多通道光子晶体器件设计

一维光子晶体缺陷模的光谱特性与缺陷模的结构紧密相关.当缺陷模中包含有多个缺陷时,将导致光子禁带中出现多个分立的缺陷能级,形成多个透射光通道.利用一维光子晶体缺陷模这一光谱特性设计了红外谱段的三通道光子晶体器件.     

离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响

在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa.用能量为113eV的离子束轰击300s时,平均应力由72.9MPa的张应力变为16.7MPa的压应力.二氧化钛薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素.     

离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响

在硅基底上用电子束蒸发方法制备了硫化锌薄膜.通过XRD和薄膜应力测试仪研究了离子束辅助沉积和真空退火对硫化锌薄膜应力的影响规律.结果表明,未采用离子辅助技术制备的硫化锌薄膜为压应力,平均应力值为110.6 MPa,当采用离子束辅助工艺时硫化锌薄膜的压应力增加了62.3MPa.真空退火使硫化锌薄膜的平均应力大约降低了二分之一.硫化锌薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素.     

合成金刚石的某些方法评介

首先扼要阐述了与金刚石薄膜制备技术有关的等离子体特性,随后着重介绍了金刚石薄膜制备技术的最新进展。根据沉积工艺参数和装置的结构评价了各种技术的优缺点。最后指出了目前这些技术中存在的问题。     

连续型衍射透镜激光直写技术研究

研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺,简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用CLWS-300W/C极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜.研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.     

双离子束溅射沉积二氧化硅薄膜

利用双离子束溅射沉积技术,在锗、硅、K9玻璃、不锈钢基底上沉积了二氧化硅薄膜。考察了不同束辐照条件下二氧化硅薄膜的电阻率、折的率、红外吸收谱和显微组织结构。     

工艺参数对纳米颗粒Cu/SiO_2复合薄膜结构和光谱特性的影响

用离子束溅射法制备了具有反常光吸收特性的纳米颗粒CU／SiO2复合薄膜。获得了在离子来参数一定时，基片温度、膜料的沉积时间和镀膜后的保温时间等工艺参数对这种薄膜结构和光学特性的影响规律，并对纳米颗粒Cu／SiO2复合薄膜的反常光吸收特性作了计算和解释。     

星载光学遥感仪器激光防护薄膜技术

激光武器的迅速发展使得激光防护技术研究成为必要，目前，破坏卫星上的遥感仪器是激光反卫星的一个主要可能途径。为了有效防护星载遥感仪器，利用光学薄膜方法，可以对氧碘激光进行防护的薄膜，在不影响遥感仪器正常工作的条件下，可将遥感仪器的激光损伤或致盲阈值提高80倍，大幅度提高了遥感仪器的生存能力。     

空间菲涅耳透镜的材料与工艺要求分析

该文根据空间菲涅耳聚光透镜的使用要求和空间环境条件，比较了现有光学材料的性能特点，分析了材料折射率、透镜尖劈尺寸和面形误差对透镜光学的影响，进而对透镜成型和安装工艺提出了要求。     

考夫曼型离子源工作稳定性研究

用于离子束辅助轰击镀膜的考夫曼型变孔径球面栅离子源,由于缩小了体积,散热条件不好,离子源启动后温度迅速上升,陶瓷绝缘子的绝缘强度迅速降低,永久磁铁的磁场强度也下降,致使离子源的连续有效工作时间不足半小时。采用多处屏蔽后,延长了陶瓷绝缘子和磁棒处于较低工作温度的时间,使离子源的连续有效工作时间达到了一小时,基本满足了辅助轰击镀膜的要求。