反腐倡廉建设中党校的价值体现及其实施路径

党校教育在预防腐败中的基础性作用价值,包括党校教育对形成反腐倡廉思想潜移默化作用、积极的导向作用等,反腐倡廉中党校价值的实施路径,则主要体现在:突出重点,着力提高党校教育的贡献度,强化党校作为执政党思想输出的主渠道作用等。     

不同活化工艺对电解镍始极片结合力及性能的影响

目的为了提高电解镍始极片与基体的结合力,增加镀层耐蚀性能,改善镀层质量。方法通过采用不同的活化工艺对基体进行表面处理后制备镀层,采用划格法测试镀层与基体的结合力,用场发射电子扫描显微镜观察镀层与基体的截面形貌,用X射线衍射仪(XRD)分析镀层的相组成、应力以及镀层晶粒尺寸大小,用电化学工作站研究镀层的耐蚀性能。结果基体经过活化工艺处理后,镀层与基体结合均匀、致密、完整,大幅提高了镀层与基体的结合力,改善了镀层质量,镀层内应力由287.2 MPa降低到220.0 MPa,并且活化工艺不会给镀层引入其他杂质元素以及改变晶粒尺寸大小。电化学性能测试后发现,经过活化工艺后的镀层耐蚀性能增大,自腐蚀电位由-0.5481 V升高到-0.3980 V;自腐蚀电流密度由9.941μA/cm~2降低到2.927μA/cm~2。结论钛基体经过活化处理后,生成一层薄的活化膜,这层活化膜通过提高钛基体的表面活性,改变钛基体表面状态,来提高金属电沉积层与钛基体的结合强度,同时镀层的综合性能也得到了改善。     

从规范引用文件反思地方标准的质量问题

由于缺乏客观量化的评价指标，地方标准的质量问题是一项较少被深入研究的课题。在现有地方标准质量良莠不齐，不合格标准大量产生的背景下，本文从地方标准规范性引用文件存在的问题入手，对导致地方标准质量下降的深层次原因进行了反思，以期广大标准化工作者关注地方标准的质量，共同提升地方标准的质量与水平。     

热轧温度对电解厚镍性能影响的研究

通过Gleeble-3500热模拟试验机对电解厚镍进行热加工,研究不同的热轧工艺下电解厚镍的晶面取向、晶粒度、组织、耐蚀性以及电化学溶解性能的变化。采用X-射线衍射仪分析热轧加工后电解厚镍的晶面取向及晶粒度;采用金相显微镜观察电解厚镍的金相组织;采用电化学工作站测试电解厚镍的耐蚀性以及溶解性能。结果发现电解厚镍在热轧加工过程中,产生了严重的变形织构,使电解厚镍呈现(220)晶面取向择优,同时伴随着晶粒粗大等问题。电化学测试表明热轧加工改变了电解厚镍的耐蚀性能和溶解性能,经热轧加工后的电解厚镍,其自腐蚀电位由-475 m V变为-401 m V,自腐蚀倾向降低,耐蚀性能提高;自腐蚀电流密度从603.7 m A/m~2降低到216.2 m A/m~2,腐蚀速率减慢;电化学溶解速率减缓,溶解性能与INCO镍较为接近。     

关于屋面防水设计的探讨

通过分析建筑屋面长期存在的渗漏问题,探讨了屋面防水设计中防水等级的确定,防水方案的制订,防水材料的选用,屋面排水设计,防水节点的设计五个重要环节,以解决屋面渗漏问题,从而保证建筑物的质量。     

载气流量对CIS薄膜性能的影响

采用Cu-In预制层后硫化法制备CuInS2（CIS）薄膜。研究了硫源处载气流量对薄膜形貌、成分及结构等的影响。用扫描电镜（SEM）、能量色散谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）对薄膜形貌、成分、结构进行了表征,并用扩散生长模型加以解释。结果表明,具有CuIn和CuIn2混合相的Cu-In预制膜,在不同的载气流量下,硫化后所制备的薄膜均具有CIS/CuxIny/Cu结构。检测结果支持铜、铟离子穿过先期生成的CIS膜向外扩散,在表面处与硫反应生成CIS的生长模型。     

铝合金型材粉末喷涂前处理工艺综合比较分析

探讨了铝型材粉末喷涂前处理的不同方法,主要涉及酸性除油和碱性除油及无铬钝化和有铬钝化方法。通过比较刻蚀量、钝化膜膜重、耐酸碱腐蚀试验和砂浆腐蚀试验等方面的综合数据,评估了不同前处理工艺的效果,并利用扫描电子显微镜（SEM）、能量色散X射线光谱（EDS）对经前处理后铝型材的表面微观形貌和元素组成进行了初步分析。值得注意的是,进行了48 h的酸碱浸泡腐蚀试验和1个月的砂浆模拟腐蚀试验,这些试验是在现行国标GB/T 5237.4-2017检测方法基础上进行的,显示出超越国标的腐蚀破坏性,以快速区分不同前处理工艺的耐蚀性优劣。结果表明,不同前处理工艺对粉末涂层的耐蚀性有显著影响,其中酸性除油和有铬钝化工艺表现出最佳的耐腐蚀性能,其次是酸性除油和无铬钝化工艺,最后是碱性除油和无铬钝化工艺。     

不溶性阳极材料对电解镍始极片的影响

实验分别研究了铅板、石墨及钛基二氧化铅作为阳极材料时,其对电解镍始极片的槽电压、电流及槽液p H的影响。通过扫描电子显微镜及电化学工作站,观察和测试了三种阳极材料获取的始极片的微观形貌及极化曲线。结果表明,钛基二氧化铅作为阳极时,其槽电压、电流及槽液p H较为稳定,获取的始极片外观均匀、组织紧密,溶解性能好,优于其他两种阳极材料。     

工艺条件及镀液杂质对瓦特镍镀层内应力的影响

为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu~(2+)、Zn~(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加;另外,在生产中为降低镀层的内应力,还需严格控制硫酸镍品质。     

氧对CIS薄膜太阳能电池开路电压的影响

采用硫化Cu-In前驱膜的方法制备CuInS2薄膜,通过分析CIS薄膜制备过程中不同阶段样品中的氧,讨论了氧的来源及其存在形态,以及对CIS层开路电压可能造成的影响。用扫描电镜（SEM）和能量色散谱仪（EDS）研究前驱膜的形貌及其成分,用X射线衍射仪（XRD）表征薄膜的结构,用俄歇电子能谱（AES）对硫化薄膜中各元素沿深度方向的分布进行了检测,最后用I-V测试仪对硫化膜的开路电压进行测量。结果表明,CuInS2薄膜中的氧来源于Cu-In前驱膜,氧主要以Cu2In2O5的形式存在于CIS/Cu-In界面处,由于氧化物在硫化反应过程中影响了Cu和In向外表面的扩散,从而影响了CIS薄膜的成分和CIS太阳能电池的性能。