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51.
三级碳纳米管场发射显示屏的制作研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用碳纳米管作为阴极材料的场致发射显示屏是一种新型的平板器件。介绍了三极结构碳纳米管场致发射显示屏的工作原理,基本结构以及寻址方式。重点讨论了在制作器件方面所存在的真空封装问题,荧光粉制作问题以及绝缘隔离层问题,在提出一种新型结构栅极制作工艺的基础上,成功地制作了三极碳纳米管场发射显示屏器件。 相似文献
52.
本文介绍了硅锥阵列场致发射力敏传感器的基本原理和结构以及硅锥工艺,并对这种传感器的力敏相关参数的电特性进行了初步测试,获得了较为理想的结果。 相似文献
53.
54.
55.
Cu/Zr-Si-N/Si金属化系统制备及退火气氛对其热稳定性的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用磁控溅射法在n型〈111〉晶向的Si衬底上形成了Zr-Si-N薄膜及Cu/Zr-Si-N/Si金属化系统.将Cu/Zr-Si-N/Si金属化系统样品分别在真空及H2/N2(体积比为1∶9)气氛中800℃退火1h.对Zr-Si-N薄膜和退火后的金属化系统样品进行X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜、薄层电阻率及俄歇电子能谱测试与分析.结果表明,Zr-Si-N阻挡层是以ZrN晶体与非晶相Si3N4或其他Si-N化合物的复合结构形式存在.经过两种气氛退火后的样品均没有发生阻挡层失效,但与真空退火相比,H2/N2退火气氛由于不存在残余O2的作用而表现出较低的Cu膜薄层电阻率及较好的Cu/Zr-Si-N/Si界面状态. 相似文献
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57.
58.
碳纳米管的分子动力学模拟 总被引:4,自引:0,他引:4
碳纳米管的纳米级尺寸在很大程度上限制了人们对它的了解、测试与观测,严重地影响了它的发展和应用。因此,必须有简单可行的方法来合理计算、测量碳纳米管的各种特性,计算机模拟无疑是研究这种特殊材料的极佳方法。采用分子动力学模拟的方法,来模拟碳纳米管的物理特性。首先模拟了碳纳米管的热稳定性,发现单壁开口碳纳米管的热稳定性将随着管径的增大而变差,同时开口碳纳米管在真空中保持稳定的极限温度在3000K左右。接着模拟了两根开口碳纳米管的碰撞过程以及成键情况,模拟结果表明在开口端的碳原子非常活跃,极易与其它活性原子成键并且形成新的分子结构,这预示了只要使用一些简单的切割和组合就可以用碳纳米管组成纳微机械;最后对碳纳米管轴承结构的研究显示出碳纳米管之间仅仅存在很小的范德华力,这种独特的特性预示着碳纳米管构成的纳微机械会有卓越的机械特性。 相似文献
59.
现代交流传动控制技术的回顾与展望 总被引:4,自引:0,他引:4
本文简述了交流传动控制的发展历程、相关电力电子器件发展的密切关系及今后的发展趋势。 相似文献
60.
1引言在21世纪信息化时代的今天,人们已进入了数字时代。计算机内部核心以0与1格式的运算速度伴随着半导体技术的进步,现已达到每秒千兆位以上。相比之下,相对于数字的模拟技术,甚至会有“模拟技术迟早会被数字技术取代”的认识,这和模拟技术实际的发展存在很大距离。事实上,在全球以CPU、DRAM为主的半导体产业一度陷入低谷时,模拟器件产业却表现出稳健增长的态势。自1999年起保持以每年19.1%的增长率上扬,市场规模逐年增加。尤其近年来随着信息家电、手机、PDA、网络、LCD显示器等新兴信息产品市场的兴起,为… 相似文献