AF法银氧化镉合金

本文叙述用高压气体喷雾法制取Ag—Cd合金粉末在空气中内氧化,经复层压制成形、烧结、随后热加工(简称AF法)制取Ag—CdO系合金的过程。列出合金的物理性能及合金的金相组织,并作初步经济分析。文中还介绍AF法生产的Ag-12CdO合金配用于上海华通开关厂生产的大电流交流接触器CJ_(15)—2000A/1000V—3 及CJ_(15)—4000A/1000V—1 ,安装在西安电炉厂生产的10吨工频电炉上,在第二汽车制造厂动力分厂现场使用结果(报告、用户评价)以及AF法生产的电触头在湘潭电机厂生产直流接触器CZW—1000A/700V的使用情况。     

用于3～5μm中红外固体激光器的光学薄膜

文章介绍了一种3-5μm中红外固体激光器所用光学薄膜的制备过程，重点说明如何进行膜系设计、工艺实验等，研究的目的是最终使中红外激光器光参量振荡器中输入镜和输出镜的指标达到用户要求。     

学创结合发展我国低压电器触头材料

低压电器是输送与分配低压电能的主要元件,它的性能及寿命直接影响到四化建设和人民的生活。而电触头又是低压电器用来通断电流的关键零件,因此触头材料的物理机械性能及电气性能将直接影响整个低压电器的工作稳定性、可靠性及使用寿命。我国早在五十年代末期就生产了Ag-CdO系、Ag-W系、Ag-C系及Ag-Ni系列触头材料,使我国低压电器的工作性能及寿命得到了显著提高。但是应当指出,目前我国触头材料的研究与生产同国外先进水平相     

仲钨酸铵对Ag-Sn合金粉末的氧化作用

本文采用氧化增重法（TGA），研究了添加少量仲钨酸铵（APT）对Ag-Sn合金粉末的氧化作用，用X射线衍射仪，电子探针和金相分析了粉末氧化前后相的转变、氧化物的分布、形貌。结果表明，Ag-Sn APT混合粉末的氧化规律服从Wagner理论；APT的分解产物及形成的新相Ag2WO4作为活性氧原子源，促进Sn的氧化，添加剂APT在0－2．26wt%成分范围内和相同温度、相同氧化时间条件下，氧化速率随添加量增加而加快，随氧化温度的提高，氧化速率加大，如在800摄氏度下的氧化速率大于700摄氏度下的氧化速率。     

用于镀制超薄银膜的一种有效的监控方法

银经常被应用于制备诱导增透滤光片,在这种宽带滤光片中,银膜的厚度一般在几个纳米,这样使得精确监控银的厚度很困难。提出一种简单易行的改进方法,通过在蒸发源上方加一个调速挡板,结合晶振膜厚仪,可以获得±0.4nm以内控制精度的超薄银膜。     

离子束刻蚀光学薄膜的速率定标技术

离子束刻蚀技术现在越来越多被应用在可见光乃至红外薄膜中,在这一技术中最为关键的环节就是如何精确地测量离子源对薄膜的刻蚀速率,此速率因不同材料不同工艺条件而变化。现在利用光谱测量与数据拟合的方法,能够快速简便地测定出被刻蚀的材料的物理厚度,从而标定离子束刻蚀的速率。     

软X射线激光多层膜均匀性控制技术

软X射线激光技术在近年来得以较快的发展,而多层膜是其不可缺少的一项基础技术,软X射线激光多层膜本身的要求使得多层膜的结构性需达到很高的水平.现就软X射线激光多层膜的均匀性控制技术进行研究,以期得到更加精确的膜层结构.     

粉末强化超细晶银触头材料的研制

以喷雾法制取的含有微量Ｍｇ及Ｎｉ元素的银合金粉（简称ＡＭＮ合金粉）为原料，通过压形、烧结内氧化、挤压等方法制取了晶粒小于１μｍ，显微硬度为１４０ｋｇ／ｍｍ＾２，电阻率为２．０６μΩ·ｃｍ的烧结超细晶银触头材料。对比研究表明，此三项指标优于纯银触头。讨论了ＡＭＮ材料的硬化机理，提出了改善ＡＭＮ线材料性能的工艺措施。     

16通道微型集成滤光片制备技术的研究

多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展,而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件,需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术.提出了组合刻蚀法布里-珀罗(F-P)滤光片间隔层的方法,将光学薄膜制备技术,离子束刻蚀技术与掩膜法技术相结合,形成新的多通道集成滤光片的制备方法.并在单个微型基片上,成功制备了集成16通道窄带线阵滤光片,获得的单元滤光片几何线宽为0.7mm,相对半峰全宽优于1.0%,透射峰定位精度优于0.25%.这一方法不但可满足集成度更高的滤光器件的要求,而且拓展了薄膜制备的方法.