取向硅钢高张力涂层制备技术进展

对取向硅钢高张力涂层开发的技术原理和进展情况进行了介绍,重点对化学气相沉积法和溶胶—凝胶法制备取向硅钢高张力涂层技术难点和商业化前景进行了论述。化学气相沉积法和溶胶—凝胶法成功解决了在镜面取向硅钢表面制备同时具有良好附着性和高张力效果涂层的技术难题,近年来受到了钢铁企业的重视和广泛的研究。化学气相沉积法制备TiN涂层和溶胶—凝胶法制备B2O3-Al2O3涂层工艺在镜面取向硅钢产品上具有商业化应用前景,代表了未来高张力涂层的发展方向。     

刀具涂层技术的研究现状和发展趋势

结合近年来刀具涂层技术的发展状况,介绍了各种刀具涂层材料,结构以及制备方法。将涂层材料分为硬涂层与软涂层进行了介绍。综述了各种涂层结构。刀具涂层的制备方法包括化学气相沉积法（CVD）、物理气相沉积法（PVD）、等离子体化学气相沉积法（PCVD）和溶胶-凝胶法（Sol-Gel）等。介绍了刀具涂层工艺的研究现状,并对刀具涂层的发展方向进行了探讨。     

热解碳沉积温度对增强石墨力学性能的影响

采用化学气相沉积增密技术制备热解碳增强普通石墨材料。研究沉积温度对增强石墨力学性能的影响,并探讨热解碳增强普通石墨材料的沉积机理。结果表明:随沉积温度升高,增强石墨的抗弯强度提高,在1 600℃沉积时达到最大值39.33 MPa,比石墨基体提高21.7%。其主要原因是随沉积温度升高,热解沉积由CVI过程变为CVD过程。当温度低于1 600℃时,化学气相渗透过程占主导;温度高于1 600℃后热解碳极易沉积在基体表面,形成热解碳膜,化学气相沉积过程占主导。在1 600℃温度下,其抗弯强度随沉积时间的变化不大,这证明高温下(1 600℃)化学气相沉积主要发生在石墨块体表面。     

锗纳米线的制备与生长机理

介绍了锗纳米线在制备技术、生长机理方面的研究现状与最新进展，主要对溶剂热合成法、化学气相沉积（CVD）法、模板法和激光烧蚀法等制备方法和金属催化气-液-固（VLS）生长机理、氧化物辅助生长机理等作了较为详尽的论述。     

科技简讯

四川江油核工业八五七厂发挥军工优势,成功地采用国内独特的羰基气相沉积法研制开发出热喷涂(焊)硬面防腐技术的优质新材料——羰基法镍包铝粉。气相沉积法制备各种高技术复合材料,是国际上少数几个发达国家通常采用的一种先进的工艺方法,它被誉为材料科学新的生长点。八五七厂科研人员运用化学气相沉积原理,在国内首创用羰基气相沉积法制备镍包铝双金属粉末,这种镍壳包复粉末具有包复层致密均匀、质量稳定、强度高、活性大、起始反应温度低、流动性好等优点,经全国热喷涂技术协作组检测,该粉末质量在全国     

TiN/TiCN/Al2O3/TiN CVD多层涂层硬质合金的氧化行为

采用高温化学气相沉积(HT-CVD)和中温化学气相沉积(MT-CVD)相结合的复合化学气相沉积新技术在硬质合金基体WC-(W,Ti)C-(Ta,Nb)C-6%Co上分别沉积TiN/TiCN/TiN和TiN/TiCN/Al2O3/TiN涂层,制备TiN/TiCN/TiN和TiN/TiCN/Al2O3/TiN CVD多层涂...     

二氧化钛薄膜制备技术及其光催化性能的应用

二氧化钛薄膜以其优异的光催化性能受到广泛关注。本文介绍了几种常见的制备二氧化钛薄膜的方法(溶胶-凝胶法,物理气相沉积法,化学气相沉积法)以及目前新型的二氧化钛薄膜的制备技术-机械球磨技术。此外,总结了二氧化钛薄膜光催化特性在污水处理、空气净化、杀菌消毒、防雾和自清洁作用方面的应用,并对未来发展进行展望。     

化学气相沉积层的技术和应用

介绍了国内外化学气相沉积技术的研究进展,对化学气相沉积层的类型、性能和应用进行了详细的介绍,并展望了化学气相沉积法的发展趋势。     

涂层刀具的现状研究

随着工业的发展和进步，传统刀具已经不能满足生产加工需求.涂层刀具与传统刀具相比具有更高的耐磨性、硬度以及热稳定性能等优点，因此，涂层刀具不仅提高了刀具加工效率，而且具有更好的加工精度和疲劳寿命.结合近年来刀具涂层技术的发展状况，介绍了“硬”、“软”2大类涂层材料，涂层材料的制备方法以及表面处理方法对涂层刀具切削性能的影响.常用的2种涂层制备方法为物理气相沉积法和化学气相沉积法.并论述了涂层刀具的发展前景.      

钽在集成电路中的应用

介绍了在硅基片上用钽溅射靶溅射沉积和用钽的化合物气相化学沉积钽基膜（金属钽，碳化钽，氮化钽，硅化钽，氮化硅化钽，氮化碳化钽）作为集成电路中防止铜向基片硅中扩散的阻挡层，介绍了钽溅射靶的技术要求，加工方法以及化学气相沉积钽基薄膜的方法。     

6．5％Si钢的制备工艺

6．5％Si高硅钢具有优异的软磁性能,是高频电机铁芯的理想材料。详细介绍了制备6．5％Si钢的轧制工艺、气相沉积工艺和电化学沉积工艺,展望了其发展前景。     

硬质合金刀具涂层的研究进展

随着科学技术的飞速发展，用于机械加工、矿山采掘的硬质合金刀具在不断的更新，刀具涂层技术也在日趋多样化和复杂化，对生产工艺的要求也随之提高.文中介绍了硬质合金刀具涂层的2种主要制备方法即化学气相沉积法（CVD）和物理气相沉积法（PVD）, 简述了刀具涂层即单组分涂层、多组分涂层、多层涂层和梯度涂层的发展，概括了几种新型涂层即金刚石涂层、类金刚石涂层、立方氮化硼涂层和氮化碳涂层，对未来硬质合金刀具涂层的发展方向进行了展望.      

金刚石涂层硬质合金的研究动态(Ⅱ)

介绍了金刚石低压气相沉积薄膜的组织结构与性能、应用前景和市场分析预测 ,以及金刚石低压气相沉积基本原理和工艺方法 ;并着重介绍了近年来国外有关低压气相沉积金刚石涂层硬质合金方面的研究动态。     

超细氧化铝粉末制备技术

系统地介绍了超细氧化铝粉末的各种制备方法,将各种制备技术分别按气相法、液相法、固相法分类。并在其基本原理的基础上,主要介绍了ＣＶＤ法、惰性气体凝聚、硫酸铝铵热解、碳酸铝铵热解有机铝盐及无机铝盐溶胶－凝胶法及机械粉碎等制取超细氧化铝粉末工艺及其优缺点。     

CVD法制备高纯钛中锆杂质的热力学分析

对化学蒸汽沉积法(CVD法)制备高纯钛及制备过程中锆的行为进行热力学分析。结果表明,在钛卤化温度条件下,杂质元素Zr能够在卤化区生成ZrI2、ZrI3和ZrI4,且更倾向于生成ZrI3和ZrI4。ZrI2、ZrI3和ZrI4不能在沉积区温度下分解,高纯钛中的锆不是通过卤化裂解而是由其它途径携入的。     

硬质合金工业的进展(2)

介绍了当前世界硬质合金工业的现状及近十五年来的技术进展。估计现在全世界的硬质合金年产量约为33000t。比十年前增长了约10％。如果不考虑前苏联地区，世界其余地区的年增长率近十年约为2．4％。介绍了瑞典山特维克（Sandvik)公司，美国肯纳金属（Kennametal)公司，以色列依斯卡（Iscar)公司及日本硬质合金工业概况。较为详细地介绍了近十五年来粉末原料制取工艺，超细硬质合金，梯度组织硬质合金，表面涂层工艺（CVD和PVD），成形工艺及生产过程自动化第六方面工业生产的技术进展。     

硬质合金工业的进展(1)

介绍了当前世界硬质合金工业的现状及近十五年来的技术进展，估计现在全世界的硬质合金年产量约为33000t。比十年前增长了约10％，如果不考虑前苏联地区，世界其余地区的年增长率近十年约为2．4％，介绍了瑞典山特维克（Sandvik）公司，美国肯纳金属（Kennametal)公司，以色列依期卡（Iscar）公司及日本硬质合金工业概况，较为详细地介绍了近十五年来粉末原料制取工艺，超细硬质合金，梯度组织硬质合金，表面涂层工艺（CVD）和PVD），成形工艺及生产过程自动化等六方面工业生产的技术进展。     

Further molecular characterization and stability of the live oral attenuated cholera vaccine strain CVD103-HgR

Vibrio cholerae CVD103-HgR, the first live attenuated vaccine licensed for human use produced by recombinant DNA technology, was genetically compared to its parent strains 569B and CVD103. The genetic stability for both lyophilized vaccine in final container form and for viable organisms shed from vaccinees was determined. Results obtained lead us to conclude: (i) the genetic composition of the examined genes in CVD103-HgR is identical to that of the parent strains except for the alterations induced; (ii) the level of mercury resistance depends on the orientation of the mer operon within hlyA, with the highest level being observed for the orientation found in CVD103-HgR; (iii) no DNA sequences from plasmids used in construction remain in the genome; (iv) the strain is genetically stable; and (v) both CVD103-HgR and its parent strains contain defective lysogenic prophages. We have further confirmed that a certain amount of restriction fragment length polymorphism (RFLP) exists around the chromosomal ctx locus within V. cholerae strains of the classical biotype (detectable on chromosomal DNA restricted by either HindIII or EcoRI, but not PstI).