电压对TC4钛合金表面微弧氧化膜层红外发射率的影响

在硅酸盐、磷酸盐及高锰酸钾的混合电解液中研究了不同电压对TC4钛合金微弧氧化膜层性能的影响,通过扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）分析了膜层的微观形貌、相组成及化学成分,用傅里叶变换红外光谱仪测试了样品的红外发射率。结果表明,随着电压的升高,膜层的厚度、粗糙度及红外发射率持续增加,膜层中Ti O2与Ti的特征峰逐渐减弱,非晶相成为主要的组成部分。结合XRD与XPS分析结果可推断膜层中主要元素Si、P、Mn均以非晶态存在。当电压为540 V时膜层发射率有较大幅度的增加并达到最大,在8-20μm的波段范围内平均发射率可达0.84。     

电压对TC4钛合金表面微弧氧化膜层红外发射率的影响

在硅酸盐、磷酸盐及高锰酸钾的混合电解液中研究了不同电压对TC4钛合金微弧氧化膜层性能的影响,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了膜层的微观形貌、相组成及化学成分,用傅里叶变换红外光谱仪测试了样品的红外发射率。结果表明,随着电压的升高,膜层的厚度、粗糙度及红外发射率持续增加,膜层中Ti O2与Ti的特征峰逐渐减弱,非晶相成为主要的组成部分。结合XRD与XPS分析结果可推断膜层中主要元素Si、P、Mn均以非晶态存在。当电压为540 V时膜层发射率有较大幅度的增加并达到最大,在8~20μm的波段范围内平均发射率可达0.84。     

三维激光雷达在火炮偏离角测量中的应用

针对目前国家军用标准(GJB)方法对火炮炮膛轴线偏离射面的偏离角度测量方法中存在的精度低、效率低、工作人员多、结构分散等问题,提出了一种新型火炮偏离角度的测量方法。方法基于三维(3D)激光雷达空间点三维坐标测量原理,采用火炮身管粘贴标准靶球,通过测量标准靶球空间点的球坐标解算出调炮前后两条空间直线方程,并经空间向量投影,转换为在投影面上进行直线方程的求解,进而求得火炮偏离角,并用微分法进行测量精度分析及计算。分析了该方法的原理、测量过程并与现行GJB方法进行比较,实验数据表明使用该方法对火炮偏离角进行测量的效率和精度都有明显提高。     

基于图像对准式V棱镜折射仪低对比度图像的识别算法研究

高精度光学玻璃折射率是保证光学设计和成像质量的重要条件,主要由V棱镜折射仪进行检测。在图像对准式V棱镜折射仪中,用于对准的平行光管所成狭缝中的单线图像质量,直接影响折射率测量中的对准精度,尤其当单线与背景对比度不高时,会大大影响仪器的测量精度。提出一种自适应灰度拉伸和垂直投影相结合的图像增强算法,该方法能快速提取低对比度的单线图像。通过对比实验证明了本算法的有效性,将测角精度提高到了±1",算法稳定测量重复性优于1×10-6,对提高测量光学玻璃折射率的精度有实际意义。     

红外高发射率涂层的研究进展

红外高发射率材料具有良好的辐射与吸收性能,可有效改善物体表面的辐射系数,增强辐射传热从而达到散热的目的。随着国防科技与工业技术的发展,高发射率材料已被广泛应用于航空材料、工业窑炉材料、建筑材料、电子、冶金等领域,其中涂层材料的运用占较大比重。目前,美国、英国等发达国家每年投入数亿资金用于高发射率涂层的研究,超薄、复合、多功能的涂层材料成为近年来主要的发展趋势。概述了高发射率材料的种类,比较了高发射率涂层几种制备方法的优缺点,并总结了影响涂层发射率的因素与提高发射率的途径。     

FeSO4浓度对Ti-6Al-4V合金表面微弧氧化膜层性能的影响

通过电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了Ti-6Al-4V合金表面微弧氧化膜层的微观形貌、相组成和化学成分,采用拉伸试验机及红外光谱仪(FTIR)测试了膜层的结合强度以及5～20μm波段内的红外发射率。结果表明,随着(NaPO_3)_6电解液中FeSO_4浓度的升高,膜层的厚度、粗糙度及结合强度增加,红外发射率呈先增加后减小的趋势,其中,Fe SO4浓度为6 g/L时膜层的红外发射率达到最大值0. 86。结合XRD与XPS测试结果,推断元素Fe与P分别以非晶态的Fe_2O_3、H_2PO_4~-、P_2O_7~(4-)存在。Fe掺杂与非晶态的无序结构特征有利于局域能级的生成和增强原子间的极性振动,进而提高膜层的红外发射率。     

火炮偏离角测量数字化系统

提出了一种用于火炮炮膛轴线偏离射面的角度测量的数字化测试系统,该系统基于激光跟踪仪空间点坐标测量原理,通过对火炮身管指定点三维坐标的测量,结算出调炮前后空间直线方程,从而计算出火炮偏离角,并针对目前GJB方法对火炮炮膛轴线偏离射面的偏离角度测量方法中存在的精度不高、效率低、工作人员多、结构分散等问题进行了分析。与现行GJB方法进行测量实验比较,实验数据表明使用该方法对火炮偏离角进行测量,效率和精度都有明显提高。     

电压对TC4合金K2ZrF6–Na2SiO3–(NaPO3)6体系微弧氧化膜性能的影响

在K_2ZrF_6–Na_2SiO_3–(NaPO_3)_6电解液中研究了电压(420～510 V)对TC4合金表面微弧氧化(MAO)的影响。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)及拉伸试验机表征了膜层的微观形貌、相组织、元素组成和结合强度,用傅里叶变换红外光谱仪(FT–IR)测试了它们的红外发射率。结果表明:随着电压的升高,膜层厚度、粗糙度和结合强度均增大;膜层的主要相组成为TiO_2,Si、Zr、P元素分别以SiO_2、ZrO_2、NaH_2PO_4与Na_4P-2O_7的形式存在。膜层的红外发射率随电压增大而先升高后降低,在电压为480 V时达到最大值0.87,比420 V下所得膜层的红外发射率提高了7.4%。     

电压对Zr-4合金Na2SiO3−(NaPO3)6−K2ZrF6体系微弧氧化膜性能的影响

在Na2SiO3?(NaPO3)6?K2ZrF6体系中采用微弧氧化法以Zr-4合金为基材制备出陶瓷膜层.利用扫描电镜、粗糙度仪、X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪和电化学工作站研究了电压对膜层结构与性能的影响.结果表明,膜层表面呈典型"火山口"形貌,电压升高后膜层粗糙度与致密层厚度增加.膜层主要由单斜氧化锆相(m-ZrO2)和四方氧化锆相(t-ZrO2)组成,Si、P等元素分别以非晶态氧化物的形式存在.经微弧氧化处理后,Zr-4合金的腐蚀电流密度下降,电阻增加,耐蚀性明显提高.480 V下制备的膜层的耐蚀性最优.