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多功能铁电材料是近年来的热门材料,为了研究铁电材料在光催化中的应用,通过溶胶-凝胶法在空气氛围下制备了铁酸铋(BiFeO3)和不同Y3+掺杂浓度(Bi1–xYxFeO3)的纳米粉体材料。通过X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD),扫描电镜(scanning electron microscopy,SEM)和X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)表征了样品的结构、形貌和表面化学组成等物理化学性质。并利用分光光度计和光化学反应实验测试了样品的吸收谱和在紫外灯照射下的光催化效果。研究发现,掺杂Y3+不会改变晶格结构,但是减小了晶粒尺寸和禁带宽度。同时,根据O 1s的XPS窄谱扫描的拟合分析发现,引入Y3+可以有效提高氧空位的含量,而氧空位可以降低空穴-电子对的复合率,提高载流子利用率。因此,掺杂Y3+可以提高BiFeO3的光催化效率,使其成为一种很有潜力的光催化材料。 相似文献
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采用高温固相法结合电荷补偿方式2Sr2+→Eu3++Na+,合成了适合白光LED的红色荧光材料NaxSr1-2xMoO4∶Eux^3+(x=0.1、0.15、0.2,0.25、0.3)系列样品.对样品分别进行了X射线衍射(XRD)分析和荧光光谱的测定.测试结果表明,NaxSr1-2xMoO4∶Eu3x+荧光粉可以被近紫外光(UV)(393 nm)和蓝光(463 nm)有效激发.通过探讨Na+和Eu3+的掺杂浓度对发光强度的影响,得出NaxSr1-2xMoO4∶Eux3+系列样品的发光强度比SrMoO4:Eu3+明显增加,且当掺杂量x=0.2时,NaxSr1-2xMoO4∶Eux3+系列样品在616 nm处的发光强度最大.分析了NaxSr1-2xMoO4∶Eux3+系列样品在380 nm紫外光激发下的色坐标,当Na+和Eu3+的掺杂量x=0.15时,样品的红色显色最强. 相似文献
3.
采用高温熔融法制备了Tb3+掺杂ZnO-B2O3-SiO2玻璃,通过荧光光谱、余辉衰减曲线、热释发光光谱以及紫外-可见吸收光谱等方法的测试分析,系统地研究了该玻璃体系的长余辉发光机理,并建立了其长余辉发光的半程隧穿模型.Tb3+掺杂ZnO-B2O3-SiO2玻璃的长余辉发光只跟能级较浅的电子陷阱有关,不同能级深度的陷阱对应着余辉衰减的不同过程;Tb3+离子是被紫外光直接激发发生光氧化失去电子的,然后电子经由导带被能级深度不同的电子陷阱捕获;电子从陷阱中热致逃逸出来后,通过5d能带隧穿到与陷阱最邻近的激活离子上而复合发光. 相似文献
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SrAl2O4 :Eu2+和SrAl2O4 :Eu2+,Dy3+长余辉和热释光谱 总被引:1,自引:0,他引:1
对比研究了SrAl2O4:Eu2+和SrAl2O4:Eu2+,Dy3+的余辉特性和热释光谱,并探讨了Dy3+的掺杂对SrAl2O4:Eu2+陷阱能级的影响。XRD晶相分析表明: Eu2+和Dy3+的掺杂并没有改变SrAl2O4的晶体结构。发光分析表明:Dy3+的掺杂没有改变SrAl2O4:Eu2+的光致发光光谱和发光中心。热释光谱对比分析结果显示:Eu2+的掺杂在SrAl2O4的禁带中引入了两个深度不同的陷阱能级;Dy3+的掺杂并不改变原来陷阱能级的深度,却能够显著地增加原来浅陷阱能级的密度,从而改善了SrAl2O4:Eu2+的余辉特性。不同等待时间的热释光谱曲线显示:在室温下,不同陷阱能级衰减规律的差异以及陷阱能级间存在的电子转移,可能造成了SrAl2O4:Eu2+,Dy3+长余辉材料复杂的余辉衰减规律。 相似文献
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针对某220kV变电站35kV断路器发生的拒动故障,从断路器电气二次回路和机构机械回路等方面进行分析,认为断路器分闸后,分闸弯板未复归,导致合闸时合闸绕组烧坏是引起断路器拒动的原因,提出相应的处理措施,并说明处理效果. 相似文献
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采用Sol-gel法化学工艺在较低温度下合成纳米级La 相似文献
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荧光粉BaY2Si3O10: Bi3+, Eu3+经高温固相法制备并由X-ray衍射谱仪分析其物相结构。实验结果显示Bi3+共掺下BaY2Si3O10: Eu3+的激发光谱呈现一个有明显增强的宽电荷转移带和系列Eu3+的 f – f 窄吸收峰,发射谱为Eu3+的5D0-7FJ橙-红光发射。当用285 nm 紫外光激发时,Bi3+到Eu3+间存在有效的能量传递,导致Bi3+的宽带紫外发射(中心345 nm)强度减弱,而Eu3+的橙-红光发射显著增强;随着Eu3+浓度的增加,能量传递效率也随之提高。最佳Eu3+浓度为0.4摩尔百分比,此后荧光粉发射强度发生浓度猝灭。结果表明Bi3+共掺时明显改善和提升荧光粉在电荷转移带(200 – 350 nm)的激发效率。Bi3+到Eu3+间主要的能量传递机制是通过四极–四极相互作用实现,并且能量传递的临界作用距离是1.604 nm 相似文献
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设计了一种通过乙醇淬火来修饰纳米氧化铜表面的简单方法。首先将纳米氧化铜加热至800 ℃, 然后立即浸入无水乙醇中淬火。通过罗丹明B的光催化降解表明, 在紫外-可见光照射下, 表面修饰后的纳米氧化铜比修饰前的纳米氧化铜具有更好的光催化性能。电子顺磁共振测试表明, 通过快速的无水乙醇淬火, 氧化铜中出现了高浓度的氧空位, 这些氧空位有效地提升了氧化铜的光催化性能; X射线衍射和光电子能谱测试表明, 通过无水乙醇淬火, 氧化铜中出现了氧化亚铜和铜, 这可能会形成CuO-Cu2O异质结以及Cu-CuO/Cu2O肖特基异质结, 促进电荷-空穴分离, 有效地提升改性氧化铜的光催化性能。实验表明溶剂淬火方法能有效地修饰金属氧化物的表面, 增加氧化物中的表面氧空位, 甚至形成异质结, 提高材料的表面活性。 相似文献
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