拟的方法,理论推导了透射式马赫-曾德尔外差干涉椭偏仪光路的误差公式。结果表明,光源偏振的椭圆化程度,偏振分光棱镜消偏比及倾斜都能引起测量误差;同误差参量下待测光束不同的椭偏比和s,p分量相位差得到的测量误差不同;马赫-曾德尔外差干涉仪的误差结果与迈克尔逊外差干涉仪相近。     

上磨水源地工程输水泄洪洞塌方冒顶施工

上磨水源地工程输水泄洪洞塌方冒顶后采取了:塌方体两头分堵、阻止塌方扩大,输水洞塌口处钻孔灌浆固结塌方体,洞内塌方体中打入管棚注浆管再次固结塌体,而后进行开挖、临时支护和钢筋混凝土永久衬砌.