以Al2L3／AlN为复合绝缘缓冲层的ZnO—TTFT透过率的研究

采用射频反应磁控溅射的方法，以ITO（铟锡氧化物）玻璃为衬底，在Al2O3／AN复合栅极绝缘层上沉积有源层ZnO薄膜，并以Al作为透明薄膜晶体管器件源极和漏极，通过XRD、透射光谱研究了透明薄膜晶体管的有源层ZnO的结晶情况以及对器件在可见光范围内的透过特性的影响，得出以Al2O3／AlN为复合缓冲层薄膜晶体管，在400℃温度下退火处理后，ZnO有源层有较好的c-axis（002）择优取向，器件在可见光的范围内整体透过率在88%以上，从而实现了ZnO-TFT器件在可见光范围内的透明。     

浅谈如何控制模具数控加工质量

随着汽车产业的蓬勃发展,车型开发中自由曲面所占比例不断增加,且产品质量要求不断提高,都对曲面的制造精度提出了更高的要求,也对数控加工的精度及质量提出更高的要求。下面简要从机床、刀柄、刀具、加工工艺、软件等方面浅谈一下控制数控加工质量应采取的措施。     

薄膜晶体管研究进展

薄膜晶体管是液晶显示器的关键器件，对显示器件的工作性能具有十分重要的作用。本文论述了薄膜晶体管的发展历史，描述了薄膜晶体管的工作原理，分析了非晶硅薄膜晶体管、多晶硅薄膜晶体管、有机薄膜晶体管、ZnO活性层薄膜晶体管的性能结构特点与最新进展，并展望了薄膜晶体管的应用。     

LED背光液晶显示器的色彩管理及其特征化方法研究

色彩管理技术是实现色彩在各种设备之间传输和再现一致性的重要技术,它已经成为操作系统的一个重要组成部分。文章综述了基于ICC标准的色彩管理技术的原理,介绍了LED背光液晶显示器特征化的实现方法及将来的研究方向。     

不同的制作方法对ZnO-TTFT光学特性的影响

采用磁控溅射和电子束热蒸发方法制备了ZnO-TTFT(ZnO基透明薄膜晶体管)器件,通过XRD和透射光谱对两种不同制作方法的样品性质进行分析比较,得出采用溅射法制备的ZnO-TTFT器件有源层的ZnO薄膜从结晶化程度、表面粗糙度及透过率都较采用电子束蒸发制得的ZnO薄膜优异,制得器件的有源层有较好的c-axis(002)方向择优取向,器件的平均透过率在85%以上。研究了退火处理对器件性能的影响,发现快速热退火有利于改善薄膜的晶化,降低缺陷态密度,提高器件的透光性。     

对不同制备方法下的ZnO基薄膜晶体管透过率的研究

文章主要是研究采用磁控溅射和电子束热蒸发两种制备方法来制备ZnO—TFT器件，并通过XRD和透射光谱来对样品的性质进行分析比较，得出采用溅射法制备的ZnO-TFT器件有源层的ZnO薄膜从结晶化程度、表面粗糙度及透过率都较采用电子束蒸发制得的ZnO薄膜优异，其有较好的c-axis（002）方向择优取向，器件的平均透过率在85％以上。并研究了退后处理对器件性能的影响，并发现快速热退火有利于薄膜的晶化，降低缺陷态密度。     

基于ICC标准下显示器色彩管理研究

色彩管理技术是实现色彩在各种设备之间传输和再现一致性的重要技术,它已经成为操作系统的一个重要组成部分.本文介绍了ICC标准下显示器的色彩管理原理,对市场上现有的ICC文件生成软件和自行研发的软件设备做了分析和比较.     

以Al2O3/AlN为复合绝缘缓冲层的ZnO-TTFT透过率的研究

采用射频反应磁控溅射的方法,以ITO(铟锡氧化物)玻璃为衬底,在Al2O3/AlN复合栅极绝缘层上沉积有源层ZnO薄膜,并以Al作为透明薄膜晶体管器件源极和漏极,通过XRD、透射光谱研究了透明薄膜晶体管的有源层ZnO的结晶情况以及对器件在可见光范围内的透过特性的影响,得出以Al2O3/AlN为复合缓冲层薄膜晶体管,在400℃温度下退火处理后,ZnO有源层有较好的c-axis(002)择优取向,器件在可见光的范围内整体透过率在88%以上,从而实现了ZnO-TFT器件在可见光范围内的透明.     

双针床经编织物CAD软件的开发

从理论上建立了双针床经编织物的数学模型。计算机可以直接接受双针床经编组织，自动将其转换为设定的数学模型。并对由垫纱数码描绘垫纱图，由穿经循环描绘穿经图，由垫纱数码和穿经循环描绘效应图等进行了数学描述。以上述理论为基础，开发了运行在Ｗｉｎａｏｗｓ９５下的双针床经编织物ＣＡＤ软件。