一级供水在高炉高压水系统中的应用实践

主要对原有高压水系统二级加压供水方式的缺陷进行分析,应用一级供水的供水方式,在系统投运与日常运行过程中,逐步探索和完善系统调节方式,促进系统优化运行。从制约软水系统正常稳定运行的多方面因素考虑,对现有750区域的软水泵房进行相应的改造,实现了软水系统的安全、稳定运行,为高炉生产提供可靠的保障。     

蒸发式空冷器喷淋装置的改造应用

高炉泵房净环水部分引入蒸发式空冷器喷淋水槽作补水,通过持续补水、持续回流的方式,实现了大循环带动小循环,降低了空冷器喷淋水浓缩倍数;空冷器喷淋水管、喷淋头、管道泵等喷淋装置的改造,增大了喷淋水量,改善提高了布水均匀性。空冷器管束结垢速度得到有效控制,其冷却能力明显提高,实现了高炉软水系统的稳定、节能、优化运行。     

耙式干燥机

专利名称:耙式干燥机专利申请号:CN200710021519.8公开号:CN101050916申请日:2007.04.20公开日:2007.10.10申请人:张亚宇本发明涉及一种耙式干燥机     

稳压补水技术在软水冷却系统中的应用

介绍了采用PLC与变频器相结合的方法，较好地解决了既节电又能确保软水压力稳定在一个较小范围内，虽然未采用压力调节器（采用的是比较器），不能做到无差调节，但其结构简单、投资少、可靠性高，又能满足生产工艺要求。     

莱钢2#750m3高炉软水改造工程及系统切换

为延长冷却壁寿命,对莱钢 2#750m3高炉实施了软水改造工程.并在高炉正常生产状态下,成功实施了汽化冷却与软水密闭循环系统的安全切换.实践证明,软水系统运行良好,冷却壁进水平均温度38.98℃,平均流量1150m3/h,热负荷17.52GJ,泄漏率小于0.18‰.     

氮冷等离子体改性KDP晶体液膜接触潮解抛光

目的 利用氮冷等离子体改性KDP晶体表面,实现高质高效的液膜接触潮解抛光.方法 利用氮冷等离子体实时处理潮解抛光界面,实现微汽雾中的液滴在KDP晶体表面由液滴驻留向液膜接触转化,克服水在工件表面形成非均匀点状接触导致新"微凹坑"不断形成的不足.通过研究KDP晶体在含水介质中的材料去除特性,获得调控抛光介质性能的方法,并揭示氮冷等离子体对KDP晶体刻蚀规律的影响.通过研究KDP晶体在抛光界面上的摩擦特性和KDP晶体表面微观结构、拉曼光谱,以及氮冷等离子体对KDP晶体表面亲水改性的时效性,综合评估氮冷等离子体中的KDP晶体的抛光机理.结果 在抛光过程实验中,证明了氮冷等离子体改性KDP晶体潮解能够提高KDP晶体的表面质量.使用优化的放电参数,表面粗糙度(RMS)从18.4 nm下降至7.6 nm,PV值从109.9 nm下降至61.5 nm.材料去除率最低为10.14μm/min,最高达91.58μm/min.结论 利用氮冷等离子体,可快速、无损地将KDP晶体表面处理至超亲水状态,能有效去除液滴驻留产生的微凹坑,表面质量大幅提升,划痕明显减少,实现了液膜接触潮解抛光,为KDP晶体高质高效抛光提供新的思路.     

莱钢2#750m3高炉软水改造工程及系统切换

为延长冷却壁寿命 ,对莱钢 2 #75 0 m3高炉实施了软水改造工程。并在高炉正常生产状态下 ,成功实施了汽化冷却与软水密闭循环系统的安全切换。实践证明 ,软水系统运行良好 ,冷却壁进水平均温度 3 8.98℃ ,平均流量 115 0 m3/h,热负荷17.5 2 GJ,泄漏率小于 0 .18‰。     

高炉循环水水质改善研究与应用

在分析高炉循环水系统运行特点的基础上,针对水质恶化对系统的影响和危害,采取了改善水质状况的维护技术措施,提高了高炉炉体工艺设备的运行寿命和可靠性。     

2^#750m^3高炉软水改造工程及系统切换

本文分析了2^#750m^3高炉进行软水密闭循环改造的有关情况，并对汽化冷却与软水密闭循环在高炉正常生产时如何实现系统切换进行了详细的介绍。