纯铂在塑性加工过程的微观结构演变及力学性能研究

靶材微观组织均匀性直接影响半导体集成电路溅射薄膜质量。采用金相显微镜、X射线衍射(XRD)和显微硬度计,研究了纯铂单向冷轧及热处理过程中的微观结构演变及力学性能。结果表明,纯铂单向冷轧时随变形量的增加晶粒沿轧向拉长,显微硬度逐渐上升;单向冷轧变形量为80%的纯铂在450℃退火发生再结晶,产生的细小等轴晶平均晶粒尺寸约为41 μm;随着退火温度升高,晶粒尺寸增大,显微硬度降低,纯铂由冷轧态(111)、(220)晶面择优取向过渡为(200)、(311)、(220)晶面择优取向。     

磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展

目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材。重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题。     

锥形转子制动电动机轴向磁拉力测试装置

轴向磁拉力是锥形转子制动电动机的重要性能参数,是进行磁拉力特性曲线试验必须测定的参数之一.介绍了一种轴向磁拉力测试装置,详细阐述了其测试原理、结构组成及测试流程.     

WT1800功率计与KISTLER传感器集成在电机检测系统中的应用

介绍了WT1800功率计与KISTLER转矩转速传感器相结合进行高效超高效电机型式试验的测试,该项技术可以测量转矩、转速、电压、电流、功率等电机特性参数.对试验数据进行线性回归分析,以及进行上位机对测量仪器参数的在线调准.     

渤海L油田厚油层内部水淹分布规律初探

针对L油田单层厚度大且无明显隔层的特点,在综合分析动静态资料的基础上,从储层非均质性、重力作用、隔夹层分布、注采对应率、注采强度等多个影响因素入手,对厚油层的水淹及剩余油分布规律进行了研究,认为该油田剩余油分布主要受储层非均质性及注入水重力作用两大因素影响,注采强度、注采对应率的影响次之,隔夹层分布影响很小;今后对厚油层的开发方式应在细分层系、射孔优化、气水交替驱等方面进一步调整,以水平井开发研究作为重点。     

核子称、灰份监测仪在电厂输煤中的应用

核子称、灰份在线监测仪:是一种非接触式的散装物料在线连续计量和监控装置,是利用物料对γ射线束吸收的原理,对输送机传送的散装物料进行在线连续计量的新一代计量器具。它是利用核探测技术、电子技术和计算机相结合的一种高科技产品,具有计量设备与输送设备不直接接触的特点,可实现多种形式输送机输送物料的在线连续计量和控制。     

浅谈电力企业如何搞好安全管理

"安全"这个词,新华字典的含义是"没有危险、不出事故、不受威胁",每个人对这个词的理解也不尽相同,但是终归一点,无论各行各业以及每个人,都希望在收获利益的同时得到安全。电力行业也不例外,电力行业分为发电和供电两大系统,我所在的企业是集团自备电厂属发电系统,发电厂工种多,求科技含量高,对工人技术水平要求较高,因此在工作中往往因为人的不安全因素造成这样那样的事故。不但影响了个人家庭的幸福还损害了企业的利益。电力安全涉及到各行各业千家万户,安全工作千万不能掉以轻心,它不仅关系到我们个人的安全,也关系到他人的安全。安全是企业之本,是职工最大的福利。我们每个职工上班是来挣钱的,不是来受伤的更不是来送命的。     

对数曲线法求取异步电动机最大和最小转矩

介绍在局限于试验设备容量的情况下,采用对数曲线法求取异步电动机的最大最小转矩的试验方法,详细阐述试验设备及其原理、试验过程及试验内容等,并给出计算实例,具有较好的实用价值。     

抽汽式机组油膜振荡的产生机理及处理措施

某台抽汽式机组在带负荷的过程中突然出现了比较罕见的油膜振荡,并且尚未确定哪些因素激发了本次油膜振荡.为了避免机组在运行过程中再出现油膜振荡,对引起该枫组发生油膜振荡的机理进行了研究.结果表明,一方面,轴承检修过程存在容易引起轴承自激振动故障的缺陷;另一方面,由于转子热态中心与冷态中心之间的区别,在机组投运抽汽的过程中,蒸汽干扰力与轴承本身的缺陷相互耦合导致油膜振荡故障.通过对该轴承的顶隙进行处理,该轴承的振动大幅降低,投抽汽时再也没有出现过油膜自激振动.验证了抽汽产生的蒸汽干扰力和轴承本身稳定性不好是导致该机组出现油膜振荡的两个主要因素,为抽汽式机组的设计、安装和运行提供重要参考.     

Ru非磁性中间层的制备及其结构研究

以不同晶面的Si片作为基底,室温下,采用射频磁控溅射的方法制备得到Ru非磁性薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的结构和形貌.研究不同基底材料对Ru中间层结构和形貌的影响.结果表明:以单晶Si(100)、Si(110)、Si(111)片作为基底制备的Ru薄膜均呈(002)晶面的择优取向生长;Ru-Si(100)、Ru-Si(110)和Ru-Si(111)薄膜表面均由细小的圆形晶粒组成.Si(111)面上生长的Ru薄膜表面颗粒尺寸最小,表面粗糙度最大,有利于磁记录层磁学性能的提高.