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101.
102.
采用磁控溅射法在n型〈111〉晶向的Si衬底上形成了Zr-Si-N薄膜及Cu/Zr-Si-N/Si金属化系统.将Cu/Zr-Si-N/Si金属化系统样品分别在真空及H2/N2(体积比为1∶9)气氛中800℃退火1h.对Zr-Si-N 薄膜和退火后的金属化系统样品进行X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜、薄层电阻率及俄歇电子能谱测试与分析.结果表明,Zr-Si-N阻挡层是以ZrN晶体与非晶相Si3N4或其他Si-N化合物的复合结构形式存在.经过两种气氛退火后的样品均没有发生阻挡层失效,但与真空退火相比,H2/N2退火气氛由于不存在残余O2的作用而表现出较低的Cu膜薄层电阻率及较好的Cu/Zr-Si-N/Si界面状态. 相似文献
103.
本文设计了一种新型硅基MEMS集成光强调制型光波导加速度传感器,在同一 集成了分束器、悬臂梁、质量块、光波导、光探测器等元件,解决了光纤传感器向微型化发展时遇到的装配困难及长期稳定性差等问题,讨论了利用现有工艺在硅基片上实现MEMS集成光波导加速度传感器的可行性。 相似文献
104.
105.
三极碳纳米管场发射显示屏的制作研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用碳纳米管作为阴极材料的场致发射显示屏是一种新型的平板器件。介绍了三极结构碳纳米管场致发射显示屏的工作原理,基本结构以及寻址方式。重点讨论了在制作器件方面所存在的真空封装问题,荧光粉制作问题以及绝缘隔离层问题。在提出一种新型结构栅极制作工艺的基础上,成功地制作了三极碳纳米管场发射显示屏器件。 相似文献
106.
107.
高分子电致变色和电致发光材料应用技术的进展 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了导电高分子材料在电致变色和电致发光方面的应用,综合报道了该科学技术领域国内外的进展状况以及存在的问题,并对电致变色和电致发光机理、材料制备与器件的制作等研究现状作了评述。 相似文献
108.
109.
文章给出了两种优化的4-2压缩器电路结构,一种是选用不同结构的异或门电路对传统的异或门4-2压缩器结构进行优化,另一种是通过单值到双值逻辑的转换用传输门搭建的4-2压缩器电路。基于0.35μm和0.25μm CMOS模型参数的SPICE模拟。对两种4-2压缩器电路的最大延迟,功耗和面积进行了比较。结果表明,和库综合的4-2压缩相比,文章的设计对提高乘法器速度减小面积是有效的。 相似文献
110.