铝材及铝制品的电解抛光处理（4）

磷酸－铬酸型或磷酸－硫酸－铬酸型电解抛光液含有铬离子，污染环境。全面系统地介绍了中国开发的无铬溶液电解抛光工艺，以及硫酸－铬酸电解液抛光法，高氧酸溶液电解抛光法，硝酸溶液电解抛光法、硫酸溶液电解抛光法、柠檬酸－硫酸溶液电解抛光法，极薄材料除毛刺电解抛光工艺，后者具有效率高、质量优、成本低等优点。     

蛇纹石抛光工艺的研究

以试验为基础研究了蛇纹石的抛光工艺,并对各种抛光条件对表面光泽度的影响进行了探讨。结果表明,选用合适的抛光剂、抛光时间、预加工光泽度、冷却方式及抛光工具材料,光泽度可达90以上。此抛光工艺简单、经济、高效。     

磨料水射流抛光技术的研究现状

磨料水射流抛光是新出现的一种精密加工技术。本文综述了国内外学者对磨料水射流抛光技术的研究情况，介绍了磨料水射流抛光机理和各工艺参数对抛光效果的影响，指出了目前磨料水射流抛光加工中存在的问题。     

模具表面抛光技术的研究进展

论述了模具表面抛光的重要性，介绍了几种不同抛光方法及每种抛光方法的特点，并从不同方面对几种加工方法做出了比较。指出今后模具抛光的发展方向及重点。     

固结磨料研磨与抛光的研究现状与展望

分析了传统游离磨料研磨抛光存在的缺点和固结磨料的研磨抛光的优点;阐述了固结磨料研磨抛光的材料去除机制以及固结磨料研磨盘抛光技术在氮化硅陶瓷加工、半导体制程中的应用;介绍了多种固结磨料研磨盘、抛光垫的制作方法;并展望了固结磨料的研磨抛光的发展趋势。     

材料表面激光抛光技术研究进展∗

抛光技术是现代制造产业的关键技术之一,现代制造工艺的发展对材料抛光精度的要求已经达到了微纳级。 与传统抛光技术相比,激光抛光技术更容易满足工业要求,并且适用于金属、陶瓷、玻璃等多种材料,在抛光加工领域受到了国内外学者的广泛关注。 综述了近年来不同材料激光抛光技术的研究进展;针对激光抛光过程中产生的热应力,分析了工艺参数以及温度变化对激光抛光效果的影响,探讨了新型的激光抛光技术,梳理了将激光抛光与其他抛光技术进行有效复合的方法与观点。 按照不同的材料,归纳了激光抛光技术的作用机理,并阐述了激光抛光技术的优缺点,最后对激光抛光技术的未来发展进行展望。 对于目前激光抛光研究中尚未解决的问题以及未来不同材料的激光抛光技术的研究方向具有指导意义。     

不锈钢的电化学抛光新工艺

概述了电化学抛光的机理,介绍了一种在常温条件下对不锈钢进行电化学抛光的安全、快速、无污染的新工艺,并且讨论了电化学抛光液各组分的作用。     

磁流变抛光技术的研究进展

磁流变抛光技术具有加工面形精度高、表面粗糙度小、加工过程易于控制、表面损伤小、加工过程中不产生新的损伤等优秀特点,因此多应用于加工要求高的精密和超精密领域,最常应用于光学加工方面。综述了磁流变抛光技术材料去除数学模型的建立进展,论证了该模型的正确性,总结出该基本模型具有通用性,模型能够适用于平面和凸球面等形面加工中,此外,对实现计算机控制抛光过程的准确性具有指导意义。概述了磁流变抛光工艺实验进展,总结磁流变抛光影响抛光效果的主要因素是磁场强度和磁场发生装置,在优化工艺参数组合下能够达到纳米级表面,能够消除亚表面损伤,还能够用以加工各种复杂形面等。就目前磁流变抛光技术的发展新方向作以总结,包括集群磁流变抛光技术、组合磁流变抛光技术以及磁流变-超声复合抛光技术,介绍这几种加工方法的工作原理以及能够达到的实验效果。最后对现阶段磁流变抛光技术中存在的问题做出总结,并针对各个问题提出相对应的思考和展望。     

铝材及铝制品的电解抛光处理（Ⅰ）：铝的抛光处理系列文章之六

电解抛光又称电化学抛光，以被抛光的材料或工件为阳极，以溶性金属为阴极，利用直流电在电解液中进行电解的过程，较为详细地论述了电解抛光处理，但此种处理是一种复杂的电化学过程，任一种机理都不能完全解释所有的现象，电解抛光可分为两类，一是在机械抛光后进行，以获得光亮的镜面；另一是取代机械抛光或化学抛光。     

大导程螺纹牙面抛光装置

提出了螺旋压力机螺杆抛光的新工艺,利用新型抛光材料研制大导程传动螺纹牙面抛光装置,解决该类零件多年以来采用手工抛光费工费时,粗糙度差的技术难题,提高了产品精度。     

机器人模具抛光的研究现状与发展趋势

从机器人的本体结构和末端执行器的控制系统、模具抛光的工艺参数、固连于机器人末端的抛光工具和抛光路径规划等几个方面分别阐述了机器人模具抛光的研究现状,并介绍了机器人模具抛光系统的发展趋势。     

寿山石的自动化拖拽抛光研究

针对寿山石表面手工抛光效率低、质量较差等问题，分析5种寿山石的造岩矿物、显微硬度、矿物颗粒大小和致密度等参数，优选不同种类的磨料用拖拽抛光机来对其自动抛光。结果表明:拖拽抛光技术可自动抛光寿山石，寿山石抛光后的表面质量良好。对含较多石英、硬度较大、矿物致密度适中的寿山石，用核桃壳加金刚石的磨料抛光，其表面粗糙度R_a为293和335 nm；对含大量云母、硬度较低、矿物致密度较小的寿山石，用玉米芯加氧化铝的磨料抛光，其表面粗糙度R_a为521 nm；对造岩矿物纯粹、硬度居中、矿物最致密的寿山石，用玉米芯加金刚石的磨料抛光，其表面粗糙度R_a为235和186 nm。      

磨料射流表面抛光研究综述

作为精密超精密光学制造工艺过程中的一个重要环节,各种新型表面抛光方法与工艺始终吸引着科研人员不断深入研究与探索。磨料射流抛光方法为小型复杂零件的表面抛光提供了一个新思路,成为精密超精密光学加工技术的重要组成部分。对磨料射流表面抛光过程中衍生的磨料水射流抛光、磁射流抛光、负压吸流抛光、磨料气射流抛光、冰粒水射流抛光、纳米胶体射流抛光的抛光原理、方法及特点进行了综述,分析了各射流表面抛光技术材料去除的最新发展;从加工原理、磨料选择、抛光精度、数学模型等方面对上述新型射流抛光技术进行深入分析与比较,其中磁射流抛光、纳米胶体射流抛光、磨料水射流抛光的抛光精度较高,可以实现表面粗糙度纳米级的超精密抛光,而磨料气射流抛光、冰粒射流抛光从加工成本上来讲则相对较低。最后,对磨料射流表面抛光在去除函数优化、精度效率的提高、应用范围扩展、在线检测、商业化应用等方面的发展趋势进行了预测。     

碱性无污染铝合金电化学抛光

分析了铝的电化学抛光研究现状，通过在碱性溶液中加入添加剂来抛光铝材，获得了一种抛光效果好、使用周期长、工作环境优的环保型抛光工艺。其工作温度45—50℃、抛光时间15～18min。     

模具抛光的表面层质量

<正> 目前不少工厂在模具生产中仍沿用传统的手工抛光作为最后工序;这样既费工耗时,又难于保证质量,已成为模具生产的薄弱环节。为此,有些工厂分别引进了电动抛光、超声抛光、喷丸抛光、挤压珩磨和电化学——机械抛光等新兴的抛光方法,并已取得了一些经验。由于这些新兴抛光方法的加工机     

硅片化学机械抛光技术的研究进展

随着硅片厚度的增大和芯片厚度的减小，硅片在加工中的材料去除量增大，如何提高其加工效率就成了研究的热点之一。由于化学机械抛光过程复杂，抛光后硅片的质量受到多种因素的影响，主要包括抛光设备的技术参数、耗材(抛光垫和抛光液)的性质和硅片自身在抛光时的接触应力状态等。本文介绍了硅片化学机械抛光技术的研究进展，讨论了影响硅片抛光后表面质量和表面材料去除率的因素，如抛光液、抛光垫、抛光压力等，并对目前用于硅片化学机械抛光的先进设备进行了综述。      

基于磁流变技术的微孔内壁抛光装置研制及性能研究

目的基于磁流变技术研制适用于微孔内壁抛光的装置。方法利用磁流变抛光液的性质,借鉴传统的抛光原理,设计并研制了适用于微孔内壁抛光的抛光装置,并对该装置进行了一系列的性能研究。基于该微孔内壁抛光装置对多孔镍样品及平片硅样品进行了不同条件下的抛光研究,并对抛光结果进行了分析。结果此抛光装置的性能研究结果表明,该装置产生的交变磁场均匀、稳定,符合模拟预期,可用于进一步的样品抛光研究。利用此抛光装置,虽然在多孔镍样品的抛光上没有较为明显的效果,但平片硅样品的粗糙度却由1.24 nm下降至0.56 nm,具有较大改善。在平片硅样品的抛光研究中,进一步发现随着时间的增加,其粗糙度不断下降。结论自行搭建的基于磁流变技术的微孔内壁抛光装置可对平片硅进行抛光。     

铝材及铝制品的电解抛光处理（3）

对磷酸溶液对电解抛光工艺作了全面的阐述，该法是美国巴特尔纪念学院于４０年代初开发的，目前在美国用的较少，但在其它国家仍广为利用，在工业生产中，此法主要有于取代工业纯铝及铝合金在阳极氧化处理前的机械光处理，当前应用磷酸型溶液电解抛光溶液的总酸浓度为５０％￣９５％，抛光溶液粘度对抛光质量有很大影响。     

电解抛光新技术

根据模具抛光要求的日益提高，常规的手工和超声波抛光远跟不上模具行业的需要。研究一种电化学抛光新装备是模具行业的急切需求。     

模具自由曲面抛光过程的分析与研究

针对模具自由曲面抛光中受几何、物理及力学等因素的影响,从抛光工具与自由曲面之间的接触及摩擦角度分析,深入研究自由曲面的抛光机理,并对影响抛光工艺过程的主要因素进行分析,探讨自由曲面抛光过程中获取高质量表面的方法。