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41.
开放式体系结构的数控系统以及高性能多轴控制器是CNC系统的发展方向.文章深入研究了以高处理能力的数字信号处理器(DSP)为核心的多轴控制器的实现方案.文章研究的基于DSP的轴控制器,利用DSP强大的处理能力来实现多轴控制器高精度的、实时加工的处理要求. 相似文献
42.
RTLinux在开放式数控系统中的应用 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了RTLinux在开放式数控系统中的应用。在介绍RTLinux体系结构的基础上,概述了系统的软、硬件结构,并详细阐述了实时模块的实现方式以及实时模块与非实时模块之间的通信机制。实践证明,将RTLinux应用于开放式数控系统满足了实时控制系统对响应的快速性、时间的精确性和控制的可预测性的要求。 相似文献
43.
在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2~3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响. 相似文献
44.
本文介绍一种新的用于硅的各向异性腐蚀液——乙醇胺水溶液。用该种腐蚀液成功地在硅(100)面上腐蚀出了侧壁光滑、钻蚀很小的V形槽,在(110)面上腐蚀出了U形槽。实验表明,这种腐蚀液与目前已报导的三种各向异性腐蚀液相比,具有无毒,无碱金属离子沾污,操作简便及容易控制等优点。实验给出了(100)、(110)、(111)面的腐蚀速率与腐蚀液浓度和腐蚀温度的关系曲线;讨论了最佳腐蚀条件;测定出低指数(100)、(110)和(111)晶面的腐蚀反应表现激活能均为10.7±0.5千卡/克分子。同时也对腐蚀中出现的若干现象进行了分析和讨论。 相似文献
45.
我厂是以铅锌为主的综合性有色金属冶炼企业,铅系统于1959年投产,锌系统于1968年投产,其后根据矿山资源开发情况及国家对铅锌需要量的增加,又进行了扩迠並陆续增添了综合回收工程。设计生产能力为:电铅4,500 相似文献
46.
47.
本文论及整体叶轮压铸模叶片成型面电解加工的工艺性分析,总结了流场设计、加工参数、工艺装备与操作管理等有关技术措施。作者实现了压铸模型面较高尺寸精度与表面粗糙度的稳定加工,为扩展电解加工工艺在压铸模生产领域中的应用作了初次尝试。 相似文献
48.
Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响 总被引:15,自引:6,他引:9
在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2~3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响. 相似文献
49.
报道了分别用三带和全带模型蒙特卡罗方法模拟纤锌矿相GaN体材料输运特性的结果,并对基于两种模型的模拟结果进行了比较.在低场区,基于两种模型获得的输运特性基本相同,但在高场区却表现出明显的差别.这是因为在高场区,电子平均能量较高,多数电子处于能带图中的高能态位置,电子能量与波矢量的关系表现出明显的非椭圆特性.由于三带模型假定了能量与波矢量简单关系,故算得的平均能量,高于由全带蒙特卡罗模拟算得的能量.从而导致其它特性的差别.全带模型包含了基于能带理论算得的能带结构的所有特性,故模拟结果更加精确. 相似文献
50.