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为了研究温度变化对温室气体及碳同位素比值光谱定量分析的影响,首先从理论上分析得出温室气体浓度及13CO2值的定量反演主要取决于吸收系数,并研究了吸收系数的计算方法.其次结合HITRAN数据库,研究了温度对线强、展宽以及吸收系数的影响规律,结果表明:压强为1 atm(1 atm=1.013105 Pa)恒定条件下,温度变化时,吸收系数受线强变化的影响强于受展宽变化的影响.最后通过实验验证了温室气体和碳同位素比值傅里叶变换红外光谱(FTIR)反演的温度依赖关系,其中碳同位素比值受温度变化影响幅度最大,单位温度变化对13CO2值的影响为14.37.文中结果为高精度温室气体及碳同位素比值红外光谱监测装置中的温度监控系统设计提供了理论依据. 相似文献
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碳标签在全球的发展 总被引:5,自引:0,他引:5
陈泽勇 《信息技术与标准化》2010,(11)
为积极应对全球气候变化,减少温室气体的排放,一些国家和地区,如英国、美国、日本、中国台湾等对企业和部分产品开始了碳足迹的评价工作,并以碳标签的形式告知消费者产品的碳足迹,使消费者能够直观获取产品的碳足迹信息.中国主要的产品出口国和国际买家已经相继推出碳标签认证,这很可能成为一种新的技术贸易壁垒.对碳标签在全球的发展情况进行了详细介绍并做简要分析,提请企业和相关机构对此加以关注. 相似文献
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半导体代工厂的特气供应系统探讨 总被引:2,自引:1,他引:1
对在半导体晶圆代工厂中应用的特种气体及气体的不同特性进行了分类和讨论,进而对特种气体在晶圆厂的主要供应流程及其要点进行了阐述,并且对在晶圆厂有着重要作用的关键管件及重要设计进行了探讨. 相似文献
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李媛媛 《电信工程技术与标准化》2023,(S1):2-6
国家双碳和东数西算政策双管齐下,对通信行业自身及社会的碳发展均产生了重要影响。本文在阐明国家碳达峰和碳中和具体举措的基础上,对5G快速发展道路上通信行业碳发展进行解析。 相似文献
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全球、区域及城市的碳浓度、碳源汇信息是应对气候变化、达成双碳目标、完善国际谈判、支持治理政策制定与执行的重要依据。国际认可的“自上而下” 方法将卫星观测作为基础的通量计算技术, 是验证温室气体排放清单的重要手段。系统介绍了温室气体的卫星探测载荷原理、类别和发展, 以及反演、估算CO2、CH4 和N2O 的浓度和排放通量的方法, 还有探测缺失和误差存在的影响因素等; 分析了对卫星探测温室气体能力提高的迫切需求, 浓度反演和排放量估算精度不足, 以及N2O、氟化物等其他温室气体遥感研究缺乏、地基遥感验证能力薄弱等问题; 最后总结了我国温室气体卫星遥感技术的发展趋势, 主要是面向主被动高时空分辨率卫星的研制应用、高精度多尺度排放量估算(特别针对城市、小区域和点源尺度)、氟化物遥感评估等主题, 以加强对碳排放的量化观测, 并增强对碳循环的理解, 提高感知和应对气候变化的能力。 相似文献
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泰科电子Raychem电路保护部宣布,电路保护产品系列新增了气体放电管(GDT)。为满足客户对其业界领先产品日益增长的需求,泰科Raychem电路保护部不断扩展电路保护产品线。新增的气体放电管主要针对电信设备和浪涌保护模块,以及工业、商业、消费类和汽车电子等领域,此举进一步巩固 相似文献
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本文以甲苯为工作气体,先用高频辉光放电等离子体CVD方法制备出类金刚石碳膜,研究了它的光吸收和红外增透性,以及在Si、Ge等红外元件上作为减反射膜的应用。 相似文献
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在透射电子显微镜(TEM)中,电子束会引起碳污染,为了研究纳米晶体在TEM表征过程中碳污染问题的解决方案,选取油胺中合成的Au2Bi纳米晶体,分别用超薄碳膜和超薄双联碳膜制备样品,并用TEM进行表征。研究结果表明,利用超薄双联碳膜制备样品,明显降低了纳米晶体的碳污染现象,大大提高了电子显微镜图像的质量。同时,从碳污染形成的原理方面,分析了超薄双联碳膜能够缓解碳污染产生的原因,是因为两层碳膜将样品固定在一起,可以有效阻止有机配体的扩散。这种有效且简便的方法有助于TEM研究受配体诱导污染的纳米晶体材料。 相似文献
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对应用于抗坏血酸、尿酸和多巴胺同时检测的碳纳米材料和电化学方法进行了简单阐述,重点从不同碳纳米材料的物理化学特性介绍了其在电化学传感器构建中发挥材料自身优势促进生物分子在传感器表面被灵敏准确识别的传感方法。总结了近年来基于石墨烯、碳纳米管、碳纳米纤维、纳米多孔碳和氮掺杂碳纳米材料等碳纳米材料构建传感器应用于三种生物分子同时检测的研究进展;分析了当前电化学传感器构建的不足及面临的挑战,并对今后电化学领域应用于生物活性分子快速检测的研究方向进行了展望。 相似文献
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本文先从特种气体在半导体晶圆代工厂的应用及气体的不同特性进行了分类和讨论,进而对特种气体在晶圆厂的主要供应流程及其要点进行了较具体阐述,并且对在晶圆厂有着重要作用的关键管件及设计要点进行了探讨,以便读者对整个特种气体供应系统在晶圆代工厂的储存、输送与控制等有较为清楚的了解。 相似文献
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半导体业界传统采用C2F6和CF4之类的全氟化碳(PFC)气体清洁化学气相沉积(CVD)腔体这种气体在工艺腔的等离子体区分解,生成高活性氟原子团,与腔壁和设备其他部位的工艺沉积物发生反应,形成不稳定的氟化气体,随后被抽走。只有小部分的清洁气体(一般约为30%)真正参与了腔体清洁反应,其他气体仅仅只是通过排气装置——排人大气中。但已有大量文献可以证明C2F6和CF4具有全球变暖效应。 相似文献