丝网印刷及磁场取向制备钡铁氧体厚膜研究

采用丝网印刷工艺在氧化铝陶瓷基片上制备了六角钡铁氧体厚膜,研究了外加磁场对厚膜磁特性的影响,用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和振动样品磁强计(VSM)对样品进行表征。结果表明,垂直膜面磁场取向后,剩余磁化强度(Mr)大大增加。随着取向磁场的增高,矩形比(Mr/Ms)由未取向时的0.54提高到0.84。可以通过增加膜的致密度和消除不均匀性来进一步提高矩形比。该厚膜具有自偏置特性,在自偏置微波器件中具有应用潜力。     

基于FPGA和QuartusⅡ的音频信号分析仪设计

本系统基于采样原理及数字信号处理理论,以Altera公司的FPGA和Quartus Ⅱ为核心,实现峰峰值为0.1 mV～10 V且频率范围为100 Hz～10 kHz的音频信号的总功率、各频率分量功率及失真度等的测量.将输入信号用正负电压A/D进行采样,根据数字量的最大值判断信号的放大倍数,进而控制继电器调节放大器增益.采样得到的合适数字量经快速傅里叶变换（FFT）后转化为频域值,然后根据数字信号处理理论分析各测量参数的值.用单频和双频正弦信号测试,本设计能够达对各个参数进行测量,并达到了较高的性能指标.     

双施主掺杂在高性能高温PTC制备中的应用

Nb2O5和Y2O3单施主掺杂对高温PFC性能均有一些不利的影响。设计了Nb2O5和Y2O3双施主掺杂的配方，分析Nb2O5和Y2O3掺杂量在不同比例下对材料性能的影响，得出结果：在制备高性能的高温PTC时，适当的施主掺杂总量和适当的Nb、Y掺杂配比，可以改变PTC的性能，另外还讨论了在该配方下的工艺方案。     

PTCR欧姆接触电极制备方法现状

从半导瓷和金属电极的欧姆接触理论出发，详细的叙述了PTCR欧姆接触电极的各种主要制备方法。通过对这些方法的优缺点的分析，指出磁控溅射法由于具有制备工艺简单、无工业污染、电极成本低廉、膜层致密均匀、附着力强等优点，将在PTCR欧姆接触电极的制备工艺中占据重要地位，工业前景广阔。     

FeCoB-Al2O3软磁颗粒膜磁特性研究

采用射频磁控倾斜共溅射制备了一系列的(Fe40Co40B20)1-x(Al2O3)x软磁颗粒膜。分别研究了基片转速及溅射气压对FeCoB–Al2O3薄膜微波磁特性影响。并通过改变FeCoB靶以及Al2O3靶的溅射功率进一步调控了软磁颗粒膜的磁特性和电阻率。研究结果表明在基片转速为60 r/min,溅射气压为0.2 Pa,FeCoB靶的溅射功率为250 W,Al2O3靶的溅射功率为100 W时,获得的FeCoB-Al2O3软磁颗粒膜具备了优良的软磁特性、微波磁特性和较高的电阻率。薄膜的饱和磁化强度为1.73 T,易轴难轴矫顽力均小于80 A/m,电阻率为126.75μΩ·cm,共振频率高达2.22 GHz,磁导率实部在2 GHz仍大于400。     

基于Altera FPGA和QuartusII的程控滤波器与扫频测试仪的设计

本系统以Altera公司的FPGA和Nois II为核心,采用运算放大器和模拟开关作为前级小信号放大器,以电流型DAC TLC7528等效为可变电阻,通过模拟电路构建传递函数实现可编程滤波,并通过FPGA查找表的方法数字合成正弦波通过DAC输出,构建了一个放大、滤波和扫频测试综合性系统。可应用与现代测量和各种数据采集系统中。