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本文简要报道芯片倒装焊技术中IC芯片金属凸点的一种制作方法;在芯片铝电极上制作了不同薄膜金属化结构的金、铜凸点并对其物理性能界面作了初步分析。 相似文献
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本介绍了目前通常的几种芯片凸点制造方法,其中对焊料合金球凸点,物理化学淀积金属凸点,金丝球焊形成金凸点等作了一些工艺分析和适用分析。 相似文献
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用多种方法制作了Au凸点、Cu/Au凸点、Ni/Au凸点、Cu/Pb-Sn凸点及C4凸点微型Au凸点直径为10μm,间距30μm高度5~8μm,芯片上微凸点近1000个,还对各种不同的制作方法进行了研究,并对芯片凸点的可靠性进行了一定的考核,效果良好。文中给出一组试验芯片的Cu/Pb-Sn凸点可靠性考核数据:经125℃,1000h电老化,其接触电阻变化范围为0.1%~0.7%,经-55℃~+125 相似文献
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简要叙述了IBM公司的倒装片技术,包括凸点形成技术、压焊技术和下填充技术,并展望了倒装片技术的发展前景. 相似文献
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重点介绍采用金丝球焊机制作IC芯片钉头形金凸点的工艺技术、钉头金凸点的整平方法及金凸点抗剪切强度的评价. 相似文献
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本文简要叙述了无铅化立法确定的最后期限、凸点成形工艺、晶圆片凸点成形电镀技术、凸点下金属化及可靠性问题和无铅化材料的发展方向。从而说明,通过漏印板印刷和电镀的晶圆片凸点形成技术事例,证明可靠的无铅化技术是适合的。 相似文献
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圆片级封装的无铅焊料凸点制作技术研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对圆片级封装(WLP)的结构设计和关键工艺技术进行了研究;描述了凸点下金属(UBM)层的选择,凸点回流技术,以及凸点的质量控制技术;重点阐述了采用电镀制作无铅焊料凸点的方法. 相似文献
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清洁生产技术越来越受到重视,我国已经将推进清洁生产提到法律的高度.通过在芯片凸点电镀过程中优选电镀液配方及施镀方式,采用等离子清洗技术,优化阴极夹具,改善镀层厚度均匀性等措施,达到提高资源利用率,减少污染物的产生,减轻对人和环境危害的目的. 相似文献
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文章提出了一种在IC芯片的一个I/O端制作多个金球凸点的倒装片IC焊盘设计和金球凸点芯片制作的方法。在一个I/O端制作多个金球凸点,在芯片安装时可以提高芯片安装的机械强度,进而提高芯片安装的可靠性。多焊盘芯片也可用于制作KGD。 相似文献