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阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上,采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30~40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。 相似文献
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