基于周期极化晶体的QPM-SHG技术发展及其应用

随着新型高质量的非线性晶体的出现,准相位匹配技术成为非线性频率变换的最有效的方法。从周期极化晶体准相位匹配二次谐波发生器（QPM-SHG）的基本原理出发,简要介绍了实现周期极化晶体的方法和技术,总结了准相位匹配技术在光子学微结构晶体材料和波导材料中的最新研究进展和发展趋势,展望了用微结构波导QPM-SHG实现飞秒光纤光源的发展应用前景。     

双程放大技术在光纤放大器中的应用

双程放大技术是一种高效率、低成本的实用化放大技术。本文介绍了双程放大技术的优点及在各种放大器中的应用。     

高压退火气氛对溶液法制备a-IGZO薄膜光学特性的影响

利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影响。实验结果表明,当退火气氛为O₂时,压强由0.1 MPa增加到1.5 MPa,薄膜的光学带隙由3.23 eV增大到3.31 eV,表面粗糙层由6.77 nm降低到4.77 nm。与N₂气氛相比,1.5 MPa O₂气氛下薄膜的光学带隙有所提高,表面粗糙度也有所降低。因此,在1.5 MPa O₂气氛下,可以有效降低薄膜内部有机物的残留及缺陷,形成更加致密的非晶a-IGZO薄膜。     

反向抽运分布式光纤拉曼放大器的实验研究

实验研究了1425 nm和1453 nm双波长反向抽运50 km单模光纤的分布式光纤拉曼放大器(RFA)。利用改进的时域消光法测量了放大器的输出特性和光学信噪比(OSNR)随开关增益的变化关系。在C波段(1530~1564 nm)内,测得放大器的开关增益约为13 dB,增益不平坦度小于±0.6 dB,相对于双瑞利散射(DRS)噪声的光学信噪比为45 dB,总的光学信噪比为39 dB。同时还测量了信号光经过二级级联分布式光纤放大器传输后的特性,结果表明,与一级光纤拉曼放大器结构相比,二级放大器的开关增益和不平坦度都增大了一倍,而输出的光学信噪比减小了约2 dB。     

混合光纤喇曼放大器

混合光纤喇曼放大器是发挥各种放大器优势性能、提高放大质量的一种新的放大器发展方向。本文详细介绍了目前提出的各种混合光纤喇曼放大器,并对其各自的特点进行了比较全面的阐述和比较。     

虚影图像中去隔行算法的研究

在现代的测试系统中,大多数使用模拟的CCD隔行扫描捕获图像.由于隔行相机对运动图像捕获时,当运动目标的速度高于CCD的场积分时间时,相邻两场图像间就会发生位移,场图像合成帧图像会发生错位和虚影.本文采用三种模式方法对隔行虚影图像进行处理,一是当像素静止状态,采用前后两场内插;二是对运动状态,分别采用隔场基于块的运动估计和临场基于像素的运动补偿;三是中间状态,只能利用场内的信息来内插.最后对补偿后的图像采用中值滤波有效地抑制运动补偿的块效应.实验结论验证测试系统中隔行虚影图像得到很好的处理效果.     

正常色散光纤放大器中超短脉冲的自相似演化条件

在正常色散条件下,超短光脉冲在光纤放大器中可以演化成具有线性啁啾的自相似抛物脉冲,其演化结果可影响脉冲的压缩质量.采用分步傅里叶方法数值研究了正常色散光纤放大器中,初始输入脉冲宽度、能量、光纤增益和色散系数对超短脉冲自相似演化结果的影响.发现色散长度是脉冲能否实现自相似演化的关键因素.当色散长度与光纤长度相近(几倍)时,脉冲可以实现自相似演化;两者相差越大,脉冲的自相似演化程度越差.增加初始脉冲能量可以加速脉冲的自相似演化,缩短自相似演化的距离.放大器总增益一定时,增益系数越大,脉冲受非线性扭曲的影响越大,使脉冲的自相似演化结果越差;增益系数为0.95 m-1时放大器可获得的总增益比3.8 m-1时大3.3 dB.     

脉冲泵浦调Q光纤激光器的优化设计

从光纤激光器的速率方程出发,通过MATLAB编程对光纤激光器的瞬态特性及脉冲泵浦调Q光纤激光器的输出特性进行了数值模拟和优化设计.结果表明,通过脉冲泵浦使输出脉冲宽度被压窄,随着泵浦脉冲宽度和功率的增加,产生稳定激光的时间延长,而且伴随有次脉冲产生.     

自动清洗系统在液体在线水质分析仪表自动维护中的应用

介绍了超声波清洗在液体在线分析仪表中的应用、进口传感器自动维护系统的国产化及离子膜烧碱一次盐水酸度计应用实例。     

H_2O_2对溶液法制备a-IGZO薄膜光学特性的影响

基于溶液旋涂法和高压退火工艺制备了a-IGZO薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪以及原子力显微镜研究和分析了H_2O_2对薄膜的表面结构和光学特性的影响。实验结果表明,a-IGZO前驱液中不含H_2O_2的薄膜,退火温度从220℃升高到300℃,薄膜的光学带隙从3.03增加到3.29,而膜表面粗糙层由20.69nm降至4.68nm。在同样的高压退火条件处理下,与前驱液中没加入H_2O_2的薄膜相比,折射率显著增加并明显的降低了薄膜表面粗糙度。退火温度在300℃时,薄膜的光学带隙由3.29eV增大到3.34eV,表面粗糙层由4.68nm减少到2.89nm。因此,H_2O_2可以在相对低温条件下有效降低薄膜内部的有机物残留及微缺陷,形成更加致密的a-IGZO薄膜。证明了利用H_2O_2能够有效降低溶液法制备aIGZO薄膜所需的退火温度。