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同步辐射X射线光刻实验研究 总被引：1，自引：0，他引：1
采用侧墙工艺技术研制深亚微米Ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射Ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形。 相似文献
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阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上，采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30～40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。 相似文献
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阐述了Ｘ射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室Ｘ射线光刻装置上，采用本文研制的Ｘ射线镂空硅掩模获得胶厚为３０－４０μｍ、侧壁很陡、边缘很直的Ｘ射线深层光刻胶图形。 相似文献
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