新型苯乙炔封端芳醚酮预聚体的设计、合成及其性能研究

随着航空航天等尖端领域的飞速发展，人们对复合材料基体树脂提出了越来越高的要求。应此要求，自上个世纪60年代以来，具有高机械强度和耐热等级的特种工程塑料，成为了继通用高分子材料、工程塑料之后发展起来的高分子材料的一个新领域。作为特种工程塑料两大主要品种的聚芳醚酮和聚酰亚胺，由于具有优异的耐高温、高强度、     

PEEK树脂PVT特性与加工性能的关系

基于毛细管流变仪对PEEK树脂PVT特性的测试重要性及应用进行了阐述。对比分析了两种不同工艺合成的PEEK工艺上的差别,对两种不同工艺合成的PEEK分别进行了等压模式和等温模式PVT测试,发现在加工过程中,压力对VisPEEK材料性能影响较大。     

聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光方法

为进一步提高聚酰亚胺薄膜光学器件的表面质量,提出了一种聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光方法,对其抛光原理和抛光实验进行了研究。利用光刻胶流体低表面张力及流动特性,通过在聚酰亚胺薄膜表面涂覆光刻胶对其表面缺陷进行填补;结合聚酰亚胺与光刻胶的反应离子高各向异性等比刻蚀工艺,将光刻胶光滑平整表面高保真刻蚀转移至聚酰亚胺表面,从而实现聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光。实验结果表明：PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面通过二次抛光可降低至75nm和13nm,PV、RMS分别为61nm和8nm的表面粗糙度可降低至9nm和1nm。该抛光方法能有效提高聚酰亚胺薄膜的表面光洁度,可为以聚酰亚胺薄膜为代表的高分子柔性光学器件的精密加工提供新的工艺思路。     

聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光

为进一步提高聚酰亚胺薄膜光学器件的表面质量,提出了一种聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光方法,对其抛光原理和抛光实验进行了研究。利用光刻胶流体的低表面张力及流动特性,通过在聚酰亚胺薄膜表面涂覆光刻胶对其表面缺陷进行填补;结合聚酰亚胺与光刻胶的反应离子高各向异性等比刻蚀工艺,将光刻胶光滑平整表面高保真刻蚀转移至聚酰亚胺表面,从而实现聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光。实验结果表明:PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面,通过二次抛光其粗糙度可降低至75nm和13nm;PV、RMS分别为61nm和8nm的表面,其粗糙度可降低至9nm和1nm。该抛光方法能有效提高聚酰亚胺薄膜的表面光洁度,可为以聚酰亚胺薄膜为代表的高分子柔性光学器件的精密加工提供新的工艺思路。     

国内外特种工程塑料聚芳醚酮的生产、应用及发展前景

首先介绍了特种工程塑料聚芳醚酮的性能、生产工艺路线及发展历程,分析了国内外树脂生产厂家的技术现状及产品特点,列举了聚芳醚酮的应用领域,更进一步分析了国内外新品种的发展趋势,最后结合实际展望了聚芳醚酮的应用开发方向。