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用HCl蒸气对真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜进行了处理，并用UV-Vis吸收谱、X射线光电子能谱（XPS）和X射线衍射（XRD）进行了分析，吸收谱结果表明HCl与酞菁氧钛蒸气作用后产生一个新的吸收峰，峰值位于820nm附近，此峰的出现使得酞菁氧钛光吸收带（Q带）加宽进入红外波段，光电子谱分析表明酞菁氧钛薄膜的成分发生了变化，其中Cl和O的含量随HCl蒸气处理的时间的增加而增加，而N和Ti的含量随HCl蒸气处理时间的增加而减小，说明HCl蒸气可与真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜发生作用。XRD测试结果表明，经HCl蒸气处理后的酞菁氧钛薄膜的衍射谱中出现了若干新的衍射峰，表明酞菁氧钛分子的排列结构也发生了变化。 相似文献
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光声光谱作为一种比较新型的材料无损测试技术，具有灵敏度高，能进行微量分析，以及不受样品形状限制等优点。本文对光声光谱测试技术的测试原理及测试系统组成进行了详细说明，并举例说明其在材料分析中的应用。 相似文献
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在ＸＰＳ分析室内利用超高真空蒸发方法在单晶硅衬底上沉积酞菁铜薄膜,并利用Ｘ光电子谱（ＸＰＳ）作原位分析,研究酞菁铜薄膜的沉积规律,并讨论了不同条件下酞菁铜配合物分子组成及结构的变化。结果发现利用超高真空沉积方法得到酞菁铜为近化学计量,随着蒸发温度的升高,分子中Ｃｕ原子的含量逐渐减少,Ｎ原子的含理逐渐升高,苯环上的碳原子与类朴啉环上的碳原子的比例逐渐减少,这与酞菁铜分子中各原子的价键状态、酞菁铜分子 相似文献
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光声光谱作为一种比较新型的材料无损测试技术，具有灵敏度高、能进行微量分析、以及不受样品形状限制等优点。本文对光声光谱测试技术的测试原理及测试系统组成进行了详细说明，并举例说明其在材料分析中的应用。 相似文献
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用光电子谱研究了X光辐照下酞菁铜分子内的电荷转移情况。通过改变X光源的功率，发现高功率下Cu2p 相似文献
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