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双氧水在铜纳米粒子催化刻蚀n型单晶硅中的影响研究
洪世豪
郑达敏
马亮
李绍元
陈秀华
马文会
《表面技术》
2022,51(1):257-264
目的 在反应速率温和的前提下,在n型单晶硅片表面制备低反射率的纳米倒金字塔绒面,研究H2O2浓度对铜纳米颗粒的沉积及刻蚀行为的影响.方法 利用铜纳米粒子催化刻蚀方法对金刚线切割n型单晶硅进行表面织构化处理,利用扫描电子显微镜观察制绒后硅片表面微观形貌,利用紫外-可见分光光度计测试并计算硅片表面反射率,并分析铜催化刻蚀形...
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