纳米级线宽标准样片的设计与制备

介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm～200nm的线宽样片.以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线宽均匀性和稳定性进行了考核.结果表明,标称值50nm～200nm的样片线宽值与设计值基本一致,线边缘粗糙度为1.9nm～2.0nm、均匀性为1.7nm～1.9nm,稳定性为0.06nm～0.6nm.     

基于 SOLT 校准技术的S参数测量不确定度评定磁

目前,常用的 S 参数测量不确定度评定方法中均未考虑 S 参数相关性的问题,论文给出了一种2GHz ～18GHz 频率范围内 S 参数测量不确定度的评定方法,该方法从校准件的定义出发,基于 SOLT 校准技术对矢量网络分析仪进行自校准,将校准件引入的不确定度通过矢量网络分析仪传递给被测件（DUT ）,通过使用蒙特卡洛仿真的方法（MCM ）得到矢量网络分析仪测量 DUT S 参数的测量不确定度,评定过程中考虑了相关性问题,提高了 S 参数测量不确定度的可靠性和合理性。     

结合模糊自抗扰策略的光伏MPPT控制技术∗

光伏发电系统易受外部条件影响,输出波动大,抗扰能力差.为了提高系统利用率,提出一种结合模糊自抗扰策略的光伏MPPT控制技术,通过扩张状态观测器,对内外扰动进行补偿,结合模糊控制改进线性误差反馈控制律,能够快速跟踪光伏电池最大功率点电压和功率,减小了超调量,提升了系统的抗扰性能,具有很好的控制效果.最后在MATLAB/Simulink中搭建仿真模型,验证控制策略对提升光伏发电系统响应速度和抗扰性能的有效性和可行性.     

VB与Matlab混合编程在矿区安全监测中的应用

本文以福建某煤矿厂区设施形变监测数据分析为例,介绍了如何利用VB与Matlab各自的优势,将二者结合起来混合编程进行矿区安全监测方面工程应用软件的开发,从技术层面着手,提出矿区安全监测方案,消除安全隐患,切实保障人员生命、财产安全。     

糖苷类表面活性剂与双癸基二甲基氯化铵复配体系的物化性能及相行为

研究了糖苷类表面活性剂C8/10烷基糖苷(APG)、C12/14醇醚糖苷(AEG)和C12/14醇醚糖苷柠檬酸单酯二钠盐(AEG-EC)与双癸基二甲基氯化铵(DDAC)复配体系的物化性能和相行为。结果表明,APG/DDAC体系的表面张力、泡沫性能和乳化性能有增效作用,润湿性能无增效作用。AEG/DDAC体系的泡沫性能和乳化性能有增效作用,润湿性能无增效作用。AEG-EC/DDAC体系的表面张力和润湿性能有增效作用,泡沫性能无增效作用。用偏光显微镜研究了三元体系的相行为,结果表明,随着DDAC含量的增加,糖苷类表面活性剂/DDAC/水体系的三元相图依次出现胶束相、胶束-液晶共存相和层状液晶相。     

借鉴先进经验 提升中国石化竞争实力

通过在美国Foxboro公司的考察,对其成功的管理经验做了深入地分析;结合中国石化集团具体情况从多方面进行了思考;对国外大公司的成功经验给中国石化企业的启示进行了阐述。     

对我国二次码烧生产工艺的探讨与建议

分析了二次码烧生产工艺的优势、当前存在的问题及其原因,提出了改变过去“重上下架系统、轻干燥窑炉”的发展模式,建议加强联合,重视快速干燥设备的研究,研究快速干燥系统,弱化上下架系统,彻底改变二次码烧技术投资大、成本高、效益低的误区。     

质量参数评价在微纳米间距标准样板中的应用

微纳米间距标准样板作为微纳米几何量量值溯源体系中的重要组成部分,是纳米科技发展的基础保证。通过对微纳米间距样板作为标准物质基本要求的论述,指出了对比度、均匀性和稳定性考核在标准样板质量参数评价中的重要作用。以SEM作为测量仪器,对不同材料的样板进行了对比度测量;以CD-SEM作为测量仪器,对不同标称间距和不同生产单位的标准样板进行了均匀性、稳定性实验以及测量不确定度分析;通过质量参数评价实验和分析,为微纳米间距标准样板的制作和使用提供重要的理论依据。实验结果表明,质量参数评价在微纳米间距样板作为标准物质使用时具有十分重要的作用。     

A lattice measuring method based on integral imaging technology

Aiming at the problem that the lattice feature exceeds the view field of the scanning electron microscope (SEM) measuring system, a new lattice measuring method is proposed based on integral imaging technology. When the system works, the SEM measuring system is equivalent to an integral image acquisition system. Firstly, a lattice measuring method is researched based on integral imaging theory. Secondly, the system parameters are calibrated by the VLSI lattice standard. Finally, the value of the lattice standard to be tested is determined based on the calibration parameters and the lattice measuring algorithm. The experimental results show that, compared with the traditional electron microscope measurement method, the relative error of the measured value of the algorithm is maintained within 0.2%, with the same level of measurement accuracy, but it expands the field of view of the electron microscope measurement system, which is suitable for the measurement of samples under high magnification.