28.4nm和30／4nm波段的C／Si多层膜

对于宇宙的探讨,特别是对太阳大气层的研究,用Ｘ射线、极紫外及远紫外波段望远镜来观测。我们报道了一种新的材料组合Ｃ／Ｓｉ用于２８．４ｎｍ（４３．６５ｅｖ）和３０．４ｎｍ（４０．７８ｅＶ）波段的多层膜反射镜,并且用离子束溅射装置制备了正入射条件下的Ｃ／Ｓｉ多层反射镜。同时我们用软Ｘ射线反射计测量了其反射率,在正入射条件下测得最大反射率达１４％（３０．４ｎｍ）     

C/Al软X射线多层膜反射镜的制备与测量

在λ＝ ２８．５ｎｍ 波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／Ａｌ。正入射Ｃ／Ａｌ多层膜在１５．０ｎｍ 附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／Ａｌ多层膜样品,用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得Ｃ／Ａｌ软Ｘ射线多层膜的正入射反射率２２％ ±４％ 。     

8.0nm附近Mo／B4C软X射线多层膜初步研究

介绍研制８．０ｎｍ波长附近正入射Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜的初步研究结果。讨论了包括镀膜材料的选择、多层膜结构设计及多层膜性能模拟计算和用磁控溅射法制备以膜的镀膜工艺等在内的多层膜制备过程，并对制备的软Ｘ射线多层膜进行了结构测试。制备出的Ｍｏ／Ｂ４Ｃ软Ｘ射线多层膜将主要用于Ｘ射线激泖打靶实验中。这是目前国内首次开展的１０．０ｎｍ波长以下实用软Ｘ射线多层膜镜的研究工作。     

18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析

软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段.由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用.本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导.     

C／AI软X射线多层膜反射镜的制备与测量

在λ＝２８．５ｎｍ波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／ＡＩ。正入射Ａ／ＡＩ多层膜在１５．０ｎｍ附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／ＡＩ多层膜样品,用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得Ｃ／ＡＩ软Ｘ射红多层膜的正入以射率２２％±４％。     

18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析

软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段。由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用。本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导。     

采用多层膜偏光器的EUV实验室Farady旋光测量装置

开发了用于实验室的ＥＵＶ（５０～７０ｅＶ）波段的Ｆａｒａｄａｙ 旋光测量装置。其中光源采用了激光等离子体光源。起偏器和检偏器均采用了入射角为准Ｂｒｅｗ ｓｔｅｒ角的反射式Ａｌ／ＹＢ６多层膜。利用４ 块Ｓｍ －Ｃｏ 永久磁铁在被测样品处生成了０．８２Ｔ的磁场。对强磁材料Ｎｉ的Ｍ２,３吸收端进行了Ｆａｒａｄａｙ 旋光测量,测量结果在６５．３ｅＶ处为－ ２．７°／２１ｎｍ 。该结果与我们在同步辐射光源上测量的结果相符合。这是ＥＵＶ 波段首次利用激光等离子体光源成功进行的磁光效应测量实验。     

空间相机SiC反射镜的制作

1　空间相机ＳｉＣ反射镜的要求空间相机反射镜的工作环境复杂 ,和地基条件相差很大 ,其选材必须满足以下要求 :反射镜材料属光学级 ,可以抛光 ,并能够镀高反射率膜层 ;面形精度 (ＲＭＳ)要求达到λ/40～λ/5 0 ;膜层反射率 (λ =0 5～ 0 .9μｍ)要大于 0 .95 ;各向同性 ,尺寸稳定 ;抗辐照 ,在空间辐照条件下反射镜面形不变 ;比刚度大、热变形系数小。表 1是几种代表性反射镜材料的性能参数。从中可见 ,ＳｉＣ是制作空间相机反射镜的理想材料 ,这是因为 :(1)反射镜的径厚比和比刚度成正比 ,而ＳｉＣ的比刚度大于 10 ,因此它能够减小反射镜…     

采用多层膜偏光器的EUV实验室Farady旋光测量装置

开发了用于实验室的ＥＵＶ（５０～７０ｅＶ０波牟Ｆａｒａｄａｙ旋光测量装置。其中光源采用了激光等离子体光源。起偏器检偏器均采用了入射角为准Ｂｒｅｗｓｔｅｒ角的反射式ＡＩ／ＨＢ６多层膜,利用块Ｓｍ－Ｃ０永久磁铁在波测样品处生成了０．８２Ｔ的磁场。对强磁材料ＮＩ和Ｍ２,３吸收端进行了Ｆａｒａｄａｙ旋光测量,测量结果在６５．３ｅＶ处为－２．７０°／２１ｎｍ。该结果与我们在同步辐射光源上测量的结果相符合。这     

工作波长短于10nm的软X射线多层膜

本文对工作波长短于10nm的软X射线多层膜正入射反射镜的国内外现状作了简单的介绍和分析,给出选择多层膜材料的一些原则,并结合本组情况选择了Ru/B₄C、Rh/B₄C和MO/B₄C三种材料组,在波长8.0nm附近设计并计算出多层膜的结构和反射率等性能参数.     

用离子束溅射法制备长波段X射线多层膜

叙述了用离子束溅射镀膜机ＯＸＦＯＲＤ进行Ｘ射线长波段多层膜实验及制备Ｘ射线多层膜光学元件方面的工作。简述离子束溅射镀膜机的工作原理,Ｘ射线多层膜的制备过程,主要工艺参数,以及用Ｘ射线小角衍射仪对制备样品周期结构的检测和用软Ｘ射线反射率计测反射率的部分结果。     

软X射线投影光刻原理装置的设计

首先介绍了投影光刻技术发展的历程、趋势和软X射线投影光刻技术的特性,其次介绍了软X射线投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、镀有多层膜的Schwarzchild微缩投影物镜、涂有光刻胶的硅片及相应的真空系统组成.0.1倍的Schwarzchild微缩投影物镜具有小于0.2μm的分辨率.     

全固态连续波555 nm黄-绿光激光器

报道了全固态连续波555 nm黄-绿光激光器,黄-绿激光分别由Nd:YAG和Nd:YVO₄晶体的946 nm和1342 nm谱线非线性和频产生,两条谱线各自晶体对应的能级跃迁分别为⁴F_3/2-⁴I_9/2和⁴F_3/2-⁴I13/2。实验中采用复合折叠腔结构,利用LBOI类临界位相匹配进行腔内和频,当注入到Nd∶YAG和Nd:YVO₄晶体的泵浦功率分别为12 W和8 W时,获得542 mW的TEM₀₀连续波555 nm黄-绿激光输出,4 h功率稳定度优于±3.7％。实验结果表明,采用Nd:YAG和Nd:YVO₄两种激光晶体进行腔内和频是获得黄-绿激光的高效方法,并可以应用到其它两种激光晶体进行腔内非线性和频,获得更多不同波长的激光输出。     

30.4nm正入射成像系统滤光片的研究

多层膜反射镜在30.4nm正入射望远镜上是主要的反射元件,但是它在紫外、可见和近红外光波段也同样有很高的反射率,因此需要滤光片来消除这些长波辐射。选择合适的滤光片材料和膜层厚度对滤光片的性能起到重要的作用。本文根据原子散射因子,理论计算出几种材料波长和线性吸收系数之间的关系,确认铝是30.4 nm波段滤光片的最好材料;考虑到透过率和膜的强度的需要,确定了滤光片的膜层厚度。改进了现有的由Mcpherson 247掠入射软X射线-真空紫外单色仪和气体空心阴极光源组成的光谱测量装置,使其适合于透过率的测量,并且波长扫描精度为±0.17Å~±0.97Å,又用其对所制备的铝滤光片进行25.6 nm～1000 nm波段的透过率测量,测量结果显示它在30.4 nm 处的透过率为58.85%。为了比较全面地反映它的透过率情况,又测量了它在紫外、可见和近红外波段透过率,测量的透过率接近零,因此证明该滤光片满足30.4 nm成像系统的需要。     

Quantitative Analysis Using Scattered Radiation with WDXRF

Abstract

The coherent and Compton scattered radiation of X‐ray tube target line from the sample, instead of characteristic X‐rays, has been used for the quantitative analysis in wavelength dispersive X‐ray fluorescence (WDXRF) spectrometry. The relationships between the coherent to Compton intensity ratio versus the concentration and mean atomic number were determined experimentally. Also, a comparison of the scattered radiation method and fundamental parameters method, with respect to results, was made.     

Xenon ion laser-induced fluorescence using a visible tunable diode laser near 680 nm

Laser-induced fluorescence (LIF) measurements have been performed for the first time in a low temperature (Te approximately 0.6 eV) Xe plasma using a tunable diode laser in the visible range of wavelengths. The transition in Xe II involved the (3P1)5d[3]7/2 metastable state and the excitation wavelength was found to be 680.570+/-0.001 nm (air). LIF measurements of I 2 in a room temperature iodine gas cell were used to monitor the wavelength of the laser during the measurements.     

68.5 W连续输出1 060 nm波段半导体激光列阵模块

利用InGaAs/InGaAsP应变量子阱外延层材料制作出高功率半导体激光列阵模块。激光芯片宽1 cm,腔长1200 μm,条宽200 μm,填充密度为50%,前后腔面光学膜分别为单层Al₂O₃和Al₂O₃/5(HfO₂/SiO₂)/HfO₂,室温连续输出功率达到68.5 W,器件光谱中心波长为1 059 nm,光谱宽度(FWHM)为9 nm。     

14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备

为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究.首先,在14 nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜.然后,用直流磁控溅射的方法制备Si...