全文获取类型
收费全文 | 41155篇 |
免费 | 1701篇 |
国内免费 | 2156篇 |
专业分类
电工技术 | 3003篇 |
技术理论 | 1篇 |
综合类 | 1363篇 |
化学工业 | 1088篇 |
金属工艺 | 637篇 |
机械仪表 | 1804篇 |
建筑科学 | 391篇 |
矿业工程 | 411篇 |
能源动力 | 490篇 |
轻工业 | 271篇 |
水利工程 | 56篇 |
石油天然气 | 141篇 |
武器工业 | 276篇 |
无线电 | 29229篇 |
一般工业技术 | 2948篇 |
冶金工业 | 373篇 |
原子能技术 | 346篇 |
自动化技术 | 2184篇 |
出版年
2024年 | 142篇 |
2023年 | 434篇 |
2022年 | 458篇 |
2021年 | 566篇 |
2020年 | 395篇 |
2019年 | 475篇 |
2018年 | 276篇 |
2017年 | 359篇 |
2016年 | 423篇 |
2015年 | 568篇 |
2014年 | 1776篇 |
2013年 | 1299篇 |
2012年 | 2364篇 |
2011年 | 2729篇 |
2010年 | 2198篇 |
2009年 | 3011篇 |
2008年 | 3257篇 |
2007年 | 2480篇 |
2006年 | 2577篇 |
2005年 | 2602篇 |
2004年 | 2330篇 |
2003年 | 1687篇 |
2002年 | 1313篇 |
2001年 | 1150篇 |
2000年 | 999篇 |
1999年 | 862篇 |
1998年 | 863篇 |
1997年 | 877篇 |
1996年 | 941篇 |
1995年 | 918篇 |
1994年 | 740篇 |
1993年 | 617篇 |
1992年 | 688篇 |
1991年 | 675篇 |
1990年 | 691篇 |
1989年 | 783篇 |
1988年 | 124篇 |
1987年 | 65篇 |
1986年 | 46篇 |
1985年 | 37篇 |
1984年 | 32篇 |
1983年 | 32篇 |
1982年 | 23篇 |
1981年 | 97篇 |
1980年 | 22篇 |
1979年 | 5篇 |
1975年 | 5篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
采用直流磁控溅射和后退火氧化工艺在p型GaAs单晶衬底上成功制备了n-VO_2/pGaAs异质结,研究了不同退火温度和退火时间对VO_2/GaAs异质结性能的影响,并分析其结晶取向、化学组分、膜层质量以及光电特性。结果表明,在退火时间2 h和退火温度693 K下能得到相变性能最佳的VO_2薄膜,相变前后电阻变化约2个数量级。VO_2/GaAs异质结在308 K、318 K和328 K温度下具有较好的整流特性,对应温度下的阈值跳变电压分别为6.9 V、6.6 V和6.2 V,该结果为基于VO_2相变特性的异质结光电器件的设计与应用提供了可行性。 相似文献
2.
半导体功率器件(即电力电子器件)是电力电子技术的三大核心基础之一,被比作电力电子装置的“CPU”。现有功率器件多采用Si基或SOI基,但是受限于自身材料特性的影响,在节能与转换效率方面越来越显示出他们的局限性。为解决上述问题,半导体功率器件除了继续对传统器件进行新理论和新结构的创新研究外,也正在遵循“一代材料、一代器件、一代装置、一代应用”的发展趋势,从传统的Si基和SOI基向宽禁带半导体SiC和GaN基进行扩展和延伸。 相似文献
5.
6.
8.
财讯双周刊 《电子工业专用设备》2015,(2):46-47
联电将前进大陆参股设立300 mm(12英寸)晶圆厂,台积电也有意投资大陆,在中国政府砸钱拉拢"华流"之时,该怎么去,正考验半导体大老们的智慧。1月21日,远在美国纽约华尔街的交易室里,格外不平静。市场传出,中国神州龙芯准备并 相似文献
9.
研制了用于远程激光脉冲测距机的板条激光器。使用半导体泵浦的MOPA激光结构实现了大于250 mJ的脉冲激光输出,输出脉冲宽度为12.83 ns,最终输出激光光束束散角为0.18 mrad。该激光测照器可应用于远程激光测距。对激光测距机的测距与照射能力进行了理论计算与分析。理论分析表明,应用于机载平台时,该激光测照器能够实现50 km距离的激光测距。该型激光测距机具有测距距离远,重量轻,结构紧凑等特点,具有广泛的应用前景。 相似文献
10.
《固体电子学研究与进展》2015,(6)
针对纳米级工艺多指栅MOS晶体管的不同版图结构及其阈值波动的相关特性进行分析和研究。通过将基于Fujitsu 90nm工艺的三种不同版图结构实现的N型多指栅MOSFET器件阈值电压VTH作为工艺波动的研究对象,运用多元非线性回归算法对测试芯片进行系统工艺波动与随机工艺波动的提取和分析,并对与尺寸、版图结构相关的随机工艺波动特性进行了评估。测试结果表明三种版图结构中有源区共有结构具有最佳的电流驱动特性,有源区隔离结构抑制系统波动能力最优,折叠栅结构具有同尺寸器件较低的阈值电压并可以最有效地抑制随机工艺波动。 相似文献