DCPMS作为外给电子体生产低熔融指数聚丙烯

二环戊基二甲氧基硅烷(DCPMS)作为外给电子体,在12 m3反应釜中采用间歇式液相本体法聚丙烯生产工艺,通过控制氢气钢瓶压降为0.1 MPa或绝氢及主催化剂用量为53 g生产熔融指数在0.2-0.3 g/10 min之间的低熔指聚丙烯。与甲基环已基二甲氧基硅烷(CMMS)生产低熔指聚丙烯相比,单釜主催化剂用量由78 g降至53g,并在绝氢状况下熔融指数更易控制在0.2-0.3 g/10 min之间。     

异丁基三乙氧基硅烷作为外给电子体生产高熔融指数聚丙烯

利用异丁基三乙氧基硅烷作为外给电子体与N-Ⅲ催化剂组成高活性及高氢调敏感性催化体系,在间歇式液相本体法聚丙烯生产工艺中,通过控制每釜氢气加入量为氢气钢瓶压降23~25 MPa,单釜主催化剂加入量65 g,生产熔融指数在30~35 g/10 min之间的高熔指聚丙烯,产品等规度97.0%,灰分1.3×10-4。实验证明,异丁基三乙氧基硅烷作为外给电子体的N-Ⅲ催化体系反应初期活性适中,活性衰减慢,无明显放热高峰。     

3,5-二叔丁基-4-羟基苯基丙酸甲酯的合成与工艺改进

3,5-二叔丁基-4-羟基苯基丙酸甲酯是一种抗氧剂,也是合成抗氧剂1076、抗氧剂1010等的主要原料。文章研究了合成3,5-二叔丁基-4-羟基苯基丙酸甲酯的工艺条件,对传统工艺条件进行了改进。传统合成方法采用NaOCH3作催化剂,产品收率(以2,6-二叔丁基苯酚计)75%～85%;文章采用KOH作催化剂,原料配比为:2,6-二叔丁基苯酚:丙烯酸甲酯=1:1.1,110°C下滴加丙烯酸甲酯,滴加时间1.5h,升温至130℃保温反应4h,用甲醇结晶,过滤,干燥得产品。产品收率(以2,6-二叔丁基苯酚计)95%。产品为白色晶体,熔点为63～65℃,符合文献值。     

格氏法一步合成二环己基二甲氧基硅烷

首次以四甲氧基硅烷、氯代环己烷和镁屑为原料,采用格氏法一步合成二环己基二甲氧基硅烷.在四甲氧基硅烷加量为76 g(0.5 mol)、n(四甲氧基硅烷):n(氯代环己烷):n(镁屑)为1:2.1:2.2、反应启动料配比(镁屑:四氢呋喃:氯代环己烷)为26:30:15(g:mL:g)、混合溶剂四氢呋喃-石油醚(1:4,体积...     

几种高活性外给电子体工业应用评价

综合评价了环己基甲基二甲氧基硅烷CMMS、二环戊基二甲氧基硅烷DCPDMS、二异丙基二甲氧基硅烷DIPDMS、二异丁基二甲氧基硅烷DIBDMS在工业上使用CS-I聚丙烯主催化剂下对于聚丙烯等规度、聚合活性的影响,以及它们的氢调敏感程度.     

格氏试剂法合成二环戊基二甲氧基硅烷的研究

研究了格氏试剂法合成二环戊基二甲氮基硅烷(D-Donor)的工艺。用氯代环戊烷与镁粉、四甲氧基硅烷在溶剂甲苯中同时完成格氏化反应和取代反应，经分离、精馏得二环戊基二甲氧基硅烷。四甲氮基硅烷74mL(0．5mo1)、镁粉30g(1．25mo1)、THFl00mL、氯代环戊烷10mL，在氮气保护下回流，滴加105mL氯代环戊烷和500mL甲苯的混合液，回流5h。过滤、精馏得二环戊基二甲氮基硅烷89．3g，纯度99％，收率78．2％。     

格氏试剂法合成二环戊基二甲氧基硅烷的研究

研究了格氏试剂法合成二环戊基二甲氧基硅烷(D Donor)的工艺。用氯代环戊烷与镁粉、四甲氧基硅烷在溶剂甲苯中同时完成格氏化反应和取代反应,经分离、精馏得二环戊基二甲氧基硅烷。四甲氧基硅烷74mL(0 5mol)、镁粉30g(1 25mol)、THF100mL、氯代环戊烷10mL,在氮气保护下回流,滴加105mL氯代环戊烷和500mL甲苯的混合液,回流5h。过滤、精馏得二环戊基二甲氧基硅烷89 3g,纯度99%,收率78 2%。