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电参数对Ti6Al4V合金微弧氧化陶瓷膜结构特性的影响 总被引:19,自引:0,他引:19
采用交流微弧氧化法于Na2SiO3-KOH-(NaPO3)6。溶液中在Ti6A14V表面形成了氧化物陶瓷膜.研究了微弧氧化电压与频率对陶瓷膜的生长速率、组织形貌和相组成的影响.结果表明:随电压的升高或频率的减小,膜层的生长速率增加,膜层的表面质量变得粗糙.相对致密均匀的膜层主要由TiO2(锐钛矿相及金红石相)相组成,电压与频率电参数影响膜层的相组成,随电压的升高和频率的减小,膜层中锐钛矿相TiO2的相对含量减小,金红石相TiO2的相对含量增加,并成为主晶相. 相似文献
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书 名:马氏体相变与马氏体(第二版)作 者:徐祖耀出版社:科学出版社出版年月:1999年9月字 数:754000马氏体相变与马氏体研究从1924年Bain的马氏体相变模型开始,已历经70余载久盛不衰,至今仍充满活力,不断发展,所涉及的材料跨越铁和铁合金、非铁金属与合金以及陶瓷等无机非金属材料。多年来,无数冶金和材料科学家、物理学家乃至力学家和数学家在这个广博的领域辛勤探索,不断取得丰硕成果。近代形状记忆与超弹性材料、电子陶瓷以及若干信息功能材料的高新技术产业发展也无不与马氏体相变研究密切相关。《马氏体相变与马氏体》修订… 相似文献
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10.
交流窄脉冲占空比调制对钛合金微弧氧化陶瓷涂层的影响 总被引:7,自引:0,他引:7
采用交流窄脉冲微弧氧化法于Na2SiO3-KOH-(NaPO3)6溶液中在Ti6A14V表面形成了陶瓷化涂层。用常压氧化方式(U=500V),研究了正脉冲占空比对涂层生长速率、组织形貌和相组成的影响。为优化工艺,采用常流氧化方式(J=60mA/cm^2),并提出了占空比分级调节制度。结果表明:常压方式下,随正脉冲占空比的增大,涂层的生长速率增加,涂层的表面逐渐变得粗糙。涂层主要由TiO2(锐钛矿相及金红石相)相组成,随占空比的增大,涂层中锐钛矿相TiO2的相对含量减小,金红石相TiO2的相对含量增加,并成为主晶相。正脉冲占空比为8%时可获得组织结构较致密且较厚的涂层。采用常流氧化方式,涂层的生长速率比常压方式明显增加,进而对占空比进行分级式调节可使涂层的表面结构得到改善。 相似文献