一种超亲水自清洁、智能控温的钨掺杂二氧化钒薄膜的制备及其性能表征

本实验采用一种简单、低成本有效的溶胶-凝胶法制备了热致变色钨掺杂二氧化钒薄膜。首先将乙酰丙酮氧钒和氯化钨置于甲醇溶液中反应制备出前驱体,然后将前驱物旋涂在衬底基材上。最后在氩气氛围中、600 ℃进行退火。同时,对所制备的二氧化钒薄膜进行了XRD、XPS、SEM、UV和WCA等表征和测试。结果表明,钨掺杂二氧化钒薄膜颗粒尺寸范围从30～150 nm,薄膜的表面展现出优异的亲水性,其静态水接触角为12°。根据光学测试,钨掺杂VO₂薄膜表现出优异的光学性能与可见光调节效率(T_lum,s = 80.75%,T_lum,m = 79.24%)和优良的太阳能调节效率(ΔT_sol = 9.10%,T_sol,s = 81.40%,T_sol,m= 72.30%)。VO₂薄膜相变表现出可适用的相变温度:在钨掺杂摩尔量为2%时,其相变温度为32 ℃。     

钎焊温度对Cu/Sn58Bi-0.05Sm/Cu焊点界面形态及力学性能的影响

采用钎焊新工艺制备Cu/Sn58Bi-0.05Sm/Cu微焊点,并对其进行时效处理。研究不同的钎焊温度对焊点微观组织、金属间化合物(IMC)、抗拉强度的影响。结果表明,钎焊温度为180℃时,Sn Bi-0.05Sm复合钎料的显微组织更为细致均匀,界面生长的IMC最少,性能最好。温度越高、时效时间越长,抗拉强度下降的越明显,接头的可靠性越差。     

半导体耦合法改性纳米TiO2薄膜在DSSC中的应用

染料敏化纳米晶TiO2薄膜太阳能电池具有成本低廉、制作简单和环保等优点，吸引了国内外研究者的广泛关注。综述了半导体复合TiO2薄膜在DSSC中应用的研究进展，重点阐述了半导体复合TiO2薄膜的机理，总结了半导体复合TiO2薄膜的种类及制备方法，并分析了其对太阳能电池光电性能的影响。     

电絮凝技术在水处理中的应用和发展

简要介绍了电絮凝技术基本原理,并综述了其在饮用水除氟、雨水净化、天然水净化、采油污水及重金属废水处理中的研究进展,概述了电絮凝技术存在的一些问题及其改进技术,对其今后的发展进行了展望。     

SrTiO3(111)衬底上KTa0.65Nb0.35O3薄膜的取向生长研究

以乙酸钾、乙醇钽、乙醇铌为前驱体，在SrTiO_3（111）衬底上取向生长了KTa_（0.65）Nb_（0.35）O_3薄膜.通过DTA-TG分析，确定了预烧工艺，发现钙钛矿结构KTN在高温（＞950℃）下可分解，产生缺钾中间相K_2Ta_4O_11．单层凝胶膜预热处理（＞450℃），多层覆盖，慢速升降温（1～2℃／min），750℃保温2h，可得到晶粒大小分布均匀，平均直径约0．2μm、致密的薄膜．升高温度、延长时间，晶粒长大，甚至团聚，产生气孔、裂纹，烧结温度应控制在950℃以下．     

功能高分子染料在高新技术中的应用

与小分子染料相比，高分子染料具有高强度、耐溶剂性和可加工性等优越性，在很多领域获得了广泛应用。简要介绍了高分子染料的分类、制备方法和性能表征；综述了高分子染料的应用范围，重点是生物医学方面的应用，包括疾病检测，DNA测序，荧光探针等，并对其今后的发展方向进行了展望。     

D102的Ti(OC_2H_5)_4杂化材料的制备与性能研究

采用Sol-Gel法制备了D102的Ti(OC2H5)4杂化材料,探讨了材料的制备工艺条件,对材料进行了表面形态,热性能,光学性能等测试和分析。结果显示透光性和热稳定性较纯有机功能分子D102都有所提高,薄膜表面平整,无相分离。     

聚醋酸乙烯酯/纳米SiO_2复合乳液的制备与性能

采用原位乳液聚合法制备了聚醋酸乙烯酯／纳米二氧化硅复合乳液。考察了纳米二氧化硅在聚醋 酸乙烯酯乳液内及乳胶膜中的分散性:纳米二氧化硅用量对复合乳液性能的影响。结果表明:与普通乳液相 比,复合乳液的干态粘接强度和耐水性明显提高。     

丹参脂溶性成分的ESI-MS行为及其特征指纹图谱的研究

丹参(Radix Salviae Miltiorrhiza Bge)为唇形科(Labiatae)植物的干燥根及根茎,其有效成分为脂溶性和水溶性两大部位.目前对脂溶性部位的化学组成、提取工艺以及常见化合物的电子轰击质谱[1]已经进行了比较深入的研究,但是其有效成分的电喷雾-质谱(ESI-MS)的系统研究还未见报道.本工作探讨了丹参药材中主要脂溶性成分丹参酮ⅡA和隐丹参酮的电喷雾质谱规律,并以对照药材为标准,选取了丹参药材ESI-MS图中14个特征峰,应用SPSS统计软件建立了丹参药材ESI-MS指纹图谱[3],研究了不同产地丹参药材间的相关性.     

Sol－gel生长KTa_（1－x）Nb_xO_3电光薄膜的成分和结构

采用ＸＰＳ方法研究了ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺制备的ＫＴＮ（ｘ＝０．３５）薄膜的成分和结构．结果表明，除了表面被碳污染外，薄膜中无残余的碳和其他杂质．其成分与原料的化学计量比相近，且沿深度均匀分布．各元素的化学状态证实薄膜系钙钛矿型ＫＴＮ结构．Ａｒ＋溅射后的ＸＰＳ谱反映Ｋ严重偏低，Ｔａ和Ｎｂ的化学状态改变，是Ａｒ＋轰击引起Ｋ择优溅射及化合物分解所致．