感光颗粒内碘离子的分布与乳化方法的关系

本文利用X射线光电子能谱法和X射线衍射分析,研究了双注法高感乳剂乳化过程中,碘离子的引入时刻对于乳剂颗粒内碘离子分布情况的影响。结果表明,一般说来,碘离子引入得愈早,则其出现在颗粒表面的可能性愈小;引入得愈晚,其位置愈靠近颗粒的表面。但是,早期引入碘离子同时,还有另一种效应,即倾向于使碘离子在体系中均匀分布,从而使其出现在颗粒表面的概率增大。有若干事实说明,这种“均化”效果可能是早期形成的碘化银或碘溴化银晶体在乳化过程中进行重结晶而引起的。在所有情况下,颗粒表面上均发现一层极薄的富碘层,其原因之一可能是碘离子在颗粒表面的富集可减少碘溴化银晶格的畸变。     

MoO_3-NiO-P_2O_5/γ-Al_2O_3体系表面酸性的研究

本文对MoO_3-NiO-P_2O_5/γ-Al_2O_3体系及其各组成部分的表面酸性进行了系统的研究.结果表明,MoO_3、P_2O_5分别负载到γ-Al_2O_3上时,表面酸性提高;把P_2O_5加入到MoO_3/γ-Al_2O_3或MoO_3-NiO/γ-Al_2O_3中,表面酸性都有所下降.这种下降的趋势与引入P_2O_5的方式无关.澄清了有关文献中一些不确切的提法.提出在一定的组成条件下,表面上可能形成与杂多酸中类似的Mo-O-P键合,以及MoO_3-NiO-P_2O_5/γ-Al_2O_3催化剂优越的脱碱氮特性可能与p_2O_5对催化剂表面酸性的这种调节作用有一定关系等观点.     

MoO_3-NiO/γ-Al_2O_3体系中镍对MoO_3在γ-Al_2O_3表面分散量的影响

采用浸渍法制备了一组 NiO/γ-Al_2O_3样品,经550℃焙烧24小时,由 UV 漫反射光谱测定结果表明,当镍含量低于它在γ-Al_2O_3表面上的分散阈值(0.09g NiO/100m~2)时,镍处在氧的四面体和八面体两种配位中,以“表面镍尖晶石”的形式存在,当镍的含量超过此阈值时,同时出现 NiO 的特征谱带,以这些镍含量不同的 NiO/γ-Al_2O_3样品再浸渍上钼,制备了几组含镍一定量而 MoO_3载量不同的样品(450℃,24小时),应用 X 射线衍射,X 射线光电子能谱以及 UV 漫反射光谱等方法进行研究.结果表明:在 MoO_3-NiO/γ-Al_2O_3体系中,助催化剂 NiO会提高 MoO_3在γ-Al_2O_3表面的分散量,单层上处在八面体配位的镍或剩余的晶相 NiO 都能与 MoO_3相互作用,并有助于 MoO_3在γ-Al_2O_3表面分散,MoO_3在γ-Al_2O_3表面的最大分散量随 NiO 的含量的增加而增加.     

苯并二氢吡喃-4-酮的合成研究进展

综述了苯并二氢吡喃-4-酮类化合物的研究进展情况,分类阐述了氮杂环卡宾催化、金属催化、光催化及无金属催化等方法合成苯并二氢吡喃-4-酮类化合物的研究成果,为探究更为高效的苯并二氢吡喃-4-酮类化合物的合成方法提供了借鉴.     

氧氯化催化剂的吸附和反应性能及其活性位置——Ⅰ.氧氯化催化剂对HCl、乙烯和氧的吸附性能及吸附位置

氧氯化催化剂对反应原料气氯化氢、乙烯和氧气的吸附性能依次减弱,对氯化氢的吸附最强烈,在实验条件下对氧则未发现有吸附。催化剂对氯化氧的吸附量与其CuCl_2含量密切相关,CuCl_2含量增加,氯化氢吸附量减少,表明氯化氢的吸附位置可能在催化剂的无CuCl_2覆盖的γ-氧化铝表面。催化剂的乙烯吸附量强烈地依赖于它的氯化锕含量、干燥程度等。实验结果表明,乙烯的吸附位置可能是催化剂表面的一些配位不饱和的铜离子,如四配位的铜离子。实验结果和络合-还原-氧化机理一致。     

MoO_3-NiO/γ-Al_2O_3体系中镍对MoO_3在γ-Al_2O_3表面分散量的影响

采用浸渍法制备了一组NiO/γ-Al_2O_3样品,经550℃焙烧24小时,由UV漫反射光谱测定结果表明,当镍含量低于它在γ-Al_2O_3表面上的分散阈值(0.09g NiO/100m~2)时,镍处在氧的四面体和八面体两种配位中,以“表面镍尖晶石”的形式存在,当镍的含量超过此阈值时,同时出现NIO的特征谱带,以这些镰含量不同的NiO/γ-Al_2O_3样品再浸渍上钼,制备了几组含镍一定量而MoO_3载量不同的样品(450℃,24小时),应用X射线衍射,X射线光电子能谱以及UV漫反射光谱等方法进行研究。结果表明:在MoO_3—NiO/γ-Al_2O_3体系中,助催化剂NiO会提高MoO_3在γ-Al_2O_3表面的分散量,单层上处在八面体配位的镍或剩余的晶相NiO都能与MoO_3相互作用,并有助于MoO_3在γ-Al_2O_3表面分散,MoO_3在γ-Al_2O_3表面的最大分散量随NiO的含量的增加而增加。     

用低能离子散射谱研究MoO_3/γ-Al_2O_3的表面结构

本文用低能离子散射谱(ISS)研究MoO_3/γ-Al_2O_3催化剂的表面结构。ISS的I_(Mo)/I_(Al)与时间的关系即深度剖析曲线表明,MoO_3在γ-Al_2O_3上呈单层分散状态。样品顶层的MoO_3浓度与MoO_3总含量的关系表明,单层分散含量为MoO_3在γ-Al_2O_3上的几何单层量。焙烧温度增高时,~4He~+对顶层MoO_3的溅射速度显著变缓,说明通过焙烧,表面Mo—O—Al键有所强化,即活性组份与载体之间的相互作用加强。     

近代物理技术在多相催化研究中的应用(Ⅴ) 第五章 二次离子质谱与多相催化研究

<正> 一、引言二次离子质谱法是采用质量分析方法检测固体表面受离子轰击后发射出来的正二次离子或负二次离子。二次离子质谱法用英文首字母缩写为SIMS。其特点是有高的表面灵敏度。检测范围为表面1—2个原子层,检测极限一般小于10~(-6)表面单层。它能检测氢及其化合物,这是AES、XPS等表面技术所不能做到的。由于它的质量分辨率高,还可以鉴别同位素。通过对表面离子碎片的质量检测可以研究表面的化学组成、     

氧氯化催化剂的吸附和反应性能及其活性位置——Ⅱ.氧氯化催化剂的反应性能与活性位置

脉冲反应结果表明,氧氯化催化剂本身与乙烯的反应,和真正的氧氯化反应不仅产物相同,而且活化能相近,初始比活性都随Cu含量而增加。但在进行多次脉冲反应时,前者活性衰减直至失活,后者却有上长并趋平稳的趋势。Cu含量较低时,催化剂只能使HCl气氛下的乙烯转化为DCE,而不能与乙烯单独反应。表明前者可能确实是后者必经的第一步反应,活性位置是一些互相邻近、具有较多配位氯的Cu~(2+)离子。