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综述了国内外气相缓蚀剂的发展历程,分别回顾了单组份、混合型和低毒高效气相缓蚀剂研究情况,指出混合型气相缓蚀剂是研究开发的重点.详细阐述了环境友好气相缓蚀剂、缓蚀剂基础理论研究以及缓蚀作用的研究方法等方面的研究,这几个方面是气相缓蚀剂研究的发展趋势. 相似文献
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立方氮化硼(c-BN)具有优异的物理和化学性质, 在力学、光学和电子学等方面有着广泛的应用前景. 自上世纪80年代开始, 低压沉积c-BN薄膜的研究迅速发展, 到90年代中期达到高潮, 随后进展缓慢, c-BN薄膜研究转入低潮. 近年来, c-BN薄膜研究在几方面取得了突破, 如获得与衬底粘附良好、厚度超过1μm的c-BN厚膜; 成功实现了c-BN单晶薄膜的异质外延生长; 此外, 在c-BN薄膜力学性质和过渡层微结构研究方面也取得了进展. 本文主要评述最近几年c-BN薄膜研究在以上几方面取得的最新进展. 相似文献
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电磁铆接技术是电磁成形与传统铆接相结合发展起来的一种装配技术,在复合材料结构连接以及大直径难变形铆钉室温铆接方面具有显著优势,具有广阔的应用前景.综述了电磁铆接设备、铆接过程数值仿真技术以及工艺试验3个方面的研究进展,并结合笔者相关研究结果对目前基础研究方面存在的问题进行了简要分析.设备研究方面,重点分析了国内外电磁铆接设备的发展阶段和技术水平,分析表明国外电磁铆接技术仿真较早,而且设备与工艺方法相对比较成熟,而国内研究虽然取得了一定进展,与国外相比仍有很大差距.数值仿真方面,通过对比着重介绍了电磁铆接工艺仿真主流方法的优缺点,可根据自身需求进行选择.工艺试验方面,国内近些年关于该工艺基础研究报道较多,但工艺研究方面无统一的标准和规范,要想使该技术快速得到工程应用仍需长期研究与探索. 相似文献
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翻领成型器研究新进展 总被引:2,自引:1,他引:1
对国内外对翻领成形器的研究作了简要综述.介绍了国内外在翻领成型器的数学模型、截面形式和应用研究等方面的进展.提出了在理论研究和工程应用方面尚未解决的几个问题. 相似文献
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目的 对目前的重组米品质特性及其功能性产品进行总结研究,并针对其相关机理进行汇总讨论,为重组米领域的深层次研究提供参考.方法 主要综述重组米的糊化特性、质构特性、消化特性和老化特性等在机理及相关影响因素方面的研究现状和进展,以及重组米的低GI(血糖生成指数)、低蛋白和营养强化功能性方面的研究现状和进展.结果 目前多数的研究都趋于表面加工技术方面,缺少营养成分对性质的影响方面的研究.目前重组米的制备工艺较为复杂,产量较低,在一定程度上限制了重组米的市场规模.结论 未来可加强对分子层面机理的研究,改善开发重组米的安全性,研制出更健康、更优质、更具市场潜力的产品. 相似文献
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透明导电薄膜已广泛应用于印刷电子领域,传统的透明导电薄膜氧化铟锡(ITO)因其高脆性低柔韧性而不能满足高速发展的柔性电子行业;纳米银线(AgNWs)和石墨烯均具有良好光学性能、导电性能以及机械性能,使其能成为制备透明导电薄膜的理想材料。综述了近年来还原氧化石墨烯(rGO)基AgNWs透明导电薄膜的研究进展。介绍了柔性导电薄膜的关键参数及rGO/AgNWs透明导电薄膜的成膜工艺;归纳了影响rGO/AgNWs透明导电薄膜光电性能的主要因素和相关研究;阐述了rGO/AgNWs透明导电薄膜在印刷电子领域的应用现状,并展望了rGO/AgNWs透明导电薄膜的未来发展趋势。 相似文献
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《Materials Letters》2007,61(19-20):4046-4049
FePt thin films doped with various Ti and Nb concentrations ranging from 2.9 to 9.1 at.% were prepared by r.f. magnetron sputtering. The structural and magnetic properties of Ti- and Nb-doped FePt thin films were investigated. Structural studies revealed that the long range ordering in FePt thin films depends on the doping concentration and annealing temperature of FePt thin films. The addition of Ti and Nb is found to enhance the grain refining in FePt thin films. The effects of doping concentration on the magnetic properties of FePt thin films were studied and discussed. 相似文献
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化学水浴沉积时间对CdS薄膜性质的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响.结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,薄膜结构由立方、六方混合相向立方相转变,(111)方向成为择优生长方向;SEM研究表明,随沉积时间增加,薄膜变致密,薄膜表面出现的白色附着颗粒增多,尺寸增大;沉积时间对薄膜的光学性质也有很大的影响,随着沉积时间的增加薄膜透过率减小,而禁带宽度值增大. 相似文献
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