PET自催化镀Co—P合金的研究

在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基片上自催化镀Co-P磁性薄膜.研究镀液组成对沉积膜磁性的影响.对试样的化学成分、微观形貌、结构、结合力和磁性进行了分析.得到以下结果:(1)镀层中的磷含量随镀液成分和镀膜厚度的不同而变化;(2)当镀液中Co~(2+)浓度为0.05M,镀膜厚为0.13ηm,含4.9%磷时,其矫顽力高达1215Oe,矩形比0.85.为磁带媒质的开发与应用提供了具有实际意义的方法.     

改进的化学镀法制备金属银复合膜的研究

对传统的化学镀银工艺进行了改进,化学镀银层质量与、镀膜温度、还原剂的加入方式以及膜面积与镀液加液量之比有着密切的关系。实验结果表明控制镀膜温度（20℃以下）,采用间歇式加入N2H4的方式并且增大膜面积与镀液加液量之比,这样容易控制反应速度,不易使银沉积在镀槽壁上,有利于获得厚度均匀平整、有光泽、附着力强的银/陶瓷复合膜。     

镀膜时间对TiAlN薄膜的微观组织和性能的影响

本文研究了镀膜时间对TiAlN涂层的微观组织和性能的影响。研究结果表明:随着镀膜时间的延长,薄膜表面晶粒尺寸越来越细小,表面更致密度均匀;涂层硬度、膜基结合力、抗氧化性是呈先上升后下降的趋势。镀膜时间为40min时,涂层硬度达到最大值,膜基结合力、抗氧化性最好。     

离子镀膜前工件处理工艺及除油、去污清洗剂

本发明适用于离子镀膜前的表面清洁处理、离子镀技术遇到的主要技术难点是涂层结合力不良。本发明从镀前处理工艺入手解决     

直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能

通过固定N层和Ti N层的沉积时间,改变Ti层沉积时间,在AZ31镁合金表面采用直流磁控溅射技术制备N-Ti-Ti N镀膜,研究镀钛时间对N-Ti-Ti N镀膜的形貌、腐蚀性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、能谱仪等手段分析镀膜的表面形貌和成分,通过动电位极化试验,研究镀膜的耐蚀性。结果表明:改变不同镀钛时间获得的N-Ti-Ti N镀膜的厚度在1~1.4μm之间,镀膜分布均匀,随着镀钛膜沉积时间的增加镀膜的厚度增加,膜间结合性好;与镁合金基体相比,不同镀钛时间的N-Ti-Ti N镀膜均能提高材料的耐蚀性,镀钛时间为20 min的N-Ti-Ti N镀膜的耐蚀性更为优异。     

溶胶组成及催化剂对溶胶-凝胶制备二氧化硅薄膜开裂的影响

采用溶胶凝胶浸镀二氧化硅薄膜的方法修饰改善微晶玻璃表面缺陷.通过光学显微镜观察镀膜后膜层的典型形貌提出了较合适的溶胶组成范围.并通过改变催化剂的量观察镀膜后膜层情况,讨论了HCI作为催化剂对镀膜质量的影响.     

化学镀Ni-P工艺在制药设备上的应用

在制药设备上使用了化学镀N i-P工艺。给出了2种工艺流程并确定了镀液配方。研究了温度、前处理对施镀的影响。结果表明,最佳施镀温度为[(85~90)±2]℃,镀件冲击镀镍及镀液磁化均可取得良好的效果。该方法得到的镀层结构致密、孔隙率低、耐蚀性强、结合力好、硬度高。     

清洗预处理对手表外观件表面镀类金刚石薄膜性能的影响

为解决手表外观件镀层的附着力和硬度不高而产生的膜层脱落和磨损露底等问题,采用阳极层流型气体离子源结合非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石膜层,研究了镀前清洗工艺对膜层附着力和耐磨性能的影响.结果表明,所制备的类金刚石膜均匀亮黑,显微硬度为2 232 HV,摩擦系数为0.15.在同一镀膜工艺条件下,手表外观件经彻底清洗后,其...     

磁控溅射法制备氮化硅薄膜的耐磨性研究

氮化硅(Si_3N_4)薄膜具有化学稳定性高、电阻率高、绝缘性好、光学性能良好(其折射率在2.0左右)等特性。同时氮化硅膜是一种很好的耐磨材料,其铅笔硬度理论上可以达到9H以上,通过在其它的镀膜产品上加镀一层氮化硅膜,可有效改善原有镀膜产品的耐磨性,避免膜层出现膜面划伤而造成的外观不良。本文主要研究采用中频磁控反应溅射制备氮化硅薄膜,氮化硅薄膜的耐磨性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括:N_2/Ar比、沉积温度、溅射功率、膜层厚度2等。通过对不同工艺条件下镀制的氮化硅薄膜的耐磨性及膜层结构进行对比,筛选出具有优良耐磨性能的氮化硅薄膜的工艺参数。     

玻璃表面化学镀Co-Ni-P合金的研究

实验研究了玻璃基体表面化学镀Co-Ni-P合金的工艺过程和操作方法.讨论了镀液pH值及其他因素对镀层质量的影响.并对玻璃镀件进行了电镜扫描、X射线衍射、结合力和耐腐蚀性检测.实验结果表明:玻璃基体经过预处理、敏化及活化处理.镀液条件控制在80℃、pH为6、施镀时间40min进行化学镀合金,可以得到结合力较强、质量较好的Co-Ni-P合金镀层.     

18K金表面磁控溅射铑薄膜的颜色

首饰表面常通过电镀铑来改善颜色和耐蚀性，但是多数电镀工艺存在较严重的环境污染问题。采用真空磁控溅射工艺在18K金试片及试盒表面沉积铑薄膜，并采用分光光度计检测了不同工艺条件下所得铑薄膜的颜色及其分布均匀性。结果表明，镀膜时间、靶电流、镀膜室温度、本底真空度、镀件结构和悬挂方式都对铑薄膜颜色及均匀性有不同程度的影响。在合适的工艺条件下对18K金表面磁控溅射所得铑薄膜与电镀铑薄膜的颜色非常接近，可以满足现有镀铑膜颜色的需求。     

镀前处理对金刚石柔性磨带镀点结合力的影响研究

金刚石柔性磨带镀点结合力的好坏,大多数并不是电镀工艺本身所造成的,而是基体镀前处理不当的结果,特别是基体的表面粗糙度和氧化膜的去除更与结合力密切相关.研究结果表明:不锈钢带基材表面经过粗化处理后,电镀试样卸下夹具没有镀点脱落现象,采用锉刀法测试,有部分镀点连同基材开裂,镀层结合力有很大提高;通过采用氢氟酸和硫酸混合酸进行酸洗浸蚀,除去了基材表面的氧化膜,实现镀层与基体的良好结合,采用锉刀法进行破坏性试验时,几乎所有镀点连同基体开裂.     

钢铁件直接焦磷酸盐镀铜工艺研究

依据电位活化理论,研究了超低浓度焦磷酸铜预镀铜电解液,其组成为:0.5 ~ 2.5 g/L焦磷酸铜,150 ~ 200 g/L焦磷酸钾.在该电解液中的阴极钢铁件主要发生水的电解反应,同时,工件表面的氧化膜被还原.经过上述处理后,工件表面镀上一层铜膜,然后按常规焦磷酸盐工艺镀铜.实验表明,镀层与基体的结合力与钢铁件氰化镀铜大体相同.     

我厂在线镀膜玻璃划伤产生的原因及解决办法

1概述 利用气相沉积法在玻璃表面镀Si膜,是一项比较成熟的在线镀膜技术.技术的核心在于还原气氛下SiH4在玻璃表面热解,经过一系列物理、化学过程,为玻璃镀一层均匀的Si膜.     

Si3N4陶瓷表面镀锆的融盐热析出反应研究

研究了Si3N4陶瓷表面镀锆的融盐热析出反应,以X射线衍射仪分析了镀膜物相,以电镜(SEM)对镀件进行了显微观察.结果表明:(1)镀膜的单位面积沉积量随反应温度的升高以及反应时间的延长而增加;镀膜的单位面积沉积速率随反应温度的升高而增加,随反应时间的延长而减小;单位面积镀膜增重随K2ZrF6初始浓度的逐渐增大,先呈上升趋势,达到最大值后又逐渐下降,K2ZrF6初始质量分数为60%时,单位面积镀膜增重最大;(2)镀膜物相为ZrN,Zr5Si3,Zr3O;(3)镀膜表面光滑,呈银白色金属光泽;膜层与Si3N4陶瓷基体结合紧密;镀膜为层状结构,界面结构为Si3N4/ZrN/ Zr5Si3/Zr3O;Zr5Si3晶粒粗大,ZrN晶粒细小,Zr3O呈不均匀地附着在Zr5Si3的表面;(4)单位面积增重(△W/△S)与 t1/2呈良好的直线关系;(5)反应活化能约为126kJ/mol.     

钢铁基体酒石酸盐碱性无氰镀铜

以酒石酸盐为络合剂,胺化合物为辅助络合剂,研究钢铁基体上碱性无氰镀铜工艺,探讨了搅拌、镀液温度、pH、ρ(Cu2+)和添加剂对镀层外观的影响.考察了镀液的深镀能力和抗Fe2+、Fe3+、Zn2+及Sn4+杂质能力以及镀层与铁基体的结合力.实验结果表明:可以在宽广的工艺条件下获得光亮的铜镀层;阴极电流效率随温度、pH和ρ(Cu2+)提高而增大,在实验确定的工艺条件下ηκ为82%左右;镀液深镀能力达91%;计时电位曲线试验结果表明,基体上的钝化膜在沉积初期被破坏而处于活化状态,使得铜镀层与钢铁基体有足够的结合力.     

第十三讲——镀层的结合力(二)

4 钢铁件镀铜的结合力问题 钢铁件是应用最广的基体材料,而在其上镀铜的工艺又很多.镀铜的无氰化比镀取铜合金易于实现.故对钢铁镀铜的结合力问题应有较全面的了解.     

我国镀膜玻璃与制镜的市场

1镀膜玻璃概况 据不完全统计,我国目前拥有镀制各类不同功能膜的镀膜玻璃生产线740余条,其中引进国外装备线70多条,总生产能力近1.747 8亿m2.大致分为五大类近百个品种(含加工镀膜玻璃制品),各类镀膜玻璃生产线及市场状况.     

中国玻璃镜工业

据不完全统计,我国目前拥有镀制各类不同功能膜的镀膜玻璃生产线700余条,总生产能力近1.275亿m2.它们分为五大类近百个品种(含加工镀膜玻璃制品).     

无氰碱性镀铜工艺研究及其应用

为了消除氰化镀铜带来的环境污染,实现清洁生产,自主研发了无氰碱性镀铜工艺.本文对无氰碱铜镀液的电流效率,沉积速率、分散能力、覆盖能力、稳定性以及镀层的结合力,韧性、孔隙率等进行了测试.讨论了镀液组分及操作条件的影响,并介绍了镀液的维护方法.生产应用结果表明,该工艺操作简单,镀液稳定、易控制,分散能力,覆盖能力好,镀层结合力强,适合钢铁、黄铜件、锌合金压铸件和铝合金浸锌后的预镀.