沉降放射性粒子的活度-粒径累计份额计算

根据美国Small Boy试验的近场远爆心区域(Off-site)剂量场分布图,计算了不同区域内沉降至地面的放射性活度累积份额,结合动力学沉降预报程序给出的不同粒径粒子落地范围,计算得到了不同放射性活度累积份额下的粒子粒径下限。结果表明,试验产生的百微米以上粒径的粒子携带的放射性活度份额约为Bridgeman方程估算结果的86%。本方法可以扩展至不同爆高的地面爆炸场景,分析其近区沉降物的放射性份额,对于优化放射性沉降预报程序具有一定价值;对于发展分凝模型、分析放射性物质在各种粒子中的分布规律等具有重要意义。     

一种测量~(241)Am溶液比活度的方法

根据符合法原理,利用4πα+4πγ活度测量标准装置,采用改变γ探测效率的方法,外推测量241Am溶液的比活度,解决了电离室测量α源时需进行的自吸收和反散射系数校正问题。双4π-γ效率外推法通过调整测量装置升降机高度来改变NaI(Tl)探测器对放射源所张的立体角,从而达到改变γ探测效率的目的,进而通过γ效率拟合外推得到放射源的活度。经过对两种241Am溶液20多个源的测量,测量结果与2πα屏栅电离室活度测量结果在不确定度范围内符合一致,且其测量不确定度降到了0.4%以内。     

一种通过渐进拟合外推计算α放射性比值的方法

根据α能谱中常见的238Pu与239Pu+240Pu能峰难以完全分开且238Pu拖尾较为严重的情况,采用一种渐进拟合外推的解谱方法来计算各能峰的峰面积,进而计算α放射性比值。渐进拟合外推方法基于峰拖尾计数逐渐减少时整个能峰的面积越来越逼近能峰面积真值这一总趋势特点,进行拟合外推而得到能峰的总面积。在30多个能谱中的使用结果表明,这一方法是准确和可靠的。     

符合法原理及其在活度测量中的应用

通过对具体事例分析,概括出符合法的基本原理,并提出了理论上符合方法应遵守的条件。分析和解释放射性活度绝对测量中效率曲线变化的原因、死时间在符合测量中的影响程度等重要问题,为符合法绝对测量放射性活度提供了理论基础。     

高精度数显转台

我们与广州机床研究所、湖滨仪器总厂和航天部708所合作,研制成功高精度数显转台,经中国计量科学研究院检定,其分度精度已达到:分度精度(整度数分度精度):±0.15角秒;准确度(任意分度精度)±0.96角秒。该转台可用于按角分度的孔系、表面等的测量,也可作为坐标测量机或立式坐标镗床的附件。主机:数显转台主机(机械部分)采用坐标镗床用高精度转台改制。所有关键零件和主     

感应同步器数显装置在卧镗上的安装和应用

卧镗主要用来加工箱体类零件和复杂的有坐标尺寸要求的零件,过去我厂加工时是用块规和百分表来确定坐标位置,精度差、效率低、操作不方便75年开始我们在一台旧式T611A卧镗上采用了直线感应同步器数显装置后,保证了精度,提高了效率,到目前为止,实际使用近十年,已取得了较好的效果。该机床坐标定位精度在全行程内可达到0.03毫米,座标加工精度可达到0.05毫米,提高效率在10％以上。     

W颗粒增强Ti基金属−金属复合材料的准静态和动态力学行为

Ti基金属?金属复合材料具有良好的强度和塑性等综合性能.采用扫描电子显微术(SEM)、X射线衍射(XRD)、材料力学性能试验、分离式霍普金森压杆(SHPB)、MATALAB软件等分析技术研究了W颗粒增强Ti基金属?金属复合材料(Ti-W)在准静态和动态下的力学行为.结果表明:Ti-W复合材料具有β-Ti相和β-W相组成...     

基于屏栅电离室的双参数谱仪研制及其应用

以屏栅电离室为基础，同时引出其阳级和阴极信号，研制了1台能够同时记录两路信号的双参数谱仪，在DEC－3000工作站上编制程序，实现了双维谱数据的获取、显示和存储。利用所建立的谱仪，测量了α放射源的双维谱，计算了α粒子的角分布，并讨论了如何利用角分布来校正活度测量中自吸收和反散射的影响以及改善电离室阳极能谱的能量分辨率。     

Φ2.4×(4.5 2)m风扫煤磨系统的操作管理经验

我厂新线1000t/d窑外分解生产线煤粉制备系统采用Φ2.4×(4.5 2)m风扫式煤磨作为主机设备。此系统由天津水泥设计研究院设计,主机由山西东方化工机械厂制造,引窑尾废气作为烘干热源,设计产量为9t/h,煤磨系统自1995年8月投产以来,生产一直较为正常,煤粉的产量质量完全可以满足窑系统的需要。 1 工艺流程(见图1) 原煤由均化库经1号皮带输送机进入原煤破碎机,出破碎机后经提升机提升2号皮带输送机,再输     

脉冲偏压电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜的结构与硬度

采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积Ti／TiN纳米多层硬质薄膜,通过仅改变偏压幅值的方法进行对比实验。XRD分析和薄膜断截面SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构;硬度测试表明纳米多层薄膜硬度随脉冲偏压升高而升高。在-900V时超过同等条件制备的TiN单层薄膜,硬度高达34．1GPa;分析表明硬度的提高主要与脉冲偏压工艺对薄膜组织的改善有关;用脉冲偏压电弧离子镀可以制备纳米多层硬质薄膜,并且在工艺控制上相对简单。