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煅烧温度对纳米TiO2光催化降解甲基橙性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以钛酸四正丁酯为原料,采用溶胶-凝胶法制备了不同煅烧温度(500℃、600℃、700℃和800℃)的TiO2纳米粒子,对样品进行了TG-DTA、XRD、UV-Vis及IR分析,并以甲基橙为目标降解物,考察了煅烧温度对TiO2光催化性能的影响.结果表明:随着煅烧温度的升高,TiO2晶粒尺寸迅速长大,800℃时,出现金红石相;TiO2的吸收带边随煅烧温度的升高发生了不同程度的红移;600℃煅烧得到的TiO2粒子表面易羟基化,其光催化性能最好. 相似文献
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采用正交设计方法,试验研究了4种因素对溶胶-凝胶法制备纳米TiO2光催化活性的影响,确定了各因素所对应的最佳水平,得到了溶胶-凝胶法制备高光催化活性纳米TiO2的最佳工艺条件;且对最佳工艺条件制备的TiO2和商业粉P-25进行了XRD和UV-Vis吸收光谱分析.结果表明,自制的TiO2由纯锐钛矿组成,其平均晶粒尺寸为18.2 nm,比混晶型的P-25 TiO2晶粒尺寸(24.7 nm)要小.自制TiO2粉在330~370nm的紫外光区的吸收增强,在可见光区的吸收也较P-25有所增强.两者都有利于光催化活性的提高,使得光催化降解甲基橙的活性与P-25相当. 相似文献
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超音速火焰喷涂合成(Ti,Mo)C-Ni涂层组织和性能的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用超音速火焰喷涂合成技术制备了4种不同成分含量的(Ti,Mo)C-Ni金属陶瓷涂层,并对涂层的组织和性能进行了研究.结果表明,对于不含Mo的3种涂层(1号、2号、3号)来说,1号涂层的显微硬度值最高,3号涂层的显微硬度值又较2号涂层高,且2号涂层的耐冲蚀磨损性能优于1号和3号涂层;对于Ni含量均为40%的2号和4号涂层来说,4号涂层由于加入了5%的Mo,显微硬度值较2号涂层大大提高,且4种涂层中,4号涂层的耐冲蚀磨损性能最好. 相似文献
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为了探讨以丝瓜络为原料制备高比表面积活性炭的最佳条件,通过设计正交实验,研究了碱炭比、活化温度、活化时间和升温速率等因素对KOH活化丝瓜络制备活性炭性能的影响。结果表明:KOH活化丝瓜络制备活性炭的最佳条件为:碱炭比为4、活化温度800 ℃,活化时间30 min,升温速率10 ℃/ min。在此条件下制备的活性炭为多孔、非晶型的无定形碳,具有高的比表面积(3545 m2/g)和强的吸附性能,其碘值和亚甲基蓝值分别达到2926 mg/g和528.58 mg/g;为丝瓜络的高值化利用提供了一条有价值的途径。 相似文献
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TiO2光催化降解气态污染物的影响因素研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
TiO2光催化技术作为处理气态污染物的一种手段,具有高效、稳定、无二次污染等优点。光催化反应效率的高低受到TiO2自身性质、光催化反应工艺条件等因素的影响。本文分别从TiO2晶型、晶粒尺寸、TiO2的存在形态、TiO2的负载、掺杂改性、贵金属沉积等与TiO2材料性质相关的因素以及废气初始浓度与流速、废气中的含氧量、湿度、光源和光照强度、反应温度等光催化反应的工艺条件两方面,概述了目前关于TiO2光催化净化废气影响因素的研究进展,介绍了TiO2在气相光催化过程中的失活与再生,并从可见光催化剂的制备应用、多组分污染物气相光催化降解机理及影响因素等方面对未来TiO2光催化研究方向提出建议。 相似文献
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纳米TiO2光催化剂的最新发展——多孔TiO2 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了多孔TiO2的溶胶-凝胶制备法和模板制备法,评述了其光催化活性,并从孔径大小、比表面积、煅烧温度和煅烧时间4个方面探讨了多孔TiO2光催化活性的影响因素。孔径在介孔范围内的多孔TiO2,可以对待降解物进行吸附,反应物和生成物的扩散速度加快,光催化活性和催化速率得到提高;TiO2中适量孔的引入,增加了催化剂的比表面积,有利于催化剂与反应物的充分接触,提高光催化活性;煅烧温度过高,容易导致多孔TiO2光催化剂孔结构的坍塌,影响其光催化活性;煅烧时间太短,催化剂未形成或未完全形成锐钛矿型,催化作用减弱;煅烧时间太长,晶粒则会太大,光催化活性降低。因此以合适的制备工艺条件将TiO2制成多孔结构是提高其光催化活性的有效途径之一,具有重要的研究价值和很好的应用前景。 相似文献
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纳米TiO2光催化剂可见光化的研究进展 总被引:13,自引:0,他引:13
从纳米TiO2的掺杂和复合两方面,介绍了近年来实现其可见光化的研究进展。评述了金属离子的掺杂、稀土元素的掺杂、非金属元素的掺杂以及与另一种窄禁带半导体的复合,可使复合物的禁带宽度小于TiO2的禁带宽度,从而使TiO2的吸收带边发生红移,实现可见光响应。 相似文献