提升高厚径比板树脂塞孔能力

文章对树脂塞孔过程及孔口/内凹陷形成原理进行分析,并通过对塞孔参数、烘板参数的优化,在不增加设备投入的前提下实现了高厚径比板树脂塞孔能力的提升。     

一种提升树脂、阻焊塞孔良率新工艺方法应用推广

随着越来越多客户要求采用Via in Pad(盘内导通孔)工艺,树脂塞孔凹馅问题在制作上是一个非常让人头疼的问题,一旦产生树脂凹馅,直接影响客户SMT贴片而遭投诉,目前虽然有关于改善树脂凹陷的文献,但大多局限于理论分析及综述。因成本因素考虑,PCB厂家普遍采用铝片树脂塞孔,因铝片钻孔后易出现孔口批锋及打折,从而出现树脂凹馅现象,影响树脂塞孔效果。本文将推广一种可以提高树脂塞孔良率新工艺方法,采用0.25 mm(不含铜)基板钻孔后蚀刻铜皮制作塞孔网版,替代铝片塞孔网版进行树脂塞孔,改善树脂塞孔凹陷,提升树脂塞孔良率,此工艺方法同样可提升阻焊塞孔良率。     

树脂塞孔工艺流程优化探讨

在印制电路板生产过程中,树脂塞孔的孔铜因客户有相应要求,往往是先经过一次板电后,再经镀孔流程满足客户要求。主要通过实验,探究此类树脂塞孔板一次全板镀孔到客户要求树脂塞孔孔铜,塞孔后,再经板面减铜到客户要求的铜厚。     

酸蚀法制作无环金属化孔/槽产品的技术开发与应用

随着电子产品技术发展与高密设计的需求,PCB板设计的密度越来越小,板厚径比也越来越高。为了便于层面布线和满足密Pitch元器件的安装,设计无环PTH孔/槽的PCB板也日趋增多。对于无环PTH孔/槽PCB板的外层图形转移,目前业界通常是采用碱性蚀刻的工艺运作,创造性开发了几种无环PTH孔/槽PCB板外层走酸蚀的特殊制作方法,突破了树脂塞孔或高厚径比无环PTH孔/槽的PCB板无法走碱蚀的局限,在确保产品品质的同时也缩短了外层制作流程和生产周期。     

阻焊油墨塞孔工艺能力提升研究

塞孔技术目前已经广泛为应用于各类PCB产品。虽然应用较早,但由于塞孔工艺和方法涉及面广,品质控制不易,塞孔不饱满,塞孔气泡,塞孔裂缝等问题极大影响了孔的可靠性。本文主要研究不同塞孔方式的选择和不同的塞孔工艺(阻焊油墨塞孔、半塞孔、树脂塞孔等),提升厚径比≥10:1过孔塞孔能力,改善塞孔不良导致药水残留腐蚀孔壁的可靠性风险。     

树脂塞孔工艺的研发

1 前言 树脂塞孔作为HDI中比较新、决定未来HDI趋势走向的一种工艺,其发展程度反映出一个公司HDI的整体制作水平,同时也是各厂家极为保密的技术。SME从2000年10月对树脂塞孔正式立项,经过半年多的研发,SME克服树脂塞孔中的三大难题:厚板小孔难以一刀塞实以及树脂固化收缩而难以实现孔塞得饱满;     

树脂塞孔工艺技术的研发

文章概述了树脂塞孔后直接进行压合的工艺流程和主要工艺参数,通过实验对树脂塞孔范围进行评估与界定。通过研究开发树脂塞孔工艺,拓展了公司的产品范围和结构,提升了工艺制造水平。     

一种特殊印制电路板加工流程

为适应电子产品向着功能多样化、便携化的发展要求,印制电路板不仅出现高厚径比、精细线路的高密度特征,更是出现了一些特殊结构要求的板件,例如要求树脂填孔且有金属化板边要求,常规流程在树脂磨平加工时,金属化板边易被磨穿而无法生产;还有树脂填孔板件,塞树脂孔与非塞树脂孔距离太近,常规流程在树脂填孔时非塞树脂孔易被污染而无法加工。通过试验研究结合实际生产情况,本文介绍了一种特殊的加工流程,树脂填孔板件,通过将塞树脂孔先加工,非塞树脂孔和外层线路后加工的方式,解决了以上两种板件无法生产的难题。     

PCB选择性树脂塞孔不良探讨

<正>0引言近年来,5G用印制电路板（printed circuit board,PCB）需求量暴增,为保证产品质量和可靠性,在该类PCB生产中使用树脂塞孔工艺。为提升树脂塞孔工艺能力、品质和产量,许多工厂使用选择性真空树脂塞孔机。选择性树脂塞孔采用一次塞二方式（一次塞两面方式）,即两面塞孔方式,先从正面塞孔（背钻孔较多的一面）,控制塞孔速度15～30 mm/s,保证80%～90%出墨;完成正面塞孔后不烤板,再从反面塞孔,控制塞孔速度20～40 mm/s,塞孔后自检目视两面无树脂塞孔凹陷。两面塞孔方式可提升产量和效率,是一种非常重要和应用广泛的工艺流程。由于线路板多功能的要求以及表观要求严格,塞孔容易发生品质问题,如塞孔不良等。     

盲埋孔板的次外层压板树脂塞孔之孔口凹陷问题研究

文章针对盲埋孔板的次外层压板树脂塞孔之孔口凹陷问题,通过对不同板厚、树脂、固化条件的试验,分析得出适合不同条件下的选择方案,预防今后问题的再次发生。     

HDI埋孔（0.6 mm ～1.0 mm厚度）采用半固化片填充的关键因素浅析

HDI埋孔用树脂塞孔流程长成本高,文章通过优化生产流程、缩短生产周期、并降低制作成本的角度出发,对HDI板埋孔（0.6mm~1.0mm厚度）采用半固化片填充的工艺技术及实务经验提出一些见解。     

HDI板高厚径比微盲孔跨层微导通孔技术开发

高厚径比微盲孔的HDI板制作通常需要很好的孔金属化能力保障其导通可靠性,但所需生产设备及其配套成本让不少厂商望而却步。本文所述高厚径比微盲孔跨层微导通孔（skip-μvia）技术,通过定位精度控制、激光钻孔参数调整以及制板流程优化等工艺的开发,能以更低的成本、更高的品质、更短的加工流程以及常规孔金属化设备实现高厚径比的微盲孔制造,从而降低了高厚径比微盲孔HDI板制造的难度。     

等离子设备加工高厚径比产品工艺研究

文章通过对孔壁平均去钻污量的数据分析,研究了厚径比与孔壁平均去钻污量的规律,初步界定了等离子去钻污加工高厚径比的能力。通过对等离子去钻污均匀性的控制,控制平均去钻污量,从而得到高厚径比产品稳定加工品质。     

通孔电镀铜填孔浅析

电子产品朝更轻、更薄、更快方向发展的趋势,使印制电路板在高密度互连技术上面面临挑战。微堆叠孔技术是一种用来产生高密度互连的方法。通孔的填充介质目前主要有三种,分别为导电膏、树脂、纯铜。比较此三种填充方式,纯铜填孔技术工艺流程短,可靠性高。该文介绍了通孔填孔的反应机理,并论述了通孔填孔电镀技术的优势。     

PCB塞孔问题探讨

PCB板面小孔塞孔是当今流行的PCB设计方法,其目的是确保制作完成的PCB能顺利完成在OEM制造工厂的制造与功能测试流程,本文通过对PCB塞孔后出现的比较重大的品质问题以及解决方案来阐述如何在PCB制作工厂进行有效的小孔塞孔品质控制.     

Profile control in high aspect ratio contact hole etching by a capacitively coupled plasma source

Two types of masking methodologies for high aspect ratio deep contact hole etching, photo-resist (PR) masks only and poly-silicon hard masks (poly-HM), have been applied and studied. In order to understand the variation of plasma chemistries, the optical emission spectroscopy has been used to characterize the reactions of plasma etching. A novel technique for bowing-free 0.1-μm deep contact hole etching using either PR or poly-HM has been developed. It has been demonstrated that a straight vertical profile of deep contact hole can be obtained by controlling two process factors: polymer deposition rates and ion extraction energy. The step-by-step control of top and bottom powers in the capacitively coupled plasma has been found to be an effective method to avoid profile bowing and tapering in the etching process. The deep contact holes with aspect ratio >30 and profile angle of 89.8° have been obtained.     

Biomechanical Cell Regulation by High Aspect Ratio Nanoimprinted Pillars

High aspect ratio pillared topographies provide a large number of mechanical cues that cells can sense and react to. High aspect ratio pillars have been employed effectively to promote stem cell differentiation and to probe cellular tractions. Yet, the full potential of these topographies for mechanobiology remains insufficiently characterized. Here, the response of progenitor neural stem cells to dense high aspect ratio polymer pillars in the nano‐ and microscale is investigated. Thermal nanoimprinting is utilized to fabricate with high precision well‐defined pillars with high density and aspect ratio. Studies on cell viability, morphology, cell spreading, and migration are performed comparatively to a control flat substrate. The traction forces exerted by the cells on the pillar structures are probed quantitatively by a combined focused ion beam scanning electron microscopy (FIB‐SEM) technique. The cell responses observed are distinctive for each dimension, following the trend that an increase in aspect ratio and feature size from nano‐ to micronscale results in more confined cell morphology with large cytoplasmic penetrations and nuclear deformation. Accordingly, cells seeded on the micrometer scale topography show reduced mobility, a persistent quasi‐directional migration, high traction forces, and a lower rate of proliferation. Cells on the nanotopography show higher rate of proliferation, a large cell spread, high mobility with random migration altogether with lower traction forces.     

共面转换液晶显示器中获得对比度高于1:600的新技术

薄膜晶体管液晶电视(TFT-LCD TV)因为具有薄、轻、紧凑和可随意放置的特点，已经占据了大部分电视机市场。除了这些物理特性以外，最重要的特性是已具有了良好像质的对比度。为了将对比度提高到1：600以上，对偏振片膜、背光源板、滤色片树脂、电极锥角和摩擦条件等都进行了研究。优化的背光板组合，光滑的电极锥角和摩擦方法的控制是提高对比度的主要控制因素。应用新开发的滤色片树脂，对获得高对比度最为有效。     

Direct e-beam writing of high aspect ratio nanostructures in PMMA: A tool for diffractive X-ray optics fabrication

We present a fast and reliable fabrication method of dense, periodic and high aspect ratio PMMA and metallic nanostructures. Biased lines are directly exposed by a 100 keV electron beam in thick layers of polymethyl-methacrylate (PMMA) resist to produce polymer mold which is later used to grow Au high aspect ratio structures by electroplating. Dense PMMA and Au nanostructures with aspect ratios >11 were manufactured in 520 nm and with aspect ratios >12 in ～1 μm thick layers of PMMA. This method was successfully applied to produce various X-ray optics devices, such as beam shaping condensers, Fresnel zone plates and diffraction gratings. The performance of a beam shaper was tested at 10 keV photon energy showing a good diffraction efficiency of 10%.