二氧化硅溶胶及其自组装薄膜的制备

以氨水为催化剂,通过水解正硅酸乙酯制备了乳白色二氧化硅溶胶,采用静电自组装薄膜技术制备了聚电解质/二氧化硅复合薄膜,并通过热处理制备了二氧化硅薄膜.采用透射电镜、红外光谱仪、721分光光度计对二氧化硅溶胶和薄膜进行了分析.     

TiO_2纳米薄膜的制备及应用进展

TiO_2纳米薄膜在光催化、传感、环境工程等领域具有广阔的应用前景,本文根据国内外的研究报道及作者对TiO_2纳米薄膜的研究,简单地介绍了它的制备方法和应用。     

TiO2纳米薄膜的制备及应用进展

TiO2纳米薄膜在光催化、传感、环境工程等领域具有广阔的应用前景，本文根据国内外的研究报道及作者对TiO2纳米薄膜的研究，简单地介绍了它的制备方法和应用。     

抗电磁干扰Mn-Zn铁氧体的应用及发展

电磁干扰(EMI)随着电子设备的高速发展成为越来越突出的问题,电子市场已经出台相应的电磁兼容(EMC)市场准入认证.今后的电子元器件及电子设备必须符合相应的市场准入认证.所以,Mn-Zn铁氧体作为电子行业的重要基础材料之一,必须加强抗EMI性能的研究.由于其本身具有吸收和衰减电波的电磁能量性质,成为民用和军事方面抗EMI的重要研究和应用材料.论述了抗EMI Mn-Zn铁氧体材料的主要性能指标,目前国内外已有的该类材料的主要种类,以及相关磁芯的种类及其应用领域.提出今后可能的主要研究或发展方向的见解,认为抗EMI Mn-Zn铁氧体材料和元器件应成为我国目前的重点发展方向.     

有机分子/聚电解质体系的自组装性能

采用静电自组装技术制备了刚果红、铜酞菁衍生物、富勒醇与聚电解质的复合薄膜，研究了这些有机分子／聚电解质体系的自组装性能，有机分子／取得民解质体系的自组装性能与有机分子上的荷电基团的数量、性质以及有机分子的形状有关。有关结果可以作为制备静电自组装有机薄膜时选择有机分子的参考依据。     

热处理温度对静电自组装PDDA/SiO2光学薄膜的影响

以正硅酸乙酯(EthylSilicate,TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(ElectrostaticSelfassemblyMultiplayer,ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合层状薄膜。然后对其进行热处理,研究了不同温度热处理对薄膜结构、组成、折射率、机械强度、激光损伤阈值以及光学性能的影响。得到了经520℃热处理后折射率为1.27、激光损伤阈值为68J/cm2、520nm处的透光率为99.0%、抗机械损伤强度大的SiO2光学增透薄膜。但最大的透光率是400℃热处理后520nm处的透光率为99.2%。     

溶胶-凝胶法制备纳米级ZnO:Eu,Li红色荧光材料

以乙酸锌为主要原料，探讨了用溶胶-凝胶法合成纳米级ZnO：Eu，Li红色荧光材料的制备工艺；同时用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、激光粒度仪、荧光光度计对合成产物的结构和发光性质进行了研究。结果表明：在掺杂元素铕和锂的摩尔比为4：1、乙酸锌与柠檬酸三铵的摩尔比为1：2、煅烧温度为600℃的条件下，可以合成出ZnO：Eu，Li红色荧光粉体，其粒径在70nm左右，发射峰值波长为620nm，掺杂元素Eu和Li均已进入到ZnO晶格中，形成了以Eu^3 为发光中心的六方晶形结构。     

静电自组装法制备SiO2光学增透膜

为了进一步提高低折射率光学器件的可见光透过率,用静电自组装(ESAM)法在玻璃基片(折射率1.45)表面组装了多孔SiO2增透膜。以NH3·H2O催化和HCl与NH3·H2O分步催化分别制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。用带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)溶液与SiO2溶胶组装了PDDA/SiO2复合薄膜。然后进行热处理,制备了多孔SiO2薄膜。结果显示,经520℃热处理后,两种薄膜可见光峰值透过率增加,峰值波长由560nm向短波移到520nm,耐机械擦伤强度增大。NH3·H2O催化制备的薄膜透过率相对较高,峰值由98.2%达到99.2%,但耐刮伤能力相对较差。     

催化条件对SiO2静电自组装薄膜光学性质的影响

用NH3·H2O催化和先后经HCl、NH3·H2O、HCl依次分步催化分别制备了SiO2溶胶.在低折射率的玻璃基片上用静电自组装(electrostatic selfassembly multilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜.研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响.用傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、X光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能.结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加.NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差.     

SrAl_2O_4∶Eu∶Dy荧光材料的低温余辉特性研究

利用自行设计的宽量程高低温复合灯照试验箱,首次检测分析了用高温固相法自制的及市售优质SrAl2O4∶Eu∶Dy荧光粉体的低温余辉特性。研究结果表明,以SrAl2O4∶Eu∶Dy为代表的铝酸盐基长余辉发光材料存在 223K左右的低温荧光“猝灭”现象,不同来源的同类材料“猝灭”阈值温度有所差异;SrAl2O4∶Eu∶Dy低温余辉特性的一般规律为随温度降低,余辉亮度衰减加快,但衰减曲线仍同室温下一样由快衰减陡降区和慢衰减平台区两部分构成, 273K时平台余辉亮度只有室温下的约1 /2,而 253K时仅余 1 /3左右。理论分析认为造成余辉性能低温变差的原因在于,热扰动源减弱使得捕获于陷阱中的受激电子被热激释放出来的几率降低,从而导致辐射退激发电子数的减少,余辉亮度降低。