SemDex型晶片厚度测量仪的校准与不确定度评定

SemDex型晶片厚度测量仪是一种半导体行业专用的晶片检验仪器,目前国家还没有检定规程或校准规范。本文给出了一种使用型号为LOGITECH非接触测厚仪对晶片厚度进行定标,然后使用定标的晶片校准晶片厚度测量仪的方法,并给出了测量不确定度的计算方法,使其可溯源至国家基准。     

质量参数评价在微纳米间距标准样板中的应用

微纳米间距标准样板作为微纳米几何量量值溯源体系中的重要组成部分,是纳米科技发展的基础保证。通过对微纳米间距样板作为标准物质基本要求的论述,指出了对比度、均匀性和稳定性考核在标准样板质量参数评价中的重要作用。以SEM作为测量仪器,对不同材料的样板进行了对比度测量;以CD-SEM作为测量仪器,对不同标称间距和不同生产单位的标准样板进行了均匀性、稳定性实验以及测量不确定度分析;通过质量参数评价实验和分析,为微纳米间距标准样板的制作和使用提供重要的理论依据。实验结果表明,质量参数评价在微纳米间距样板作为标准物质使用时具有十分重要的作用。     

纳米级线宽标准样片的设计与制备

介绍了纳米级线宽标准样片的用途及其在校准扫描电子显微镜中存在的问题,设计了具有快速循迹结构的线宽标准样片,采用电子束光刻工艺制作了标称宽度为25nm～200nm的线宽样片.以50nm和200nm线宽为例对样片的线宽偏差、线边缘粗糙度、线宽均匀性和稳定性进行了考核.结果表明,标称值50nm～200nm的样片线宽值与设计值基本一致,线边缘粗糙度为1.9nm～2.0nm、均匀性为1.7nm～1.9nm,稳定性为0.06nm～0.6nm.     

A lattice measuring method based on integral imaging technology

Aiming at the problem that the lattice feature exceeds the view field of the scanning electron microscope (SEM) measuring system, a new lattice measuring method is proposed based on integral imaging technology. When the system works, the SEM measuring system is equivalent to an integral image acquisition system. Firstly, a lattice measuring method is researched based on integral imaging theory. Secondly, the system parameters are calibrated by the VLSI lattice standard. Finally, the value of the lattice standard to be tested is determined based on the calibration parameters and the lattice measuring algorithm. The experimental results show that, compared with the traditional electron microscope measurement method, the relative error of the measured value of the algorithm is maintained within 0.2%, with the same level of measurement accuracy, but it expands the field of view of the electron microscope measurement system, which is suitable for the measurement of samples under high magnification.     

基于 SOLT 校准技术的S参数测量不确定度评定磁

目前,常用的 S 参数测量不确定度评定方法中均未考虑 S 参数相关性的问题,论文给出了一种2GHz ～18GHz 频率范围内 S 参数测量不确定度的评定方法,该方法从校准件的定义出发,基于 SOLT 校准技术对矢量网络分析仪进行自校准,将校准件引入的不确定度通过矢量网络分析仪传递给被测件（DUT ）,通过使用蒙特卡洛仿真的方法（MCM ）得到矢量网络分析仪测量 DUT S 参数的测量不确定度,评定过程中考虑了相关性问题,提高了 S 参数测量不确定度的可靠性和合理性。     

基于MATLAB的温湿度表计量软件设计

温湿度表在国民经济工农业生产中用途非常广泛,数量庞大,由于其检定过程耗时长,后期数据处理、证书打印比较繁琐,导致计量工作过程出错率较高。针对这些问题,本文给出了一个具有推广价值的解决方案,我们基于MATLAB设计了一套温湿度表计量软件,结合Excel数据处理功能,实现了没有程控接口的温湿度表的半自动计量,提高了工作效率,节省了计量成本,并在最大程度上降低了出错率。     

对GUM法量块测量不确定度评定的验证

我国新颁布了JJF1059.2-2012《用蒙特卡洛法评定测量不确定度》,该规范规定了用蒙特卡洛法(MCM)评定与表示测量不确定度的方法,并提供了检查GUM法是否适用的验证方法。本文以量块校准为例,详细介绍了用蒙特卡洛法验证GUM法结果的具体步骤。     

基于蒙特卡洛法的常用玻璃量器容量测量结果不确定度评定

采用蒙特卡洛方法 (MCM)对常用玻璃量器容量测量结果的不确定度进行评定,建立了数学模型,分析了各不确定度分量,编写了评定程序,并将评定实例结果与GUM方法评定的结果进行了比较。     

检测高低温试验箱的测量不确定度分析

高低温试验箱是半导体器件和部件做环境试验的关键设备,其温度的准确度直接关系到产品的质量,文章对高低温试验箱的检测系统作了测量不确定度分析。     

大气状态下AFM阳极氧化加工重复性的研究

为实现多隧道结和多岛结构,针对室温大气环境下,利用AFM阳极氧化加工方法,对加工LT-GaAs衬底上的nm级厚度的钛膜的重复性进行了研究。本实验在一定的加工条件下,分别加工了点阵列和线阵列,通过最大残差法计算了它们宽度和高度的重复性百分比,得到所有的重复性百分比都小于1%,表明文中所提供的加工条件下,加工钛膜具有很好的重复性。同时,通过点阵列与线阵列的理论变换方法,进一步验证了在加工氧化钛线时采用0.1μm/s扫描速度的正确性。