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研究在不同工艺条件下用直流反应磁控溅射技术在T10衬底上制备Cr-N涂层,并采用光电子能谱仪和XRD依次分析Cr-N涂层的表面结构和工艺参数对Cr-N涂层成分及相组成的影响。结果表明,Cr-N涂层在存放一段时间后表面产生复杂的Cr2O3相以及Cr(O2 N)x相;常温下随着N2含量的增加,涂层相结构逐渐由Cr转变为化学比的CrN相。当N2含量为33-3%时,Cr-N涂层的相成分主要为Cr2N+CrN。并发现衬底偏压直接影响Cr-N系涂层的晶态及取向特征,当偏压增加到-130V时,Cr-N涂层中β-Cr2N相结构逐渐转变为(110)和(300)取向结构。 相似文献
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采用反应非平衡磁控溅射技术制备出一系列LY12铝合金基CrTiAlN多层涂层,并通过X射线衍射仪、纳米压痕仪以及多功能摩擦磨损测试仪来研究CrTiAlN涂层的结构、力学以及摩擦学特性。结果表明:CrTiAlN涂层为以TiN0.9和CrN为主要组织取向的FCC结构,N2水平和衬底负偏压对涂层的力学特性和粘附强度有显著的影响。经过优化参数,在衬底偏压?55V和中N2水平条件下,CrTiAlN涂层的结合强度为10 N,显微硬度达到29.87 GPa。 相似文献
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分析高素质科研人才培养存在的问题,提出高素质人才成长所需要的环境. 相似文献
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采用反应非平衡磁控溅射技术在青铜及Si(100)衬底上沉积不同负偏压(Vb)的纳米ZrNbAlN薄膜。薄膜结构及成分采用X射线光电子能谱及X射线衍射进行表征。结果表明,Zr和Nb的原子浓度受负偏压影响,Vb导致N 1s谱和Al 2p谱的结合能增加及Zr 3d5/2和Nb 3d5/2谱的结合能降低,薄膜表面形貌的演化受控于Vb。X射线衍射谱显示这些薄膜具有(111)择优取向。此外,薄膜的力学特性及腐蚀行为分别通过纳米压痕测试及腐蚀测试表征。当负偏压为-70 V时,纳米压痕测试显示的最大显微硬度为21.85 GPa,ZrNbAlN膜在青铜衬底上的性能远优于未涂层处理的衬底。在0.5 mol/L NaCl和0.5 mol/L HCl溶液中的腐蚀实验表明,腐蚀势能及腐蚀电流依赖于衬底偏压,在-90 V时能够获得较高的抗腐蚀特性。 相似文献
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对比测试了丙烯酸、环氧树脂、有机硅、陶瓷有机硅和氟碳树脂等5种有机涂层在镁合金压铸件上的附着力、铅笔硬度、光泽度以及耐盐雾性能,并对各涂层工艺进行了经济成本核算和技术经济评价。结果表明,不同的有机涂层具有不同的技术经济特性。环氧树脂涂层在腐蚀防护上具有显著的技术经济优势;陶瓷有机硅涂层和氟碳树脂涂层在硬度、光泽度方面性能突出,但耐蚀性一般且成本高,技术经济特性一般;有机硅涂层各项性能适中,且成本低廉,经济性能较好;丙烯酸树脂涂层成本低廉,但耐蚀性能差,制约了涂层的应用,缺乏技术经济优势。 相似文献