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我们研究了掺杂耦合GaAs/AlAs超晶格的级联隧穿,在这种结构中,AlAs层X能谷中的基态能级位于GaAs层中Γ能谷的基态(E(Γ1);)和第一激发态(E(Γ2))能级之间.实验结果证明,这种超晶格中的高电场畴是由Γ-X级联共振隧穿所形成的,而不是通常的相邻量子阱子带的级联共振隧穿所形成的.在这种高场畴中,电子从GaAs量子阱的基态隧穿到邻近的AlAs层的X能谷的基态,然后通过实空间电子转移从AlAs层的X能谷弛豫到下一个GaAs量子阱的Γ能谷的基态. 相似文献
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我们研究了掺杂耦合GaAs/AlAs超晶格的级联隧穿,在这种结构中,AlAs层X能谷中的基态能级位于GaAs层中Г能谷的基态(EГ1)和第一激发态(EГ2)能级之间,实验结果证明,这种超晶格中的高电场畴是由Г-X级联共振隧穿所形成的,而不是通常的相邻量子阱子带的级联共振隧穿所形成的,在这种高场畴中,电子从GaAs量子阱的基态隧穿到邻近的AlAs层的X能谷的基态,然后通过实空间电子转移从AlAs层的 相似文献
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在GaAs/AlAs(10nm/2nm)弱耦合掺杂超晶格I-V曲线的第一个平台上,我们首先观测到了直流偏压下的室温微波振荡.观测到的最高振荡频率可达142MHz.这种由级联隧穿引起的振荡在测试温度范围14~300K内始终存在.经分析发现:由于垒层仅有2nm,电子隧穿通过垒层的几率很高,相比之下,电子越过势垒而产生的热离子发射电流要小得多.在温度低于300K时,超晶格内的纵向输运机制是级联共振隧穿和声子辅助隧穿.这是室温仍然能观测到自维持振荡的主要原因.由于实现振荡所施加的偏压比较低(在室温下偏压范围大约为 相似文献
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GaAs/Al_0.33Ga_0.67As短周期超晶格中能带不连续性随压力的变化 总被引:1,自引:0,他引:1
利用高压光致发光方法在液氮温度下和0—35kar的压力范围内对不同层厚的GaAs/Al0.33Ga0.67As短周期超晶格以及具有相近组份的Al0.3Ga0.7As体材料进行了系统的研究.测得Al0.3Ga0.7As体材料的Γ谷和X谷的压力系数分别为8.6meV/kbar和-.57meV/kbar.在一定的压力范围内同时观测到了短周期超晶格中与类Γ态和类X态相关的发光峰,从而得到了类Γ态能级和类X态能级随压力的变化关系.首次获得了有关GaAs/Al0.33Ga0.67As短周期超晶格能带不连续性(包括价带 相似文献
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描述了一种新型共振隧穿结构器件,这种器件包含了通过可变间隙超晶格能量滤波器(VSSEF)中的耦合量子附态的隧穿过程.论证了通过AlAs/GaAsVSSEF器件高能态和AlGaAs/GaAs超晶格受激态的共振隧穿,描述了这种器件作为较高功率微波源和共振隧穿晶体管的应用,并讨论了共振隧穿结构作为雪崩探测器和红外发射器等光学器件的潜在应用. 相似文献
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报道了非对称GaAs/AlAs双势垒结构(DBS)中的Γ-X-Γ磁隧穿振荡现象,用磁场倒数周期求得AlAs层中X谷和GaAs层中Γ谷之间的能带不连续值与通常公认值符合很好,良好的振荡特性可作为定量研究Γ-X耦合强度的灵敏的实验办法。 相似文献
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在71—163K的不同稳定温度下,对GaAs-Al0.3Ga0.7As调制掺杂异质结构界面的光激发过剩电子的浓度,作了10-5-103秒时间范围的瞬变测量.一个包含了热声子辅助隧穿,Si掺杂的AlxGa1-xAs层DX中心俘获势垒分布和隧穿后电子的能量弛豫过程的理论计算可以定量地解释实验结果. 相似文献
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采用栅压比谱的方法,研究了GaAs/AlGaAs异质结中二维电子气(2DEG)的回旋共振。观察到由于子能带-朗道能级耦合所引起的回旋共振峰强度随磁场的振荡行为.由回旋共振频率ωc确定了子能带电子的回旋共振有效质量m*,通过对共振峰线形的拟合,获得二维电子气浓度Ns、电子散射时间τ和迁移率μ.由子能带-朗道能级的共振耦合测量了不同栅压下的多个子能带间的能量间距.讨论了导带非线抛物性对电子回旋共振有效质量的影响 相似文献
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GaAs/AlxGa1—xAs和AlxGa1—xAs/AlAs超晶格的喇曼散射对比研究 总被引:1,自引:0,他引:1
报道不同层厚的AlAs/AlxGa1-xAs及GaAs/AlxGa1-xAs短周期超晶格的纵光学声子模的室温喇曼散射测量结果.在非共振条件下,观察到AlAs/AlxGa1-xAs中限制在AlxGa1-xAs混晶层中的类GaAsLO限制模和限制在AlAs层中的AlAsLO限制模,还观察到GaAs/AlxGa1-xAs中限制在AlxGa1-xAs混晶层中的类AlAsLO限制模和限制在GaAs层中的GaAsLO限制模.在近共振条件下,还观察到了AlAs/AlxGa1-xAs中AlAs的界面模.根据线性链模型,把测量的LO限制模的频率按照q=mn+12πα0展开,给出了AlxGa1-xAs混晶的类AlAs支和类GaAs支光学声子色散曲线. 相似文献
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用金刚石对顶砧压力装置在液氮温度下和0~4GPa的压力范围内测量了不同阱宽(1.7~11.0nm)的InxGa(1-x)As/Al(1-y)Ga(1-y)As(x,y=0.15,0;0.15,0.33;0,0.33)多量子阱的静压光致发光谱,发现在In0.15Ga0.85As/GaAs多量子阱中导带第一子带到重空穴第一子带间激子跃迁产生的光致发光峰能量的压力系数随阱宽的增加而减小,在In0.15Ga0.85As/Al0.33Ga0.67As和GaAs/Al0.33Ga0.67As多量子阱中相应发光峰的压力系数随附宽的增加而增加.根据Kroniy-Penney模型计算了发光峰能量的压力系数随阱宽的变化关系,结果表明导带不连续性随压力的增加(减小)及电子有效质量随压力的增加是压力系数随阱宽增加而减小(增加)的主要原因. 相似文献
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InGaN/AlGaN双异质结构蓝光LED的电学和光学性质 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了InGaN/AlGaN双异质结构(DH)蓝光发光二极管(LED)的电学和光学性质,实验表明,器件正向偏压下的I-V特性偏离了pn结二极管的肖克莱模型的结果,并且载流子的主要输运机制与载流子隧穿有关。通过对电致发光(EL)谱的测量,得到位于2.8eV的发射峰和位于3.2eV弱发射峰,随着电流增大而均出现蓝移。对大脉冲电流下LED的特性的退化作了研究。 相似文献
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应用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究分子束外延(MBE)和二次液相外延(LPE)生长的InGaAs/GaAs应变层量子季阱激光器深中心行为.在MBE激光器的n-AlxGa1-xAs组分缓变层和限制层里,除众所周知的DX中心外,还观察到有较大俘获截面的深(空穴、电子)陷阱及其相互转化.这些陷阱可能分布在x从0到0.40和x—0.40的n-AlxGa1-xAs层里x值不连续的界面附近.而在LPE激光器的n-AlxGa1-xAs组分缓变层和限制层里,DX中心浓度明显减少,且深(空穴、电子)陷阱消失 相似文献
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本文采用变温条件下的光致发光谱和选择激发发光谱对混晶GaAs1-xPx∶N(x=0.4)中的NX和NΓ发光带进行了研究.在选择激发条件下,实验未观察到混晶GaAs1-xPx∶N(x=0.4)中NΓ→NX的带间能量转移现象.从变温光致发光谱得到在温度T<50K时,NΓ和NX的激活能分别为Ea(NΓ)=5.8meV和Ea(NX)=11.2meV;在温度T>50K时,NΓ和NX的激活能分别为Ea(NΓ)=67meV和Ea(NX)=32meV.根据实验结果,我们提出,NX和NΓ中心分别来自孤立N中心和N束缚激子分 相似文献