石英晶体监控法镀制高精度光学薄膜

讨论了石英晶体监控法在光学薄膜镀制过程中的应用原理。通过与常规的光学监控法镀制的膜层相比较．证实了石英晶体监控法有助于提高光学薄膜的光学品质。试验表明所镀膜层的光学性能优异，在光通信和激光器等领域具有广阔的应用前景。     

高反膜的镀制实践与探索

光学薄膜的厚度对光学元件的性能有决定性的影响,因此精确控制膜厚就成为了关键。分析了石英晶体监控法,介绍了IC/5镀膜自动控制仪。利用IC/5镀膜自动控制仪在现有镀膜机组上镀制出了高性能的高反膜。实验表明所镀膜层的光机性能优异,在光通信和激光器领域具有广阔的应用前景。     

二元理论用于扩散泵喷咀内流动的分析

五十年代有人[1]提出过应用气体动力学理论分析扩散泵工作的问题。但那时的认识很肤浅,还不能用来解决实际问题。1979年 M. Wutz[2]进一步提出了这个问题。近几年来,这种分析方法受到国内很多单位的重视。根据已进行过的试验,我们认为这种理论虽然还远没有达到完善的程度,但较之目前存在的其他理论来讲确实是向前迈进了一大步。 应用气体动力学理论分析扩散泵的抽气机理,其主要内容是喷咀内波的结构图和射流结构图的绘制以及附面层的计算。因为工作蒸汽射流是扩散泵抽气的手段,它的工作状态好坏决定了扩散泵抽气性能的优劣。附面层的存在,…     

钼酸铅晶体表面红外增透膜的研究

本文讨论了用于钼酸铅晶体表面的宽带红外增透膜的设计以及其在真空环境中的制备。膜系设计中 ,运用反射率图解法以获得满意的光学性能 ;与传统的热蒸发镀膜工艺相比 ,在真空沉积过程中采用了离子辅助沉积技术 ,从而大大提高了膜层的光学特性及膜层品质。试验表明所镀膜层性能优异 ,在光纤通信领域具有广阔的应用前景     

溶液组成对喷雾热解法制备氟掺杂二氧化锡导电薄膜性能的影响

以四氯化锡和氟化铵为原料,异丙醇和水为溶剂,采用喷雾热解法,在载玻片上制备氟掺杂二氧化锡导电薄膜(fluorine-doped tin oxide,FTO)。研究了四氯化锡浓度、氟化铵浓度、双氧水浓度、异丙醇与水的体积比对FTO薄膜的透光率和方块电阻的影响。运用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外-可见分光光度计和四探针测试仪分别对FTO薄膜进行了表征。结果表明:在喷雾热解液中加入少量的H2O2(0.05mol/L)可明显提高FTO薄膜在可见光区的透光率,而不影响其方块电阻;当喷雾热解液组成为0.8mol/LSnCl4,0.1mol/LNH4F,0.05mol/LH2O2,异丙醇与水的体积比为8:2,衬底温度为500℃,喷涂100次时,所得FTO薄膜在可见光区的平均透光率为84%,方块电阻为15Ω/□,且FTO薄膜平整致密、二氧化锡晶粒均匀。     

喷雾热解法制备掺氟氧化锡导电玻璃及其性能

采用喷雾热解法,以四氯化锡和氟化铵为原料、喷瓶为雾化装置,在载玻片上制得氟掺杂二氧化锡(FTO)透明导电薄膜。运用XRD、SEM、紫外-可见分光光度计和四探针测试仪分别对薄膜进行了表征。研究了喷涂次数、衬底温度、前体浓度、掺杂浓度和醇水比对FTO薄膜光电性能的影响。结果表明,当衬底温度为500℃,SnCl4.5H2O浓度为0.81mol/L,NH4F浓度为0.1mol/L,醇水比为8:2,喷涂100次时,薄膜的光电性能较好,其方块电阻为13Ω/□,平均透光率为79%。     

IAD技术在钼酸铅晶体表面镀膜中的应用

讨论了离子束辅助沉积技术在真空沉积过程中的应用原理。通过与常规的热蒸发工艺镀制的膜层相比较，证实了离子束辅助沉积技术有助于提高钼酸铅晶体表面红外增透膜的膜层品质及中心波长位置的精确度。     

钼酸铅晶体表面红外增透膜的研究

本讨论了用于钼酸铅晶体表面的宽带红外增透膜的设计以及其在真空环境中的制备，膜系设计中，运用反射率图解法以获得满意的光学性能，与传统的热蒸发镀膜工艺相比，在真空沉积过程中采用了离子辅助沉积技术，从而大大提高了膜层的光学特性及膜层品系，试验表明所镀膜层性能优异，在光纤通信领域具有广阔的应用前景。