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基于c-Si(P)衬底的a-Si/c-Si异质结模拟研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文中研究了影响 a-Si/c-Si 异质结界面复合的主要因素: 表面固定电荷 ,缺陷态载流子俘获界面: ,以及界面缺陷态密度 。当缺陷能级 接近c-Si本征能级,且 满足时,缺陷态复合中心复合速度达到最大。AFORS-HET 软件模拟显示, a-Si/c-Si界面能带不连续显著影响电池Voc、界面缺陷态密度大于1*1010 cm-2.eV-1时,界面态密度的增加会严重降低电池Voc,但其对电池电流密度影响不大。对于c-Si (P)/a-Si (P ) 结构异质结,C-Si衬底的势垒 和a-Si材料内的势垒 对降低c-Si (P)/a-Si (P ) 结构的接触电阻和界面复合速度,表现各不相同。 相似文献
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媒体融合是这几年媒体行业的重要发展趋势,上到国家下到各媒体,都对此高度重视,各个媒体机构、企业、科研院校也对此作了大量的研究、开发与实践. 相似文献
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