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服务于微电子产业的MEMS新技术 总被引:1,自引:0,他引:1
UV-LIGA技术是MEMS微细加工中一种非常重要的技术.结合厚胶工艺,可以利用金属电镀的方法制作出各种金属MEMS结构.UV-LIGA技术一方面由于其低温的特点可以很好的与后COMS工艺兼容,被用在片上集成高性能射频无源器件方面.另一方面,还可以将金属电镀工艺与硅微机械技术相结合,制作出用于圆片级测试的微机械探卡.文中主要介绍这种有产业前景的技术及其在器件制作上取得的成果. 相似文献
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基于光电管的智能车路径识别研究 总被引:4,自引:0,他引:4
基于模拟量的红外光电传感器设计一种智能车路径采集系统。在该系统中,对传感器的信号进行了归一化处理和标定,消除了器件不一致性和外界光线的影响,并提出一种新的游标卡尺法提取引导线位置。实验证明:该系统测量精度高,实时性好,能很好地满足智能车对路径识别性能和抗干扰能力的要求。 相似文献
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目的 研究了真空、大气2种环境下CrN涂层的热稳定性与氧化行为。方法 采用反应磁控溅射技术在(100)取向的P型单晶硅基底上制备了CrN涂层。利用真空热脱附谱(TDS)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、拉曼光谱(Raman)、X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)以及加装的能谱仪(EDS)等表征方法,研究了在不同温度下涂层的热稳定性与氧化行为。结果 在真空退火时,TDS结果表明CrN涂层中的N在664 ℃左右开始释放,在温度达到1 000 ℃时释放结束。而在温度高于900 ℃时释放速率和释放量开始迅速上升,在温度达到930 ℃时达到峰值。在加热过程中,涂层中的CrN相部分转变为Cr2N相,在温度达到1 000 ℃时,完全转变为CrSi2相。在大气环境中,当温度达到700 ℃时,涂层开始被氧化,涂层表面生成了一层约136 nm厚的致密氧化层,同时在氧化层下方生成了一层CrOxN1?x的过渡层,并且涂层也出现了Cr2O3的拉曼峰。当温度达到800 ℃时,Cr2O3氧化物拉曼峰和衍射峰的数量和强度显著增加,说明涂层表面生成的氧化物的结构由简单变为复杂,并且结晶性增强。此外,氧化物颗粒逐渐长大,氧化层厚度增加,在温度达到850 ℃时,氧化层厚度达到429 nm。当温度高于700 ℃时,CrN涂层沿着厚度方向的元素扩散行为是O元素的向内扩散和N、Cr元素的向外扩散,并且释放的N在氧化层下方富集,并没有释放出去。结论 CrN涂层在真空中的热稳定性在900 ℃左右,在大气中的热稳定性在700 ℃左右。在大气中致密的Cr2O3氧化层的形成对O元素的向内扩散和N、Cr元素的向外扩散具有很好的阻挡作用。氧化层的这种阻挡作用对涂层的内部起到保护作用,延缓了涂层进一步的氧化和分解,这是CrN涂层热稳定性较好的原因。 相似文献
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圆片级芯片测试在IC制造工艺中已经成为不可或缺的一部分,发挥着重要的作用,而测试探卡在圆片级芯片测试过程中起着关键的信号通路的作用。分析指出由于芯片管脚密度的不断增加以及在高频电路中应用的需要,传统的组装式探卡将不能适应未来的测试要求;和传统探卡的组装方法相比,MEMS技术显然更适应当今的IC技术。综述了针对MEMS探卡不同的应用前景所提出的多种技术方案,特别介绍了传感技术国家重点实验室为满足IC圆片级测试的要求,针对管脚线排布型待测器件的新型过孔互连式悬臂梁芯片和针对管脚面排布型待测器件的Ni探针阵列结构的设计和制造。 相似文献
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程融 《中国新技术新产品》2013,(12)
本文针对编织复合材料基体、成型技术、检测技术等方面进行了初步探索,着重分析了中空织物的结构型式、力学性能、成型等方面,以便于后续产品的研制和应用。 相似文献
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在飞行推进系统设计中研究了综合飞行/推进系统小偏离动态模型建立的方法,并得出了相应状态的综合飞行/推进系统的状态空间模型.对μ控制理论的控制及基本原理进行了分析.接着根据各项要求,选取了加权函数矩阵.构建了相应的广义受控对象,并设计出一个用于摄动对象的μ控制器.将所设计的控制器联接综合飞行/推进系统构成闭环系统,针对各项性能要求,进行仿真.通过仿真验证表明,根据μ控制理论所设计的控制器对综合飞行/推进系统的控制效果良好,达到了提出的性能要求,有一定的工程应用价值. 相似文献
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