首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   11篇
  免费   0篇
  国内免费   2篇
综合类   1篇
金属工艺   5篇
无线电   1篇
一般工业技术   1篇
原子能技术   4篇
自动化技术   1篇
  2021年   2篇
  2020年   1篇
  2019年   1篇
  2018年   2篇
  2015年   1篇
  2014年   2篇
  2005年   1篇
  2004年   1篇
  2003年   1篇
  2002年   1篇
排序方式: 共有13条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1.
研究钼添加对CrN涂层微观结构和抗氧化性能的影响,采用反应磁控溅射法在硅片和高速钢片上制备不同Mo含量的Cr-Mo-N涂层,并在500~800 ℃的高温空气中退火1 h,用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱和扫描电子显微镜(SEM)对涂层退火前后的微观形貌进行表征。沉积的CrN和Cr-Mo-N涂层均表现出基于CrN晶格的B1面心立方相(fcc)。Mo离子取代Cr-N晶格中的Cr离子,形成Cr-Mo-N固溶体。在600 ℃时,XRD和拉曼光谱表明,Mo含量较高的Cr-Mo-N涂层中形成MoO3相,表面较粗糙,含氧量较高。在700 ℃时,CrN涂层由于内应力的作用,其横截面形貌为疏松的柱状晶,并有一定的多孔区,而Cr-Mo-N涂层则为致密的柱状晶结构。低Mo含量(<17at%)的Cr-Mo-N涂层比CrN涂层具有更好的抗氧化性。  相似文献   
2.
1月1月1日赵志祥院长、舒卫国院党委书记向全院职工、离退休老同志、职工家属和驻院武警官兵至新春贺辞。1月15日作为中国核工业创建50周年庆典活动的一部分,我院隆重举行升旗仪式。副院长张昌明宣读了核工业精神和集团公司企业精神、企业宗旨。升旗仪式由院党委常委邵焕会主持  相似文献   
3.
利用直流磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材,在普通载玻片上制备了AZO(Z n O:Al)薄膜。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和四探针法对薄膜的光电学性能进行了测试。结果表明:控制好工艺参数可以制备出致密、均匀并具有良好的光电性能的AZO薄膜;并计算了带隙能量和折射率。  相似文献   
4.
目的研究N_2气流量比对直流反应磁控溅射Mo-N涂层结构、力学性能和摩擦性能的影响。方法采用直流反应磁控溅射技术在304不锈钢基体表面制备Mo-N涂层,对涂层结构进行X射线衍射(XRD)分析,对涂层形貌和磨痕形貌进行扫描电镜(SEM)分析,采用维氏显微硬度计测试涂层的显微硬度,采用划痕法表征涂层的结合强度,采用球盘式摩擦磨损试验仪评价涂层的摩擦磨损性能。结果随着N_2气流量比R从0.3增加至0.7,涂层主要由面心立方γ-Mo2N相构成,当R为0.7时,制备的涂层中出现少量的六方δ-MoN相。涂层的显微硬度先降低后增加,最高硬度可达3060HV。结合强度先增加后降低,当R为0.4和0.5时,涂层的结合力较高,约为40N,且具有较好的摩擦学性能,平均摩擦系数约为0.22,磨损形式主要为磨粒磨损。结论在基体温度为300℃时制备涂层,N_2气流量比在0.3~0.7的范围变化对涂层相结构的影响较小。硬度相对较高时,结合力越好,摩擦学性能越好。  相似文献   
5.
采用直流反应磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti奥氏体不锈钢表面沉积Cr N涂层,利用SEM、XRD、显微硬度仪、划痕仪和摩擦磨损试验仪研究了基体温度对涂层组织结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响。结果表明,Cr N涂层主要呈现出fcc结构,并存在(111)晶面择优取向,基本温度为100℃时制备的涂层(111)和(220)取向竞争生长,300℃时制备的涂层(200)晶面生长增强;涂层的表面晶粒主要呈现三棱锥形貌;基体温度对涂层的力学性能影响较大,300℃时制备的涂层显微硬度和结合力的最高值分别达到1900 HV和50 N;涂层磨损率随基体温度的升高而降低。  相似文献   
6.
目的在碱液腐蚀制备多晶硅表面织构过程中施加具有方向性的强磁场,研究强磁场对多晶硅表面织构减反射的影响。方法在非磁场和1、2、3、4 T磁场作用下,用NaOH溶液腐蚀制备多晶硅表面织构,用电子天平称量表征硅片腐蚀程度,用奥林巴斯LEXTOLS4100共聚焦显微镜观察多晶硅片表面形貌,用Ocean Optics USB4000光谱仪测量多晶硅片的反射率,用WT-1200硅片测试仪测量样品少子寿命。结果随磁感应强度的增大,多晶硅片的腐蚀程度增强,多晶硅片腐蚀程度由非磁场条件下处理的2.1%,变化为磁感应强度为1 T时的2.8%,2 T时的3.9%,3 T时的5.3%,到4 T时的6.3%,同时多晶硅表面织构变得均匀且细腻。多晶硅片的反射率随磁感应强度的增大而降低,由非磁场条件下处理硅片的23.9%,变化为磁感应强度为1 T时的19.2%,2 T时的17.5%,3 T时的15.9%,到4 T时的14.5%。另外,随磁感应强度的增大,多晶硅片少子寿命略有降低。结论在碱液腐蚀制备多晶硅表面织构过程中施加强磁场,多晶硅片腐蚀程度增强的同时,表面织构的微结构更趋合理,减反射效果显著。  相似文献   
7.
1月 1月6日 总装备部李安东副部长来我院视察。陪同来院的还有总装备部科技委委员钱绍钧院士、总装备部综合计划部部长阮朝阳、军兵总部副部长丛日刚、电子信息部副部长刘海成及中核集团总经理李定凡、副总经理黄国俊等。 同 日 中国实验快堆常规岛安装及调试合同在安  相似文献   
8.
1月 1月4日召开院务会议,同意原工会所属文化活动中心划归后勤集团物业管理部。除礼堂和多功能厅外,原则上人员随资产移交后勤集团。会议由赵志祥院长主持,朱天玉、李金英、杨河涛、张昌明等领导出席了会议。  相似文献   
9.
考虑拉曼频移的精确度对分析样品结构及内部的应力和掺杂等起至关重要的作用,研究了中心波长的改变对拉曼光谱仪测量精度的影响。首先通过研究拉曼散射光的波长与CCD像素的位置的对应关系,从理论上解释了中心波长的改变对拉曼光谱仪测量精度的影响。其次,以TiO_2粉末为实验对象,采用拉曼光谱仪在不同的中心波长下测其拉曼谱峰。实验结果表明:测量中更改不同的中心波长,即采谱范围的变化使测得的拉曼频移精度较差,标准偏差接近4cm~(-1);采谱范围变化后,光谱仪先经标准硅样校准测其拉曼频移精度较高,标准偏差小于1.5cm~(-1)。  相似文献   
10.
1月1月2日中核集团公司副总经理孙勤等领导在院领导赵志祥、舒卫国、邵焕会的陪同下,慰问了困难职工贾占礼等同志。1月4日俄供快堆首批设备的专列,安全抵达我院并全部顺利入库。1月5日经院研究决定,对原院级不合格品审理组进行调整。组长赵志祥、副组长李金英、张锦荣,成员姜兴  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号