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利用TCAD Sentaurus模拟仿真软件,研究分析了三种不同结构的槽栅型1 200 V SiC MOSFET单粒子响应特性,器件包括传统单沟槽MOSFET、双沟槽MOSFET和非对称沟槽MOSFET结构。仿真结果表明,双沟槽MOSFET的抗单粒子特性优于其它两种结构器件。通过分析可知,双沟槽MOSFET结构的优越性在于有较深的源极深槽结构,有助于快速收集单粒子碰撞过程产生的载流子,从而缓解大量载流子聚集带来的内部电热集中,相比其它两种结构能有效抑制引起单粒子烧毁的反馈机制。 相似文献
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84.
本论文主要分析了SiN4/SiO2叠层栅MOS电容总剂量效应,叠层栅MOS电容中SiO2为20nm,Si3N4厚度分别为40nm和110nm,通过辐照前后电容CV曲线的对比分析,发现CV曲线的正方向漂移主要是由于界面态电荷的作用,同时氧化物俘获电荷也起到一定的作用.同时也发现叠层栅中Si3N4越厚,将产生越多的界面态电荷和氧化物俘获电荷. 相似文献
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The ability of high-voltage power MOSFETs to withstand avalanche events under different temperature conditions are studied by experiment and two-dimensional device simulation.The experiment is performed to investigate dynamic avalanche failure behavior of the domestic power MOSFETs which can occur at the rated maximum operation temperature range(-55 to 150℃).An advanced ISE TCAD two-dimensional mixed mode simulator with thermodynamic non-isothermal model is used to analyze the avalanche failure mechanism.The unclamped inductive switching measurement and simulation results show that the parasitic components and thermal effect inside the device will lead to the deterioration of the avalanche reliability of power MOSFETs with increasing temperature.The main failure mechanism is related to the parasitic bipolar transistor activity during the occurrence of the avalanche behavior. 相似文献
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